【課題】優れた光学特性を有するミクロ相分離構造体フィルムを容易に得ること。
【解決手段】ミクロ相分離構造体フィルム１０の製造方法は、ブロック共重合体、光重合性モノマー、光重合開始剤及び可塑剤を含有する溶液に光を照射し光重合性モノマーを光重合させて樹脂フィルムを得る工程と、溶媒を樹脂フィルムに染み込ませて可塑剤を樹脂フィルムから除去する工程と、溶媒を樹脂フィルムから除去してフィルム１０を得る工程とを備え、ブロック共重合体が第１のポリマー鎖及び第２のポリマー鎖を有し、樹脂フィルムが、第１のポリマー鎖を含むミクロドメイン１５ａと、第２のポリマー鎖を含むミクロドメイン１５ｂとを含有し、第１のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性が第２のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性よりも高く、空孔１７がミクロドメイン１５ｂよりもミクロドメイン１５ａに選択的に形成される。 （もっと読む）

【課題】 本件発明の課題は、微細凹凸構造体の反射防止性能を向上した上で、耐高温高湿環境性及び耐擦傷性に優れた反射防止光学素子を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、反射防止膜１０を光学素子本体２１の光学面２１ａに設けられる第一の光学薄膜としての下地層１１と、下地層１１の表面に設けられ、凸部１２ｂ間のピッチ幅ｐが入射光波長よりも短くなるように形成された微細凹凸構造体１２から成る微細凹凸構造体層と、当該微細構造体１２の凹部１２ａとの間に空隙１４を設けた状態で凸部１２ｂの先端を被覆する第二の光学薄膜としての被覆層１３とを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】フッ化物結晶母材とは異なる形状を有して光学特性に優れたフッ化物結晶成形体を提供する。
【解決手段】フッ化物結晶成形体からなる光学部材は、１７２ｎｍの波長における厚さ１０ｍｍあたりの光透過率が９０％以上であり、少なくとも一方向の断面の面積が３５０×３５０ｍｍ以上である。また、１４６ｎｍの波長における厚さ１０ｍｍあたりの光透過率が８５％以上である。さらに、１２６ｎｍの波長における厚さ１０ｍｍあたりの光透過率が６５％以上である。 （もっと読む）

【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約３００ｎｍより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるＯＤドープ合成石英ガラスが含まれる。ＯＤドープ合成石英ガラスはＯＨ濃度が同程度の無ＯＤドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ＯＤドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約１９３ｎｍにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 （もっと読む）

【課題】 偏光照明露光装置の偏光材料として要求される結晶性が良く、かつ、光を透過させる主軸方向が＜１００＞方向であるＭｇＦ_２単結晶体からなる光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 チョクラルスキー法でＭｇＦ_２単結晶体を製造するに際し、種結晶体として、＜１００＞軸が、鉛直方向から＜００１＞方向に向かって７°乃至４５°、好ましくは７°乃至１５°傾いた種結晶体を用いる。傾けた種結晶体を用いることにより、育成される単結晶体の軸方向も同じ角度で傾いたものとなるが、このようにして育成された単結晶体の結晶性は、育成方向を＜００１＞軸方向とした場合と遜色ない結晶性を示す。また育成方向を＜００１＞軸方向とした場合に比べて、｛１００｝面からなる平行２面を有する板状体の取得効率がよい。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶構造体、その製造方法、フォトニック結晶構造体を採用した反射型カラーフィルタ及びディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】複数のサイズを有する複数のナノ粒子を含み、ナノ粒子が相互離隔して配されたナノ構造物層と、ナノ構造物層上に位置し、非平坦表面を有し、所定波長の光を反射するように設計されたフォトニック結晶層と、を備えるフォトニック結晶構造体である。 （もっと読む）

【課題】ゲルマニウムの溶融成形方法において、昇温時の温度管理精度を上げ、エネルギーロス、昇温無駄時間を少なくする方法を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気中の成形型の下型又は溶融るつぼ内のゲルマニウム原料を溶融するに充分な融点温度より高い雰囲気温度で加熱し、ゲルマニウム原料を溶融する溶融工程と、溶融したゲルマニウム原料を成形型内に封入する封入工程と、ゲルマニウムが封入された成形型を冷却する工程と、を有するゲルマニウム溶融成形方法において、溶融工程は、下型又はるつぼに設けられたゲルマニウム原料の温度を測定するための温度センサにより、ゲルマニウム原料の温度を測定し、温度センサの温度がゲルマニウム融点温度以上となった後、温度センサの温度が横ばいとなり、さらに、再び温度センサの温度が上昇を開始した時点で、溶融工程を完了する。 （もっと読む）

【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１％以上およびＺｒＯ_２ ０．１％以上を含有することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】成形及び加工が容易で、且つ３Ｄガラスに代わって電子装置の表示パネルとして使用できる透明陶磁体と、該透明陶磁体の製造方法、及び前記透明陶磁体を備えた電子装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る透明陶磁体は、酸化イットリウムと、酸化トリウムと、弗化リチウムと、酸化テルビウムと、を備えている。前記透明陶磁体の前記酸化イットリウムのモル含有量は８５％〜９４．９９％であり、前記酸化トリウムのモル含有量は４．９９％〜１５％であり、前記弗化リチウム及び前記酸化テルビウムのモル含有量は０．００３％〜０．００７％である。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）