国際特許分類[G02B1/00]の内容
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結晶,例.岩塩,半導体,で作られたもの (563)
有機物質,例.合成樹脂,で作られたもの (1,930)
透明セルの中の流体で作られたもの (60)
偏光物質で作られたもの (56)
光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング (5,451)
国際特許分類[G02B1/00]に分類される特許
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フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法
【課題】 揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 リン成分をP5+に換算して3カチオン%超30カチオン%以下含み、核磁気共鳴スペクトルにおける31Pの基準周波数近傍に生じる共鳴ピークの強度I(0)に対する前記共鳴ピークの一次のサイドバンドピークの強度I(1)の比I(1)/I(0)が0.08以下であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。
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フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】 フツリン酸ガラス固有の揮発性と侵蝕性を抑制するとともに、フィーダー外周へのガラス融液の濡れ上がりも抑制することにより、高品質のフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれる1種以上のハロゲン元素を含み、P5+の含有量に対するO2−の含有量のモル比O2−/P5+が3.5以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。
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酸化チタンゾル、それを用いた樹脂組成物、光学材料および光学素子
【課題】酸化チタン微粒子が溶媒中に分散した散乱の低い酸化チタンゾル及びそれを用いた光学材料を提供する。
【解決手段】少なくとも平均一次粒子径が3nm以上50nm以下の酸化チタン微粒子、下記一般式(1)で表される化合物からなるチタネート系表面処理剤、ポリエーテル系分散剤およびアルコール系溶媒を含有する酸化チタンゾル。前記酸化チタンゾルと、樹脂を含有する光学材料。
(式中、R1はメチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す。Xは−O−SO2−R2、−O−P(OH)O−O−PHO−O−R2を表す。R2は炭素数1から16のアルキル基またはアリール基を表す。mは1以上3以下、nは1以上3以下の数値を表す。但し、m+n=4である。)
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フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法
【課題】揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 リン成分をP5+に換算して30〜50カチオン%含み、核磁気共鳴スペクトルにおける31Pの基準周波数近傍に生じる共鳴スペクトルの形状がガウス関数形状であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。
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無鉛低融点ガラス
【課題】実質的にPbOを含有せず、P2O5系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定な無鉛低融点ガラスを提供すること
【解決手段】実質的にPbOを含有せず、モル%で表して、P2O5を25〜40、ZnOを15〜50、Na2Oを15〜45、(Li2O+K2O)を0〜30、Al2O3を0.1〜10、含むことを特徴とするP2O5−ZnO−Na2O−Al2O3系無鉛低融点ガラス。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%で、P2O5成分を25.0〜60.0%、Nb2O5成分を5.0〜35.0%、TiO2成分を0〜30.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.0034×νd+0.70300)の関係を満たす光学ガラス。
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不燃透光板及びその製造方法
【課題】不燃性、透光性、成形性の高い不燃透光板及びその製造方法を簡易な構成で安価に提供する。
【解決手段】不燃性及び透光性を有する不燃透光板であって、ガラス繊維部材1aの表面に透光性を有する無機質部材1bがコーティングされてなることを特徴とする不燃透光板。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%で、P2O5成分を10.0〜40.0%、Nb2O5成分を10.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.0034×νd+0.70300)の関係を満たす光学ガラス。
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硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法
【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、EUVリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるEUVリソグラフィ用フォトマスク基板等のEUVリソグラフィ用光学部材を提供することができる。
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光学ガラス
【課題】低いガラス転移温度(Tg)及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率(nd)が1.75〜1.85、アッベ数(νd)が35〜45の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO2、B2O3、を含有し、B2O3の含有量は22質量%以下であり、かつ、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5、WO3、からなる群より選択される1種以上の成分を含有し、さらに10質量%以下のGd2O3を含有し、ガラス転移点(Tg)が580℃以下、表面法耐候性が級1または級2であることを特徴とする光学ガラス。
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