【課題】真空注入法によって空セルに液晶材料を注入する場合でも、液晶材料の注入量を適正化することのできる液晶パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶パネルを製造するにあたって、空セル形成工程で液晶パネル用の空セル３ｅを形成する際、大型基板１０ｘの素子基板１０が切り出される領域の外側に、空セル３ｅと内容積が相違するダミー空セル３ｇを形成しておき、液晶封入工程では、空セル３ｅ内およびダミー空セル３ｇ内に液晶材料５０ａの注入を行う。その際、ダミー空セル３ｇにおける液晶材料５０ａの充填率に伴う形状変化を監視すれば、空セル３ｅでの充填状態を把握することができるので、ダミー空セル３ｇの監視結果に基づいて、液晶パネル３用の空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入を終了するタイミングを決定する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルに発生した不良を低コストで修正する。
【解決手段】液晶表示パネル５０ａの一方の表面に接触して、液晶表示パネル５０ａに対して加熱及び加圧を行う加熱加圧ユニット６０と、加熱加圧ユニット６０で加熱及び加圧が行われている液晶表示パネル５０ａの他方の表面に接触して、液晶表示パネル５０ａに対して加振を行う加振ユニット１００ａとを備えている。 （もっと読む）

【課題】従来の様に未反応の化合物による配向不良や、経済的に不利になる添加剤を多く添加することなく、強酸性物質を生成するカチオン重合開始剤を添加することなく、熱衝撃が加わってもクラックを生じない液晶（エンド）シール剤およびこれを用いた液晶パネルを提供する。
【解決手段】
少なくとも（A）ビスフェノールF（A)型エポキシ樹脂のジ（メタ）アクリレートと、（B）ビスフェノールF(A)のエチレン（プロピレン）オキサイド付加物のジ(メタ）アクリレートと、（C）ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ）アクリレートから選ばれる1種以上の(メタ）アクリレートと（D）光重合開始剤（ビス（２，４，６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド）、2-ヒドロキシ−２メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを液晶（エンド）シール剤に用いて液晶パネルを作ることでできる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く且つ低コストで製造可能であると共に、表示性能に優れた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、前記液晶層が、液晶にエアロゲル粉末を添加することによってゲル化されていることを特徴とする液晶表示装置とする。また、液晶にエアロゲル粉末を添加することによってゲル化させる工程と、ゲル化した液晶を一対の基板間に配置する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示素子において、表示領域の外側の領域に液晶が入らないようにして、低コスト化を図り、品質や信頼性を向上させる。
【解決手段】液晶表示素子１を、第１基板６と、第１基板に対向する第２基板７と、第１基板と第２基板との間に設けられ、液晶が充填される表示領域２０を規定するシール材１０と、第１基板、第２基板及びシール材によって規定された液晶注入口２２とを備えるものとし、液晶注入口の両側方の第１基板、第２基板及びシール材を、同一平面上に位置させ、第１基板、第２基板及びシール材が同一平面上に位置する両側の領域２３の液晶注入口からの長さを、それぞれ、第１基板、第２基板及びシール材が同一平面上に位置する領域の表面粗さをＲａ（μｍ）として、０．２６ｅ^{０．６４Ｒａ}（ｍｍ）以上の長さとする。 （もっと読む）

【課題】複数の液晶層を有する液晶素子を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】素子本体作製工程において、注入口１６ａ、２０ａ、２５ａが位置している素子本体４５の側面において、中間ガラス板４３，４４の先端が、第１及び第２の外ガラス板４１，４２の先端よりも内側に位置するように素子本体４５を作製する。液晶層形成工程において、注入口１６ａ、２０ａ、２５ａが位置している素子本体４５の側面の少なくとも注入口１６ａ、２０ａ、２５ａが設けられた部分に封止材６０を設けることにより注入口１６ａ、２０ａ、２５ａを封止する。 （もっと読む）

【課題】光の干渉による色ムラや表示ムラが低減され、明るい表示品質が得られる液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置は、素子基板１０と、素子基板１０と対向配置された透光性の対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層５０と、素子基板１０の液晶層５０側に形成された光反射性の複数の画素電極１５と、対向基板２０の液晶層５０側に形成された導電性の第１透光性膜２２ａと、第１透光性膜２２ａの液晶層５０側に形成され、第１透光性膜２２ａよりも屈折率が小さい絶縁性の第２透光性膜２２ｂと、第２透光性膜２２ｂの液晶層５０側に形成され、第２透光性膜２２ｂよりも屈折率が大きい導電性の第３透光性膜２２ｃと、を備え、複数の画素電極１５を有する画素領域における液晶層５０の厚みｄが、所定の値ｄ₀に対して±１０％以内となっている。 （もっと読む）

【課題】柱状スペーサを用いてＴＦＴ基板と対向基板の間隔を規定する液晶表示装置において、柱状スペーサと配向膜の摩擦によって配向膜が削れて輝点が発生することを防止する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００は、有機パッシベーション膜を有しておらず、無機パッシベーション膜１０４の上に柱状スペーサ１５０を形成している。対向基板２００にはブラックマトリクス２０１、カラーフィルタ２０２を覆って、オーバーコート膜２０３が形成されており、オーバーコート膜２０３には、凹凸台座１３０が形成され、柱状スペーサ１５０の先端が接している。柱状スペーサ１５０の先端および凹凸台座１３０の凸部には配向膜１０６が付着していないので、ＴＦＴ基板１００あるいは対向基板２００が横ズレを生じても配向膜１０６が削れることは無い。これによって、配向膜削れに起因する輝点を防止することが出来る。 （もっと読む）