国際特許分類[G02F1/13363]の内容
物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器 (92,458) | 独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学 (92,146) | 強度,位相,偏光または色の制御のためのもの (89,922) | 液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル (81,145) | 構造配置;液晶セルの作動;回路配置 (68,793) | 構造配置 (51,675) | セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ (30,003) | 複屈折素子との組合わせ,例.光学補償のためのもの (4,176)
国際特許分類[G02F1/13363]に分類される特許
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光学フィルム、それを含む偏光板および液晶表示装置
【課題】高いリターデーションと、高い耐湿熱特性、脆性を有する光学フィルムの提供。
【解決手段】セルロースエステルと、下式(1)で表される化合物を含有する光学フィルム。[式中、L11は単結合、−NR1−;A11はアリール含有基、ヘテロアリール含有基;L12は単結合、−NR2−等;A12はアリール含有基、ヘテロアリール含有基等;L13は単結合、−NR3−等;A13はアリール含有基、ヘテロアリール含有基等;R1〜R3は水素原子、C1〜6のアルキル基又はアリール基;R12は水素原子、ヒドロキシル基等を示す。]式(1)
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画像表示装置
【課題】 表示画像のカラーブレイクダウンの発生を抑えつつ、コントラストの高い画像を表示すること。
【解決手段】 本発明の画像表示装置は、入射した光の偏光方向を第1偏光方向に揃えて出射する第1の状態と、入射した光の偏光方向を第2偏光方向に揃えて出射する第2の状態を切り替え可能な偏光変換素子と、偏光分離素子と投射光学系との間に配置され、前記偏光分離素子を出射した前記第1偏光方向の光と前記第2偏光方向の光のいずれか一方を前記投射光学系に対して遮光する偏光板と、前記偏光分離素子と前記偏光板との間に配置され、入射した光の偏光方向を回転させる回転状態と、入射した光の偏光方向を回転させない非回転状態を切り替え可能な第1の位相変換素子と、前記偏光変換素子の前記第1の状態と前記第2の状態の切り替えに応じて、前記第1の位相変換素子の前記回転状態と前記非回転状態を切り替える制御手段を有する。
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3Dメガネ用光学シート及び3Dメガネ
【課題】曲面形状等に形成しても、所望の複屈折性が得られるとともに、高い耐久性を有する3Dメガネ用光学シート及びこれを用いた3Dメガネの提供を目的とする。
【解決手段】本発明の3Dメガネ用光学シートは、基材フィルムと、この基材フィルムの裏面側に積層され、平面方向に複屈折性を有する位相差フィルムと、この位相差フィルムの裏面側に積層される偏光板とを備え、上記位相差フィルムが主成分としてシクロオレフィンコポリマー又はシクロオレフィンポリマーを含み、上記基材フィルムの厚みが300μm以上2000μm以下とされている。上記基材フィルムの主成分の光弾性係数の絶対値が、10×10−12Pa−1以下であるとよい。上記基材フィルムの主成分がアクリル樹脂であるとよい。上記基材フィルムの鉛筆硬度がH以上であるとよい。
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ポリビニルアルコール系位相差フィルム
【課題】耐熱性に優れるPVA系位相差フィルムを提供すること。
【解決手段】面内位相差値が70〜400nmであるPVA系位相差フィルムであって、スキン層Aおよびスキン層Bの間にコア層Cが存在する3層構造を有すると共に下記の式(I)〜(IV)を満たすPVA系位相差フィルム。
(I) (dA+dB)/(dA+dB+dC)≦0.3
(II) ΔnA≦6.0×10−2
(III) ΔnB≦6.0×10−2
(IV) ΔnC≦3.0×10−2
〔上記式中、dA、dBおよびdCはそれぞれスキン層A、スキン層Bおよびコア層Cの厚み(μm)を表し、ΔnAはスキン層Aの厚み方向中央部における機械流れ方向と膜厚方向がなす面の複屈折率、ΔnBはスキン層Bの厚み方向中央部における機械流れ方向と膜厚方向がなす面の複屈折率、ΔnCはコア層Cの厚み方向中央部における機械流れ方向と膜厚方向がなす面の複屈折率を表す。〕
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光配向性基板、光学異方体及び液晶表示素子
【課題】 量産性に適した優れた感度、及び、高温下に晒されても液晶配向能が低下しない、すなわち、耐熱性の優れた光配向膜を得る。
