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国際特許分類[G01N23/225]の内容

国際特許分類[G01N23/225]に分類される特許

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【課題】高感度検査や高精度計測を行うことが必要な部分領域を、効率的に決定する。
【解決手段】領域決定装置は、試料を検査して得た試料上の欠陥位置あるいは試料上において欠陥が発生する可能性があると予測された欠陥位置を撮像した画像を含む欠陥データの、少なくとも複数種の欠陥属性情報に基づき欠陥の発生度合いを算出する算出部と、発生度合いが所定以上となる欠陥データを抽出し、該抽出された欠陥データから観察または検査を行う試料上の領域を決定する領域決定部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】
虚報を多発させることなく、システマティック欠陥を検出する半導体パターン検査装置を提供する。
【解決手段】
検査対象パターンを撮像して得た画像から抽出した特徴量と設計データから生成した設計データ画像から抽出した検査対象パターンを撮像して得た画像に対応する箇所の特徴量と検査対象パターンを撮像して得た画像と設計データ画像とを用いて作成した教示データの情報を用いて虚報と欠陥とを識別するための識別境界を算出し、検査対象パターンの検査領域を撮像して得た画像から検査対象パターンの検査領域の画像特徴量を算出し、検査対象パターンの検査領域に対応する設計データから設計データ画像を作成してこの作成した設計データ画像の特徴量を算出し、算出した検査対象パターンの検査領域の画像特徴量と設計データ画像の特徴量と識別境界とに基づいて検査対象パターンの検査領域内の欠陥を検出するようにした。 (もっと読む)


【課題】実際の実環境において部材に発生した損傷部について、正確且つ簡略に損傷の原因を検査可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】部材(10)に発生した損傷部(11)を被覆するように樹脂材料(12)を塗布する保護工程と、前記損傷部(11)を切り出すサンプリング工程と、前記樹脂材料(12)が形成された状態で前記損傷部(11)の分析を行う検査工程とを設ける。また、前記保護工程は、前記サンプリング工程の前に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】アルカリ金属イオンの一次イオンビームを用いる二次イオン質量分析において、試料上面へのアルカリ金属化合物の堆積を抑止する。
【解決手段】スパイラル状の走査線21に沿ってスパイラルの最外周を含む第1の走査線分21a上を一次イオンビーム7が走査するときに、二次イオン引出し電極6に対し試料10電位が正電位になるように制御し、第1の走査線分21aよりスパイラルの内側に位置し、かつスパイラルの最内端に至る第2の走査線分21b上を一次イオンビーム7が走査するときに、試料10電位が負電位になるように制御する。 (もっと読む)


【課題】 試料分析方法及び試料分析装置に関し、不安定な中間酸化物を含む酸化膜を表面に有するシリコンを主成分とする基板を酸素一次イオンにより精度良く分析する。
【解決手段】 シリコンを主成分とし、表面に中間酸化物を含む酸化膜を有する被分析試料の表面に90eV以下のエネルギー範囲で酸素イオンを供給して前記中間酸化物を含む酸化膜を改質させる前処理工程と、前記前処理工程の後に、二次イオン質量分析を行う工程とを設ける。 (もっと読む)


【課題】複数種の構成材料を含む試料中の特定の構成材料を精度よく識別する識別する方法、および特定の構成材料の成分を分析する分析方法を提供する。
【解決手段】複数種の構成材料を含む試料から、変質する温度が既知である特定の構成材料を識別する方法であって、試料の表面を複数の小区画に区分し、各小区画に放射線を照射して、試料より発生する信号によって、特定の構成材料に含まれる元素の各小区画における濃度を測定する第一測定工程と、特定の構成材料が変質する温度で試料の表面を加熱する加熱工程と、加熱後の試料の各小区画に放射線を照射して、試料より発生する信号によって、元素の各小区画における濃度を測定する第二測定工程と、各小区画における元素について、第一測定工程で測定した濃度と、第二測定工程で測定した濃度とを比較して、濃度の変化率が所定の率である小区画を特定の構成材料であると判定する判定工程とを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】未知の組成/幾何学形状を含む試料での用途に適し、かつ、測定データの自動デコンボリューション及び表面下の像の自動生成を可能にする荷電粒子顕微鏡による可視化法を提供する。
【解決手段】複数(N)の測定期間中に荷電粒子のプローブビームを試料の表面に照射する手順であって、各測定期間は、対応するビームパラメータ(P)の値を有し、値は、ある範囲から選ばれて、かつ異なる測定期間の間で異なる。各測定期間中に試料によって放出される誘導放射線を検出する手順、測定量(M)と各測定期間とを関連付ける手順、各測定期間での測定量(M)の値を記録することで、データ対{Pn,Mn}(1≦n≦N)からなるデータ組(S)をまとめることを可能にする手順を有する。データ組(S)を自動的に処理するのに数学的手法が用いられる。 (もっと読む)


【課題】FEMウェーハを自動測長する場合、測長対象の大きさは登録時と異なっていることが多いだけでなく、測長対象のパターンも崩れていることが多い。このため、測長の可否を自動的に判断することが困難である。
【解決手段】半導体検査システムにおいて、(1) 参照画像から算出される距離画像を利用し、検査画像の輪郭線の位置を特定する処理、(2) 特定された距離画像に対する輪郭線の位置に基づいて欠陥大きさ画像を算出し、当該欠陥大きさ画像から欠陥候補を検出する処理、(3-1) 欠陥候補が検出された場合、検出された欠陥候補の大きさを算出する処理、又は(3-2) 第1及び第2の輪郭線の相違部分を欠陥候補として検出する処理を実行する。 (もっと読む)


【課題】回路設計データを用いた半導体ウェーハ上の欠陥を自動的に検出し、欠陥発生原因の推定を行う半導体欠陥検査装置ならびにその方法を提供する。
【解決手段】回路設計データ1160から検査対象回路パターンと比較するために,欠陥発生要因毎に定められた形状変形項目について設計データに変形を加え,複数の形状を作成する(1192)。作成された形状群302と実パターンの比較により欠陥を検出する。また、それらの欠陥の発生原因を推定し,原因別に欠陥を分類する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、試料に関する情報をより迅速に取得する方法及び装置を供することである。
【解決手段】 様々な種類の情報を取得する複数の検出器からの情報が結合されることで、試料の1つ以上の特性が、単一の種類の検出器からの単一の種類の情報を用いるよりも効率的に決定される。一部の実施例では、情報は様々な検出器から同時に収集される。それによりデータ取得時間が顕著に減少しうる。一部の実施例では、試料上の各異なる点からの情報は、第1型の検出器からの情報に基づいてまとめられ、かつ、これらの点に関連する第2型の検出器からの情報が結合される。それにより、前記第1型の検出器によって決定された共通の組成を有する領域の1つのスペクトルが前記第2型の検出器から生成される。一部の実施例では、データ収集は適合可能である。つまりデータは、所望の特性を所望の信頼性で決定されるのに十分なデータが収集されたか否かを判断するため、収集中に解析される。 (もっと読む)


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