国際特許分類[G02B1/00]の内容
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結晶,例.岩塩,半導体,で作られたもの (563)
有機物質,例.合成樹脂,で作られたもの (1,930)
透明セルの中の流体で作られたもの (60)
偏光物質で作られたもの (56)
光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング (5,451)
国際特許分類[G02B1/00]に分類される特許
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透明微小球
【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78以上、アッベ数(νd)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO2、Nb2O5を含有し、質量%の比率でNb2O5が40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でK2Oが2%未満、TiO2/(ZrO2+Nb2O5)が0.32未満、かつSiO2、B2O3、TiO2、ZrO2、Nb2O5、WO3、ZnO、SrO、Li2O、Na2Oの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。
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電磁波素子
【課題】単純な構成で、波長の大きく異なる複数の帯域の電磁波に対して収差の影響を低減した電磁波素子を提供する。
【解決手段】電磁波素子を、第1の誘電体1中に前記第1の誘電体1とは誘電率の異なる第2の誘電体2を分散させて複合誘電体で構成する。電磁波素子は、所定の第1の波長の電磁波および前記第1の波長よりも長い所定の第2の波長の電磁波に対して略等しい有効誘電率を有し、第2の誘電体2の平均的な粒径および平均的な間隔は、第1の波長よりも小さい。
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ガラス光学素子の製造方法
【課題】成形性の悪い光学ガラス材料を用いてレンズを成形する場合であっても、芯取りなどの取付用基準面の加工が簡単にできるようにする。
【解決手段】光学素材20より加工性の良いガラス材料でリング状に形成されたフランジ部材31が光学素材20を囲むように一対の金型12,13の間に配置され、加圧によって光学素材20の外周縁がフランジ部材31の内周面に密着結合して一体化したフランジ付きのレンズを成形する。成形されたフランジ付きのレンズを冷却した後に金型12,13の間から取り出して、フランジ部(一体化されたフランジ部材31)を切削加工して該フランジ部に位置決め用基準面を形成する。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有する高屈折率低分散光学ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、SiO2 0.1〜40%、B2O3 10〜50%、ZnO 0.5〜22%、La2O3 5〜50%、Gd2O3 0.1〜25%、Y2O3 0.1〜20%、ZrO2 0〜25%、TiO2 0〜25%、Nb2O5 0〜20%、Ta2O5 0〜7%、WO3 0.1%を超え20%以下、を含み、B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比SiO2/B2O3が1以下であり、屈折率ndが1.86〜1.95、アッベ数νdが(2.36−nd)/0.014以上、38未満、かつガラス転移温度が640℃以上であることを特徴とする光学ガラスである。
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熱間成形品の製造方法、精密プレス成形用プリフォームの製造方法、及び光学素子の製造方法
【課題】ガラス塊の吸着ノズル先端での吸引保持を確実に、かつガラス塊に傷を付けることなく行い熱間成形品(熔融ガラス塊)を製造する方法、この方法で得た熱間成形品を加工して精密プレス成形用プリフォームを製造する方法、前記方法で得たプリフォームを精密プレス成形して光学素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】下型に受け取られた熔融ガラス塊を下型上で風圧を加えて浮上させながら、下型の移動中に冷却して所定粘度に調整し、所定粘度に調整した下型上のガラス塊を、定位置で上型を用いてプレス成形し、その後、さらにプレス成形品を下型上で、下型の移動中に冷却し、プレス成形品を定位置で下型から取り出す、熱間成形品の製造方法。下型からの取り出しの前に、成形品を下型の成形面上の所定位置に非接触で位置合せし、位置合せした後に取り出しを行う。この方法により作製したプリフォームを精密プレス成形する光学素子の製造方法。
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光学素子及びその製造方法
【課題】環境耐久性の悪いリン酸ガラス等を使用した光学素子であっても、実用に耐える環境耐久性を持つことを可能とするガラス製光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】芯ガラス2の光学機能面表面に光学機能膜3が形成されたリン酸ガラス又はフツリン酸ガラスからなる光学素子であって、光学機能膜3が形成されていない光学素子の側面のガラス表面が、ポリエステルを主成分とする耐水性塗膜4で被覆されてなる光学素子1及びその製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+WO3+Nb2O5)が0.1〜30.0%である。
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電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラス基板の表面の活性化に伴う電子機器用カバーガラスのガラス基板の強度低下の抑制方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有するガラス基板の表面近傍において、前記金属酸化物の金属イオンαを、前記金属イオンαよりもイオン半径が大きい金属イオンβで置換する置換工程と、前記置換工程により前記ガラス基板の表面近傍に形成された化学強化層に対し、前記置換工程後、表面失活用イオンγの注入処理を施す注入工程と、を有し、前記化学強化層内では、前記ガラス基板における主表面からの厚さ方向の距離とイオン濃度との関係において、前記表面失活用イオンγのイオン濃度を、前記金属イオンβのイオン濃度以下とする。
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