国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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スピンレスコーティング用レジストの製造方法
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レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
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ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法
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マイクロレンズアレイ露光用フォトスペーサ用感光性樹脂組成物
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着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機EL表示装置
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感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品
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ポジ型レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法
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感光性樹脂組成物
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カラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物及びその使用
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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