【課題】簡便で短時間で描画することができ、且つ、微細で滑らかな３次元形状の反射防止構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に遮光膜を形成し、遮光膜上に炭素原子よりも原子量の大きな元素を添加した炭素を主成分とするレジストを電子線露光よりパターン形成して、
原子量の大きな元素は原子量４５以上の元素であり、原子量４５以上の元素は、チタン（Ｔｉ）、臭素（Ｂｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、よう素（Ｉ）、バリウム（Ｂａ）のいずれかであることを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面反射を抑制した光吸収構造体を提供する。
【解決手段】所定の波長以上の光反射を抑制する光吸収構造体の製造方法であって、溶媒に不溶の有機樹脂材料中に溶媒に可溶性を有するナノサイズの無機材料微粒子を分散させて複合材料を形成するステップ（Ｓ１０４、Ｓ１０５）と、複合材料を溶媒に浸漬して無機材料微粒子を溶解除去し、所定の光の波長以下のピッチを有する複数の微小凹部を形成するステップ（Ｓ１０７）とを備える。 （もっと読む）

【課題】基材表面に形成された微細凹凸部に対する干渉等による破損を防止しつつ反射防止機能等の光学性能の向上を図る。
【解決手段】光学素子１０の基材表面に多数の凹部１７及び凸部１８を有する微細凹凸部１６が形成され、凸部１８は連続的に連なって形成されている。そして、微細凹凸部１６を、平面視隣接する凹部１７の中心を通る直線で凹凸方向に切断したときに、隣接する凹部１７の凹部中心間距離ａの最大値が可視光波長よりも小さく、かつ凹部深さｄの１／２位置での凸部幅ｂが、凹部深さｄの１／２位置での凹部幅ｃの最小値よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】優れた反射防止効果を有する光学素子を提供する。
【解決手段】反射防止機能を有する光学素子は、第１の主面および第２の主面を有する基体と、反射の低減を目的とする光の波長以下の微細ピッチで第１の主面に配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と、第２の主面に形成された光吸収層とを備える。構造体は、基体の第１の主面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成する。構造体は、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円錐または楕円錐台形状である。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率とともに高い発光効率を有する透光性セラミックを提供する。
【解決手段】 ペロブスカイト型化合物ＡＢＯ₃（ただし、ＡはＢａを含む）を主成分とし、希土類元素Ｒ（ＲはＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂから選ばれる少なくとも一種）を含む組成を有する透光性セラミックであり、希土類元素ＲがＡサイトに含まれる。 （もっと読む）

本発明は、コリメータレンズ（１３）および集束レンズ（１４）を含み、コリメータレンズ（１３）および充足レンズ（１４）がＺｎＳからなるとともに少なくとも５mmの周辺厚さを有する、レーザービームを集束させるためのヘッドに関する。さらに、４０から５０°の入射角（α）にて作用する折り畳み反射鏡（１５）が前記集束ヘッド内のレーザービームの経路における、コリメーティングレンズ（１３）と集束レンズ（１４）との間に設けられる。本発明はさらに：、１.０６から１.１０μｍの波長および０.１から２５kWの出力を有する固体レーザー（ＳＬ）装置と、本発明に係る集束ヘッドと、そして、固体レーザー（ＳＬ）装置から集束ヘッドにレーザービームを伝達するように、固体レーザー（ＳＬ）装置を集束ヘッドに接続する伝達ファイバー（ＣＦ）を備えるレーザービーム切削機器に関する。
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【課題】 １０ｎｍ以下程度というナノオーダーレベルで結晶子径が異なる微小なリン酸イッテルビウム微粒子を効率よく作り分けるための新規な製造方法を提供すること。
【解決手段】 無水ハロゲン化イッテルビウムに、リン酸と水とを添加することで、前記無水ハロゲン化イッテルビウムと前記リン酸とを反応させる工程を有することを特徴とするリン酸イッテルビウム微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の光反射材料より高い光反射率を有する光反射材料およびそれを用いた発光デバイスを提供する。
【解決手段】ガラスを含有する無機化合物粉末の焼結体からなる光反射材料であって、Ｔｉを含む酸化物結晶がガラス内部に析出してなることを特徴とする光反射材料。 （もっと読む）

【課題】光分解による自己浄化能を有し、超親水又は超撥水反射防止能を有する機能性表面の製造方法を提供する。
【解決手段】下記、ａ）〜ｅ）の段階を含む方法により機能性表面を製造する。ａ）透明基材の一表面に球形状を有する複数個のビーズを単一層で配列する段階Ｓ１０，７０、ｂ）前記複数個のビーズをエッチングして各ビーズ間の一定の離隔距離を形成する段階Ｓ２０，８０、ｃ）前記一定の離隔距離を有する複数個のビーズをエッチングマスクとして前記基材をエッチングし、前記基材の一表面に表面凸凹を形成する段階Ｓ３０，９０、ｄ）前記基材の一表面から前記複数個のビーズを除去する段階Ｓ４０，１００、ｅ）前記表面凸凹が形成された基材の一表面に光触媒、又は表面張力が１８〜２８Ｎ／ｍ範囲内の値を有する化合物層を形成する段階Ｓ５０，１１０ （もっと読む）

【課題】従来の粉末焼成プロセスによって作製された光反射基材のように製造プロセスが煩雑ではなく、当該光反射基材より高い光反射率を有し、かつ大面積の光反射基材用途にも対応可能な光反射基材を提供する。
【解決手段】バルク状ガラスを結晶化させてなり、屈折率が１．７以上の析出結晶を含有する結晶化ガラスからなる光反射基材であって、波長４００〜８００ｎｍにおける平均光反射率が９０％以上であることを特徴とする光反射基材。 （もっと読む）