説明

国際特許分類[G02B1/02]の内容

物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光学要素,光学系,または光学装置 (130,785) | 使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング (8,817) | 結晶,例.岩塩,半導体,で作られたもの (563)

国際特許分類[G02B1/02]に分類される特許

101 - 110 / 563



Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_ipc_list.php on line 285


Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_ipc_list.php on line 285

【課題】基材表面に形成された微細凹凸部に対する干渉等による破損を防止しつつ反射防止機能等の光学性能の向上を図る。
【解決手段】光学素子10の基材表面に多数の凹部17及び凸部18を有する微細凹凸部16が形成され、凸部18は連続的に連なって形成されている。そして、微細凹凸部16を、平面視隣接する凹部17の中心を通る直線で凹凸方向に切断したときに、隣接する凹部17の凹部中心間距離aの最大値が可視光波長よりも小さく、かつ凹部深さdの1/2位置での凸部幅bが、凹部深さdの1/2位置での凹部幅cの最小値よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】優れた反射防止効果を有する光学素子を提供する。
【解決手段】反射防止機能を有する光学素子は、第1の主面および第2の主面を有する基体と、反射の低減を目的とする光の波長以下の微細ピッチで第1の主面に配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と、第2の主面に形成された光吸収層とを備える。構造体は、基体の第1の主面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成する。構造体は、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円錐または楕円錐台形状である。 (もっと読む)



Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_ipc_list.php on line 285

本発明は、コリメータレンズ(13)および集束レンズ(14)を含み、コリメータレンズ(13)および充足レンズ(14)がZnSからなるとともに少なくとも5mmの周辺厚さを有する、レーザービームを集束させるためのヘッドに関する。さらに、40から50°の入射角(α)にて作用する折り畳み反射鏡(15)が前記集束ヘッド内のレーザービームの経路における、コリメーティングレンズ(13)と集束レンズ(14)との間に設けられる。本発明はさらに:、1.06から1.10μmの波長および0.1から25kWの出力を有する固体レーザー(SL)装置と、本発明に係る集束ヘッドと、そして、固体レーザー(SL)装置から集束ヘッドにレーザービームを伝達するように、固体レーザー(SL)装置を集束ヘッドに接続する伝達ファイバー(CF)を備えるレーザービーム切削機器に関する。
(もっと読む)


【課題】 10nm以下程度というナノオーダーレベルで結晶子径が異なる微小なリン酸イッテルビウム微粒子を効率よく作り分けるための新規な製造方法を提供すること。
【解決手段】 無水ハロゲン化イッテルビウムに、リン酸と水とを添加することで、前記無水ハロゲン化イッテルビウムと前記リン酸とを反応させる工程を有することを特徴とするリン酸イッテルビウム微粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来の粉末焼成プロセスによって作製された光反射基材のように製造プロセスが煩雑ではなく、当該光反射基材より高い光反射率を有し、かつ大面積の光反射基材用途にも対応可能な光反射基材を提供する。
【解決手段】バルク状ガラスを結晶化させてなり、屈折率が1.7以上の析出結晶を含有する結晶化ガラスからなる光反射基材であって、波長400〜800nmにおける平均光反射率が90%以上であることを特徴とする光反射基材。 (もっと読む)


【課題】従来の光反射材料より高い光反射率を有する光反射材料およびそれを用いた発光デバイスを提供する。
【解決手段】ガラスを含有する無機化合物粉末の焼結体からなる光反射材料であって、Tiを含む酸化物結晶がガラス内部に析出してなることを特徴とする光反射材料。 (もっと読む)


【課題】光分解による自己浄化能を有し、超親水又は超撥水反射防止能を有する機能性表面の製造方法を提供する。
【解決手段】下記、a)〜e)の段階を含む方法により機能性表面を製造する。a)透明基材の一表面に球形状を有する複数個のビーズを単一層で配列する段階S10,70、b)前記複数個のビーズをエッチングして各ビーズ間の一定の離隔距離を形成する段階S20,80、c)前記一定の離隔距離を有する複数個のビーズをエッチングマスクとして前記基材をエッチングし、前記基材の一表面に表面凸凹を形成する段階S30,90、d)前記基材の一表面から前記複数個のビーズを除去する段階S40,100、e)前記表面凸凹が形成された基材の一表面に光触媒、又は表面張力が18〜28N/m範囲内の値を有する化合物層を形成する段階S50,110 (もっと読む)


101 - 110 / 563