国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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カラーフィルタ用感光性着色組成物、液晶表示装置用カラーフィルタ及び液晶表示装置
【課題】優れた斜め視認性を有する液晶表示装置を製造することのできるカラーフィルタ用感光性着色組成物提供すること。
【解決手段】カラーフィルタの各着色画素3R,3G,3Bを形成する感光性着色組成物であって、顔料、樹脂、モノマー及び溶剤を含有する感光性着色組成物であって、前記顔料として2種以上の顔料を含有し、前記溶剤のうち50%以上の溶剤が、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした場合に蒸発速度10〜35の溶剤であり、モノマーと樹脂の質量比(モノマー/樹脂)が0.3から1.0の範囲であり、かつ、この感光性着色組成物をガラス基板上に塗布後、乾燥、露光、現像、ポストベークの工程を経て得られた塗膜の膜応力σが0から+30の範囲にある組成物を提供する。
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液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【課題】液浸露光時に於ける液浸液に対する後退接触角の更なる改善及びウォーターマーク欠陥の低減が可能な液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、(D)下記一般式(S1)〜(S3)で表される群より選択される少なくとも1種の溶剤を全溶剤中3〜20質量%含有する混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。
[式中、R2はエチレン性二重結合を含む基;Wは2価の脂環式炭化水素基;T1は、単結合、2価の脂肪族炭化水素基等;T2は2価の脂肪族炭化水素基等]
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パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)}
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着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機EL表示装置
【課題】本発明は、得られる画素の輝度を維持又は向上させつつ、スプレー現像における画素形成に優れた着色樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明はまた上記着色樹脂組成物を用いたカラーフィルタ、並びに高品質の液晶表示装置及び有機EL表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】(A)ハロゲン化金属フタロシアニン顔料、(B)黄色染料、(C)バインダー樹脂、(D)光重合開始成分及び(E)溶剤を含有し、
該(D)光重合開始成分が、特定の化合物を含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。
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着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
【課題】着色剤として染料を用いた場合に、良好な電圧保持率、高いコントラスト及び高い耐熱性を両立できる着色層を形成することのできる着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C);(A)下記式(1)で表される染料を含む着色剤、(B)バインダー樹脂、及び(C)架橋剤を含有することを特徴とする着色組成物。
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新規な絶縁膜及び絶縁膜付きプリント配線板
【課題】 本願発明の課題は、加熱プレス時の変形が少なく、タックフリー性に優れ、繰り返し折り曲げに耐え得る柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、反りが小さい絶縁膜、絶縁膜付きプリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)バインダーポリマー及び(B)有機−無機複合化微粒子を含有することを特徴とする絶縁膜であって、前記(B)有機−無機複合化微粒子は、前記絶縁膜中に分散しており、前記絶縁膜の厚み方向の断面の任意の125μm×15μmの範囲において、(B)有機−無機複合化微粒子が10〜60%の面積を占めることを特徴とする絶縁膜を用いることで上記課題を解決しうる。
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カラーフィルタ基板、並びにその製造に用いる感光性着色組成物
【課題】所望の色相を得るために着色画素の膜厚を優先した際に、画素部分とBM上に乗り上げる部分の膜厚の差を調整でき、積層フォトスペーサーを所望の高さに制御できるカラーフィルタ基板と、その製造に用いることが出来る感光性着色組成物とを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも、ブラックマトリックス、複数色の着色画素及び積層フォトスペーサを有するカラーフィルタ基板であって、前記積層フォトスペーサが前記ブラックマトリックス上に前記着色画素を構成する感光性着色組成物の1色以上を積層して形成され、且つ、前記積層フォトスペーサに用いられる前記感光性着色組成物が少なくとも透明樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶剤、チキソ性付与剤を含有し、且つ、チキソ性付与剤がその前記感光性着色組成物の全固形分中に対して0.3〜5.0質量%であることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
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感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、(A)バインダポリマーと、(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、(C)光重合開始剤が、特定の式(1)で表される化合物を含む感光性樹脂組成物に関する。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】マスクエラーファクター優れたレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すか又はR1及びR2が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜20の環を形成する。R4は、エチレン性二重結合を含む基を表す。Wは、炭素数6〜18の2価の脂環式炭化水素基を表す。T1は、単結合、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。T2は、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。]
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