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国際特許分類[G02B26/02]の内容

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【課題】レーザダイオードの制御を煩雑にすることなく、被投射面に投射される画像の明度を装置本体の周囲の明るさに応じて適正化できるプロジェクタ装置を提供する。
【解決手段】 プロジェクタ装置10は、3つのレーザダイオードLD1〜LD3から射出され偏向反射器20で偏向された光をスクリーンSの被投射面に投射して画像を表示する装置本体11と、該装置本体11の周囲の明るさを検出する照度センサ16と、該照度センサ16からの検出情報に基づいて、前記光の光路上にフィルタ部材22の一部を位置させて前記光の強度を変更可能な光強度可変装置18とを備えている。 (もっと読む)


【課題】駆動開口と固定開口がどれだけずれているかを検出することができる構造を提供する。
【解決手段】遮光膜12は、表示領域に複数の固定開口を有する。遮光膜12は、周辺領域では、周辺領域のシャッタ40の一部との重複を避けるように形成されたダミー開口24を有する。ダミー開口24の縁は、固定開口の規則性を以て周辺領域に配置すると仮想した固定開口の縁の一部からなるエッジを含む。表示領域のシャッタ40は、第1位置P1で駆動開口42と固定開口が連通して光を通過させ、第2位置P2で駆動開口42と固定開口がずれるように配置されて光を遮断する。複数のシャッタ40が第2位置P2にあるとき、周辺領域の駆動開口42とエッジとの距離dと、表示領域の駆動開口42と固定開口の縁の一部との距離Dとが相間関係を有する。 (もっと読む)


【課題】ドレインアバランシェ効果を抑圧し、信頼性を向上させることが可能となるラッチ回路を提供する。
【解決手段】ゲートに前記走査電圧が入力されたときに、「0」あるいは「1」のデータに対応する電圧を取り込む入力トランジスタと、他端に容量制御信号が入力されるとともに、一端が前記入力トランジスタの第2電極に接続され、前記入力トランジスタで取り込まれた電圧を保持する保持容量と、ゲートが前記入力トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が第1出力端子に接続されるとともに、第1電極に第1ラッチ制御信号が入力される第1導電型の第1トランジスタと、ゲートが前記第1トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が第2出力端子に接続されるとともに、第1電極に第2ラッチ制御信号が入力される第2導電型の第2トランジスタとを備える。 (もっと読む)


【課題】可動シャッタ方式の画像表示装置の利点である高画質性能を維持しながら、画素回路の簡略化による高精細化と高信頼性化を両立させる。
【解決手段】画素回路は、前記可動シャッタに対して対に設けられた第1制御電極と第2制御電極と、前記第1制御電極に前記画像信号に応じた第1制御電圧を入力するための第1制御電圧印加回路とを有し、前記第2制御電極には第2制御電圧が入力され、前記第1制御電圧印加回路は、電流端子の一端が前記信号線に接続され、ゲートが前記走査線に接続される入力トランジスタと、他端に容量制御信号が入力されるとともに、一端が前記入力トランジスタの電流端子の他端に接続され、前記入力トランジスタで取り込んだ電圧を保持する保持容量と、ゲートが前記保持容量の一端に接続され、電流端子の他端が第1制御電極に接続されるとともに、電流端子の一端に第1制御信号が入力される第1トランジスタとを有する。 (もっと読む)


【課題】フィルタの特性を任意に変化することができる光可変フィルタ装置のフィルタ特性制御方法を提供すること。
【解決手段】周波数選択素子は周波数分散方向に配列された画素構造を有する。その制御画素について印加電圧と周波数幅及び印加電圧と減衰率の関係から周波数幅と透過率の関係を示す近似曲線を関数としてあらかじめ算出する。そしてこの関数に基づいて各画素を制御することによって光可変フィルタ装置のフィルタ特性制御方法を制御する。 (もっと読む)


【課題】ブラックマスクが光を吸収し、電力を生成することができる電子装置を提供する。
【解決手段】複数の光学ディスプレイ素子を含む表示領域と、前記表示領域の前記光学ディスプレイ素子間の領域内に堆積され、基板と前記光学ディスプレイ素子との間に配置された光起電性ブラックマスクと、を備えている電子装置であって、前記光起電性ブラックマスクが、光を吸収するように構成された少なくとも1つの層、および電力を生成するように構成された少なくとも1つの層、を備えている電子装置。 (もっと読む)


【課題】視野角特性の問題を解消すること、あるいはシャッタの可動距離の確保を目的とする。
【解決手段】固定開口24は、移動ライン34を挟む両側の領域にそれぞれ配置された第1固定スリット26及び第2固定スリット30を有する。駆動開口38は、移動ライン34を挟む両側にそれぞれ配置された第1駆動スリット42及び第2駆動スリット44を有する。第1固定スリット26及び第1駆動スリット42は、第1ライン28に沿って延びるように形成され、シャッタ36が光を透過する位置にあるときに連通するように配置される。第2固定スリット30及び第2駆動スリット44は、第1ライン28と交差する第2ライン32に沿って延びるように形成され、シャッタ36が光を透過する位置にあるときに連通するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するMEMSデバイス、およびその製造方法。
【解決手段】MEMSデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。1つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および/または移動可能層の使用を通じて得られる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、表面プラズモン・ポラリトン(SPP:surface plasmon polariton)の噴流を変調するための装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 装置は、金属性表面を有する基板と、構造物と、金属性上部表面に対向する誘電物体とを含む。構造物は、金属性表面上を伝播する表面プラズモン・ポラリトンを光学的に生成するように構成される。誘電物体は、金属性表面に沿った、及びその近くの異なる位置のアレイにおいて誘電率の値を調節するように制御可能である。 (もっと読む)


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