国際特許分類［G03F7/004］の内容
物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類［G03F7/004］の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物，例．ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部，例．支持体，補助層，に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類［G03F7/004］に分類される特許
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