【課題】電子線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像力、良好なパターン形状、ブリッジの発生の抑制、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。


（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子求引性基を表す。Ｙは２価の連結基を表し、Ａｒ及びＡｒ’は、各々独立に、芳香族環を表す。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光においてレジスト膜の露光部から酸が液浸液に溶出することを低減し、ウォーターマーク欠陥及び現像欠陥を抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び、
（Ｄ）２種以上の溶剤からなり、沸点が２００℃以上の溶剤を含有する混合溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で火膨れが生じにくい、すなわちラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、前記感熱層に膜厚が０．１μｍ以下に縮小された膜厚縮小領域を有し、かつ、前記膜厚縮小領域の感熱層表面に対する面積率が１面積％以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 膨潤率に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 樹脂（Ａ）および感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、樹脂（Ａ）の少なくとも１種が、一般式（１）で表される、酸解離性基により保護された酸基を有する構造単位（Ａ１）を含み、かつ、架橋性基を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。
一般式（１）
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【課題】低誘電率と高い基板密着性を両立可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アクリル系共重合体と（Ｂ）オキシムスルホネート化合物を含む光酸発生剤と（Ｃ）式（ｃ１）で表される化合物、および、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
式（ｃ１）
【化１】


（式（ｃ１）中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０の分岐していてもよいアルキル基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いシクロアルキル基、またはモルホリノ基を表す。Ｒ³は酸素原子または硫黄原子を表し、Ａは２価の連結基を表す。） （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、パターン形状、スカム低減及び現像欠陥低減に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び（Ｄ）溶剤を含有し、かつ前記化合物（Ｂ）が、活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】現像欠陥が改善され、且つ良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）又は（Ｉ’）で表される酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。〔一般式（Ｉ）及び（Ｉ’）中の各記号は、本特許請求の範囲に記載の意味を表す。〕
【化１】
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【課題】感度及び酸転写性が向上された酸転写膜を用いて化合物を合成する方法、マイクロアレイ、酸転写用組成物及びバイオチップ製造用組成物の提供。
【解決手段】第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、特定のアクリルアミド単位および特定のアクリル酸エステル単位を有する重合体Ａ、感放射線性酸発生剤Ｂ、増感剤Ｃを含む酸転写用組成物を用いて、第１膜上に第２膜を形成する工程、第２膜を露光し、第２膜の露光部に生じた酸を第１膜に転写して保護基を除去する工程、露光後の第２膜を除去する工程及び保護基が除去された第１化合物に第２化合物を結合する工程からなる化合物合成法。 （もっと読む）

【課題】高感度で火膨れが生じにくい、すなわちラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が１面積％以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）