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国際特許分類[G03F7/004]の内容

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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用であり、且つ、使用するモノマーの種類に関わらず製造が可能である、露光により分解して酸を発生する高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アニオン基と、スルホニウム又はヨードニウムカチオンとを有するモノマーを重合して前駆体ポリマーを合成し、洗浄した後、当該前駆体ポリマーをスルホニウム又はヨードニウムカチオンと塩交換させる、高分子化合化合物の製造方法であって、塩交換に用いるスルホニウム又はヨードニウムカチオンが、前記モノマー中のスルホニウム又はヨードニウムカチオンよりも疎水性が高いことを特徴とする、露光により分解して酸を発生する構成単位を有する高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生を低減できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、及び該レジスト組成物の添加剤として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含フッ素化合物成分(F)を含有するレジスト組成物。前記含フッ素化合物成分(F)は、一般式(f1−1)で表される構成単位及び一般式(f1−2)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1種の構成単位(f1)と、フッ素原子を含む構成単位(f2)とを有する高分子化合物(F1)を含有する[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はハロゲン化アルキル基;R、Rは2価の連結基;Rfはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜10の炭化水素基又は炭素数3〜20の環含有炭化水素基である]。
[化1]
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【課題】解像性に優れ、良好な耐エッチング性及び硬化膜柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び積層体の提供。
【解決手段】全固形分を基準として、以下の:(A)アルカリ可溶性高分子:10〜90質量%、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する単量体:5〜70質量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜20質量%、を含む感光性樹脂組成物であって、該(A)アルカリ可溶性高分子は、酸当量100〜600、及び重量平均分子量5,000〜200,000を有し、かつベンジル(メタ)アクリレート系化合物と、脂環式炭化水素基又は複素環式基を有する(メタ)アクリレート系化合物とを含む単量体成分の共重合体である、前記感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光散乱層を用いることなく、表示装置において外光の反射を防止し、光を効率よく利用することが可能なカラーフィルタ、およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】透明基板、および上記透明基板上に形成された複数の着色層を有するカラーフィルタであって、上記着色層は、少なくとも顔料および感光性樹脂を含有し、上記着色層のP/V比が、0.550〜0.750の範囲内であり、上記着色層表面に複数の凹凸からなる隆起構造を有し、上記隆起構造の平均ピッチが2μm〜35μmの範囲内であり、上記隆起構造の凸部の平均高さが0.2μm〜7.0μmの範囲内であることを特徴とするカラーフィルタを提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】柔軟性及び絶縁信頼性に優れた感光性樹脂組成物及び当該感光性樹脂組成物に用いられるポリイミド前駆体又はポリイミドを提供すること。
【解決手段】本発明のポリイミド前駆体又はポリイミドは、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるポリイミド前駆体又はポリイミドであって、前記テトラカルボン酸二無水物として、下記一般式(1)で表される構造を有するテトラカルボン酸二無水物を含むことを特徴とする。
【化1】


(式(1)中、Rは、それぞれ独立に炭素数1〜炭素数18のアルキレン基を示し、nは1以上の整数である。) (もっと読む)


【課題】熱分解によるオーブン汚れがなく、耐熱性、感光性、現像密着性にも優れる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】透明樹脂、多官能モノマー、下記一般式(I)で示されるオキシム化合物の光重合開始剤、溶剤、及び、必要に応じて着色剤を含有する感光性樹脂組成物である。
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【課題】各種溶媒、及び組み合わせるエポキシ基を有する化合物との親和性に優れる光塩基発生剤、並びにこれを含む感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1){式中、R1〜R4は特定の1価基であり、Zは未置換または置換アミノ基、環状アミノ基で表される部分構造である。}で表される、各種溶剤への溶解性が良好な光塩基発生剤である。


更にこれを含有する、高分子前駆体の種類を問わず露光部と未露光部とで大きな溶解性コントラスト(すなわち高い残膜率)が得られ、かつアルカリ現像が可能な、光パターニング性を有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)は、式(b1−1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有する[Zは有機カチオン;Q及びQは、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数1〜6のフッ素化アルキル基;Xは−(CHm1−;Yは単結合、−O−(CHL1−又は−C(=O)−O−(CHL1−;L1、m1は1〜6の整数;RxはC=C不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数2〜36の2価の脂肪族炭化水素基;Ryは酸解離性基である。]。
[化1]
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【課題】着色剤として染料又はレーキ顔料を用いた場合に、良好な耐溶剤性を有する着色層を形成することのできる着色組成物の提供。
【解決手段】(A)染料及びレーキ顔料から選ばれる少なくとも1種を含む着色剤、(B)バインダー樹脂、(C)2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、並びに(D)下記式(1)で表される光重合開始剤を含有することを特徴とする着色組成物。


〔式(1)において、R3は、炭素数4〜20のシクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基をを示す。〕 (もっと読む)


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