【構成】処理チェンバー１内に被処理ミラー７を配置し、該ミラーの表面にはＲＦプラズマ発生管３中のラジカルを照射する高性能レーザー装置に用いられる超低損失ミラーの再生方法。
【効果】プラズマ内の高エネルギー粒子による損傷が少ない状態で、プラズマ中で発生するラジカルを劣化した高性能レーザー用ミラー表面に照射することができるので、ミラー表層に堆積或は注入された原子・分子を除去して、従来不可能であった100ppm程度の超低損失領域においてもミラーの劣化を回復させることが可能となる。 （もっと読む）

【構成】 樹脂基板の表面上に形成された二酸化ケイ素からなる下地層と、前記下地層上に形成されたアルミニウムからなる反射層と、前記反射層上に形成された二酸化ケイ素からなる第１保護層と、前記第１保護層上に形成された、酸化チタン、酸化タンタルおよび酸化ジルコニウムから選択される少なくとも一種の材料からなる第２保護層と、前記第２保護層上に形成された酸化アルミニウムからなる第３保護層とを有する表面反射鏡。
【効果】 基板に対して圧縮応力を及ぼす二酸化ケイ素からなる下地層を用いているため、高温高湿雰囲気下に放置した場合でも樹脂基板と膜構造との間に点状欠陥が発生することがない。 （もっと読む）

【目的】アルミニウム反射膜を大きな成膜速度で形成することができるスパッタリング成膜法を改良して、ＰＭＭＡ基板の面に対するアルミニウム反射膜の密着力を高くかつ一定に制御する手段を提供する。
【構成】真空中でプラスチックス基板に対向する電極に電力を供給してグロー放電させることにより該基板の表面を改質する第１工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第２工程と、ヘリウム含有不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第３工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第４工程とを順に実施して光学反射膜を形成する。 （もっと読む）

【目的】 反射率を向上させる。
【構成】 耐熱性セラミックス基材１の表面に、ＣＶＤ法によりコーティングされ、上面に研磨を施した所要厚さのＳｉＣ膜３，４を、少なくとも２層積層することにより、下層側のＳｉＣ膜上面の研磨によって、上層側のＳｉＣ膜の結晶の成長や異方性を抑制し、ＳｉＣ膜全体の厚さが厚くなっても欠陥を少なくする。 （もっと読む）