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国際特許分類[G02F1/1362]の内容

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【課題】隣接する開口部の内部へ有機半導体インクを塗布した際に、互いのインクの混合を抑制し、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機EL表示素子、および有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁1016における開口部1016bを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016cの側の側面部1016eは、側面部1016dを含む他の側面部よりも傾斜が相対的に急峻な斜面となっている。隔壁1016における開口部1016cを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016bの側の側面部1016fは、側面部1016gを含む他の側面部よりも傾斜が急峻な斜面となっている。開口部1016bと開口部1016cとの各内部に対して、有機半導体インクを塗布した場合、X軸方向に互いに離れる方向に偏った表面プロファイルを有することになる。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。該半導体装置を作製する。半導体装置を歩留まりよく作製し、生産性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程によりゲート電極層、又はソース電極層及びドレイン電極層を形成後、ゲート電極層又は酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の残留物を除去する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、表示画像の縁付近における光漏れを低減する。
【解決手段】電気光学装置は、基板10上に、複数の画素電極9aと、複数の画素電極が設けられた画素領域の周辺に位置する周辺領域に設けられ、層間絶縁膜43を介して互いに異なる層に配置されると共に互いに重なる部分を夫々有する複数の遮光膜60b、400bとを備える。更に、複数の遮光膜のうち少なくとも一の遮光膜における他の遮光膜に対向する側に、他の遮光膜と重なる部分に少なくとも部分的に重なるように形成されると共に、一の遮光膜に比べて入射される入射光に対する反射率が低い低反射膜60a、400aとを備える。 (もっと読む)


【課題】得られる硬化膜の剥離液やNMPに対する耐性が高く、PED特性に優れたポジ型感光性樹脂組成物、前記ポジ型感光性樹脂組成物を使用した硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置、並びに、有機EL表示装置を提供すること。また、新規な多官能環状カーボネート化合物を提供すること。
【解決手段】(成分A)酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂と、(成分B)感放射線酸発生剤と、(成分C)アミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物とを含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。また、式(3)で表される多官能環状カーボネート化合物。Lは(n+1)価のアリーレン基を表し、mは0又は1を表し、nは1〜5の整数を表す。
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【課題】製造歩留まりを改善可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アクティブエリアに配置された帯状の画素電極と、アクティブエリア外に配置された給電パッド、前記給電パッドから離間した除電パッド、前記給電パッド及び前記除電パッドのうちの一方に電気的に接続された第1パッドT1、前記第1パッドに隣接して第1パッド間隔で配置され前記給電パッド及び前記除電パッドのうちの他方に電気的に接続された第2パッドT2、及び、前記第2パッドに隣接して第1パッド間隔よりも大きな第2パッド間隔で配置された第3パッドT3と、を備えた第1基板と、前記画素電極を挟んだ両側で前記画素電極と略平行に延出するとともにアクティブエリア外に延在し前記給電パッドに対向する共通電極と、アクティブエリアに対応して配置されたシールド電極と、を備えた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】基板交換を迅速に行うことができる基板ステージを提供する。
【解決手段】基板ステージ20が基板搬出装置70を有しているので、基板Pの搬出を迅速に行うことができる。また、基板ステージ20は、Y粗動ステージ23yと、Y粗動ステージ23y上に搭載されたX粗動ステージ23xと有し、基板搬出装置70がY粗動ステージ23yに取り付けられている。従って、基板搬出装置70を備えているにも拘わらず、スキャン露光時に移動するX粗動ステージ23xの制御性を損なわない。 (もっと読む)


【課題】複数の層のそれぞれについて、同じ層に形成された隣接する接続配線間の短絡を簡易な構成で確実に検出することができるアクティブマトリクス基板、表示装置、アクティブマトリクス基板の検査方法、および表示装置の検査方法を提供する。
【解決手段】第1スイッチング素子69,74のうちで互いに隣接しない第1スイッチング素子へ検査信号を入力可能であり、かつ、第2スイッチング素子69,74のうちで互いに隣接しない第2スイッチング素子へ検査信号を入力可能な第1検査配線70,75と、第1スイッチング素子69,74のうち第1検査配線が接続されておらずかつ互いに隣接しない第1スイッチング素子へ検査信号を入力可能であり、かつ、第2スイッチング素子69,74のうち第1検査配線が接続されておらずかつ互いに隣接しない第2スイッチング素子69,74へ検査信号を入力可能な第2検査配線72,77とを備える。 (もっと読む)


【課題】絶縁膜に形成されるヴィアホールの直径を縮小化することが可能で、高密度化に寄与することのできる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の回路基板の製造方法は、基板10上に第1導電体を形成する第1導電体形成工程と、第1導電体を被覆する様にゲート絶縁膜21を成膜する第1絶縁膜成膜工程と、第1導電体上のゲート絶縁膜21に貫通孔32を開口して、当該貫通孔32を介して第1導電体の表面および基板の表面を部分的に露出させる貫通孔形成工程と、貫通孔32内に露出する第1導電体の表面を撥液化させる撥液化工程と、貫通孔32内に露出する第1導電体以外の領域に第2絶縁膜を形成する第2絶縁膜形成工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】2つの配向状態間の遷移を利用する新規な液晶素子の視角特性を向上させること。
【解決手段】液晶素子は、対向配置された第1基板及び第2基板、第1基板又は第2基板に設けられたプリズムアレイ、第1基板に設けられた第1配向膜、第2基板に設けられた第2配向膜、第1基板と第2基板の間に設けられた液晶層、第1基板の外側に配置された第1偏光板、第2基板の外側に配置された第2偏光板、第1基板及び第2基板に設けられた電圧印加手段を含む。第1基板及び第2基板は、液晶層の液晶分子を第1方向へ捻れさせるように各配向膜への配向処理の方向を配置される。液晶層は、液晶分子を第1方向とは逆の第2方向に捻れさせる性質のカイラル材を含有する。電圧印加手段は、少なくとも、第1基板に設けられた第1電極と第2基板に設けられた第2電極を有する。 (もっと読む)


【課題】ダイナミックレンジが広く、かつ温度依存性が低減された光センサおよび、この光センサを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】光センサは、蓄積ノードと、リセット信号配線と、読み出し信号配線と、光検出用素子と、遮光層を有する参照用素子と、リセット信号が供給されてから読み出し信号が供給されるまでのセンシング期間に、光検出素子を流れる光量に応じた電流および参照用素子に流れる電流に応じて変化した蓄積ノードの電位を、読み出し信号にしたがって読み出し出力する、第1のスイッチング素子と、蓄積ノードと参照用素子との間に設けられ、読み出し信号供給時に蓄積ノードの電位が参照用素子の蓄積ノードとは反対側の電位より高くなった場合に、蓄積ノードと参照用素子との間を非導通状態にする第2のスイッチング素子とを備える。 (もっと読む)


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