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国際特許分類[G02B27/56]の内容

物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光学要素,光学系,または光学装置 (130,785) | 他の光学系;他の光学装置 (7,253) | エバネッセント波,すなわち不均質波を用いた光学系 (1)

国際特許分類[G02B27/56]に分類される特許

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【課題】負屈折率媒質を用いて、物体の拡大像あるいは縮小像を作ることのできる光学系を提供すること。
【解決手段】負屈折を示す媒質301で形成されたレンズ410であって、2つの曲面S1 ,S2を有し、そのうちの一つが回転放物面または回転双曲面または放物線または双曲線である。 (もっと読む)


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