説明

国際特許分類[G02B6/00]の内容

物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光学要素,光学系,または光学装置 (130,785) | ライトガイド;ライトガイドおよびその他の光素子,例.カップリング,からなる装置の構造的細部 (20,148)

国際特許分類[G02B6/00]の下位に属する分類

国際特許分類[G02B6/00]に分類される特許

4,271 - 4,278 / 4,278


【目的】 構造が簡単で容易かつ低価格に製造でき、組立て作業性を簡略化できると共に、反射減衰量の低下がない光固定減衰器用端末部材を提供する。
【構成】 円筒状部材1内に光ファイバを内蔵する光固定減衰器用端末部材であって、前記円筒状部材1はその両端に凸球状の研磨面21を有すると共に、その略中央部に形成された大径の段部3およびこの段部の一部に形成された回転止め部(溝)31を有し、前記光ファイバは遷移金属がドーピングされた高濃度光ファイバ4であることを特徴とする。高濃度光ファイバ4の吸収損失は100000dB/Km以上であり、コバルト、鉄またはニッケルから選ばれた遷移金属がドーピングされいる。 (もっと読む)


【目的】 気密端子部での光透過損失を生ぜず、光軸調整不要な光ファイバ貫通型気密端子を提供する。
【構成】 コアの外周上にクラッドを有する光ファイバの外側に2重の被覆層を具えた光ファイバコードの上記2重の被覆層を除去して露出した光ファイバを金属パイプ内でエポキシ樹脂により接着固定した光ファイバ貫通型気密端子。 (もっと読む)


【構成】 1,4−ビス(3,4−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン二無水物、1,4−ジフルオロピロメリット酸二無水物または1,4−ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物と、テトラフルオロ−1,3−フェニレンジアミン、テトラフルオロ−1,4−フェニレンジアミン、ビス(4−アミノ−テトラフルオロフェニル)エーテルまたはビス(4−アミノ−テトラフルオロフェニル)スルフィドとから全フッ素化ポリアミド酸を合成し、加熱閉環して全フッ素化ポリイミドを得、これを主構成要素とする光学材料とする。1,4−ビス(3,4−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン二無水物等の合成法も示す。
【効果】 全フッ素化ポリイミドは耐熱性を有するとともに1.0〜1.7μmの光通信波長全域で光損失が低い。 (もっと読む)







4,271 - 4,278 / 4,278