【解決手段】 基材上に接触した配向膜を有する基板であって、基材の表面粗さRaと配向膜を形成する分子長の関係がRa≦分子長であり、かつ、配向膜の厚さが8nm以下であることを特徴とする基板を提供する。本発明の基板を用いることで、特にインセル技術を用いた液晶表示素子の製造において、優れた生産性を発揮できる。
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位相差フィルムの製造方法および位相差フィルムロール
【課題】長手方向に対して傾いた遅相軸を有し、従来よりもNZ係数が1に近く、二軸延伸性が弱い(一軸延伸性が強い)帯状の位相差フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の製造方法では、帯状の原フィルムにおける双方の周辺縁部を把持する一対のクリップ群と、延伸ゾーンを有する加熱延伸装置とを用いる。ここで、クリップ群が原フィルムを把持する際に、一対のクリップ群の走行速度は互いに等しい。延伸ゾーンは、当該ゾーンに走行移動してきた一方のクリップ群の走行速度を順に減少させる第1の区間と、第1の区間より後に、第1の区間を経て走行移動してきた上記一方のクリップ群の走行速度を順に回復させる第2の区間とを有する。
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光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置
【課題】液晶ダイレクタが高い光学異方性層の密着及び均一な配向が確保され、液晶表示装置に適用した場合に正面コントラストを向上させることができる光学補償シートを提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、ディスコティック液晶性化合物からなる光学異方性層を少なくとも1層以上有する光学補償シートであって、光学異方性層が下記一般式(I)で表されるボロン酸化合物を含むことを特徴とする光学補償シート。
一般式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R1及びR2は互いに連結して環を形成してもよい。R3は、置換若しくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
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パターン位相差フィルムの製造方法
【課題】パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、高い精度により簡易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】配向膜の作製に供するマスクにおいて、露光処理に供するスリットSを、その長手方向の端部に向かうに従って徐々に幅狭に作製する。
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光学フィルムの製造方法
【課題】光学フィルムの製造における生産性の向上および作業の容易化を図るとともに、良好な光学特性を有する光学フィルムを製造する。
【解決手段】フィルム加工装置1を用いて、長尺のフィルムを成形または加工して連続的に繰り出すフィルム加工工程と、前記フィルム加工装置から繰り出されるフィルムの姿勢を変更して、フィルム入口部Tinを有し、該フィルム入口部Tinから連続的に繰り入れられるフィルムFを進行させながら該フィルムFを斜め延伸させる斜め延伸装置2の前記フィルム入口部Tinの姿勢に適合するように変更するフィルムターン工程と、前記斜め延伸装置2を用いて、前記フィルム入口部Tinから連続的に繰り入れられるフィルムFを進行させながら該フィルムFを斜め延伸させる斜め延伸工程とを備える。
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光学積層フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置
【課題】正面コントラスト比の低下及びムラを発生させることなく、水平配向モード液晶表示装置の視野角特性の改善に寄与する光学積層フィルムの提供。
【解決手段】
下記3式(Ib)〜(IIIb)を満たすB層と、下記2式(Ic)及び(IIc)を満たすC層とを有する光学積層フィルムであって、B層及びC層の主成分それぞれのSP値(但しHoy法に基づいて算出されるSP値)の差の絶対値|ΔSP値|が2.6以上10.0以下である光学積層フィルムである。
(Ib): 1.0≦Nz≦3.0
(IIb): 70nm≦Re(550)
(IIIb): 0nm≦Rth(550)≦200nm
(Ic): Re(550)≦10nm
(IIc): −200nm≦Rth(550)≦−50nm
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