【課題】色収差が十分に除去されており、かつ球面収差を制御して集光点を形成できる。
【解決手段】光ビーム拡張レンズ系34と集光レンズ系38とを備える多焦点光学系である。光ビーム拡張レンズ系は、凹レンズ10と分割レンズの組20（20-1〜20-4）との組み合わせレンズ系であり、分割レンズのそれぞれは共軸光学系を構成するように光軸に沿って互いに異なる位置に配置されている。分割レンズの組は光軸に沿って移動させて凹レンズからの距離を調整することが可能とされている。 （もっと読む）

【課題】所定面を均一な照度分布で照明できる照射光を生成できる光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置は、所定面に照射するための照射光を生成する。光源装置は、レーザ光を射出するレーザ光源と、レーザ光源と所定面との間に配置され、レーザ光を回折させる回折光学素子と、レーザ光源と所定面との間に配置され、レーザ光が入射する入射面、及び入射面からのレーザ光が射出する射出面を有し、レーザ光を拡散させる拡散光学素子とを備える。拡散光学素子は、射出面でレーザ光を屈折させることによって拡散させ、射出面は、射出後のレーザ光が再入射しないように、レーザ光の進行方向を制御する形状を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの断面強度分布が均一であり、焦点位置の前後で当該断面強度分布の変化が小さく、長い焦点深度を得ることができるレーザ用光学部品を提供する。
【解決手段】単一または複数の光源から照射されたレーザ光から、第１の焦点面に焦点位置を有する第１次光と、前記第１の焦点面よりも光源から遠い第２の焦点面に焦点位置を有する第２次光とを生成する光生成手段と、この光生成手段により生成された焦点位置が異なる前記第１次光および第２次光を同軸上に重ね合わせて干渉レーザビームとする集光手段とを備えたレーザ用光学部品。前記第１の焦点面と第２の焦点面との間に位置する第３の焦点面において、前記干渉レーザビームの断面強度分布が、ビームの中心軸近傍において実質的に均一な強度分布となる。 （もっと読む）

【課題】加工効率を向上させることができるレーザ加工装置およびレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１では、光源部１０から出力されるレーザ光は、そのビーム断面が光形状整形部２０により一方向に長い形状に整形された後、集光光学系３０により被加工物２に集光される。これにより、該被加工物２においてレーザ光集光位置から上記一方向および集光光学系の光軸の双方に垂直な方向にクラックが生じて被加工物２が加工される。また、移動ステージ４０により被加工物２が移動されて被加工物２が加工されることにより、また更には、移動ステージ４０による被加工物２の移動に応じて光形状整形部２０によるレーザ光のビーム断面形状の整形が制御されることにより、被加工物２に対して様々な形態の加工が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体レーザを用いた光源ユニットとその製造方法およびこれに用いられるビーム整形レンズに関し、光源ユニットの調整作業にかかる時間を短縮することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、基台３と、基台３に配置された半導体レーザ１と、基台３に配置されて半導体レーザ１から出射された楕円光束のアスペクト比を調節するビーム整形レンズ２を備えた光源ユニット４において、ビーム整形レンズ２は、アスペクト比を調節する光学機能部７と、この光学機能部７の外周に設けたフランジ部８を有し、フランジ部８にビーム整形レンズ２の位置合わせ用の補助レンズ９を設けた構成とした。 （もっと読む）

【課題】簡便にパルス光を整形することができるパルス整形装置、パルス整形方法、及びそれを用いた電子銃を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるパルス整形装置は、パルス光の直交する偏光成分間に時間遅延を与える複屈折素子１２３と、複屈折素子１２３からのパルス光のパルス形状を調整する可変ミラー４０と、複屈折素子１２３から出射したパルス光の直交する偏光成分の一方を他方の偏光成分から取り出すＰＢＳ１２５と、可変ミラー４０によりパルス形状を調整するために、ＰＢＳ１２５によって取り出された一方の偏光成分に応じた測定を行うビームモニタ５５と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】高度な技術や多大なコストを要する回折光学素子を用いずに、容易に細い光束を発生させる点光源光学系を提供する。
【解決手段】光源１と、該光源１から放射された光を略平行な光束に変換するコリメートレンズ２と、該コリメートレンズを透過した前記光束を回折する第１の回折機構３と、該第１の回折機構３を通過した前記光束を回折する第２の回折機構６と、該第２の回折機構６を通過した前記光束を回折する第３の回折機構９と、該第３の回折機構を通過した前記光束を回折する第４の回折機構１２と、を有し、前記第１の回折機構３ないし第４の回折機構１２は、入射した光を所定の方向に回折させる回折光学素子５、８、１１、１３と該回折光学素子５、８、１１、１３で回折された前記光束を所定の方向に導く導光部４、７、１０，１４とを備えていることを特徴とする点光源光学系を提供する。 （もっと読む）

【課題】さまざまな装置条件下で、標本に照射する光のパターンやその照射位置を、高い光の利用効率で任意に変更する顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】顕微鏡装置１は、チタンサファイアレーザ２から射出されたレーザ光のビーム径をビーム径可変光学系３で可変して、位相変調型ＳＬＭ５に照射する。さらに、顕微鏡装置１は、対物レンズ１３の瞳共役位置に配置された位相変調型ＳＬＭ５でレーザ光の位相を変調して、対物レンズ１３を介して標本面ＳＰ上にレーザ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】角度操作器の負荷の増大や特性の低下が抑制された光スイッチ装置を提供すること。
【解決手段】複数のポートが所定の配列方向に沿って配列した光入出力ポートと、光入出力ポートのいずれかのポートから入力した光の光路を切り換えて光入出力ポートの他のいずれかのポートに向けて出力する角度操作器と、光入出力ポートと角度操作器との間に配置され、光入出力ポートと角度操作器とを光学的に結合させる集光レンズ系と、光入出力ポートと集光レンズ系との間に配置され、光入出力ポート側から入力された光のビーム形状を光入出力ポートのポート配列方向に対して縮小し、該光の光路を集光レンズ系の光軸に近づけるように変位させて、光入出力ポートにおけるポートの配列間隔よりも、集光レンズ系の角度操作器側の直後での光軸に垂直の平面を通過する光のビームの配列間隔が小さくするアナモルフィック光学系と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表示映像に干渉することなく、スクリーン面の輝度変化や色相変化を正確に検出する投写型表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の投写型表示装置は、光源１０，３０と、照射された光を入力信号に対応して変調するＤＭＤチップ２０と、光源１０，３０からの光をＤＭＤチップ２０に照射する照明光学系と、ＤＭＤチップ２０で変調された光をスクリーン２２に投写する投写レンズ２１と、スクリーン２２のスクリーン面と光学的共役位置近傍であって、光源１０，３０からスクリーン２２に至る主光路の外に分岐した分岐光の光路上に配置された光センサー２４とを備える。 （もっと読む）