【解決手段】(i)犠牲膜パターン上に無機材料膜を形成し、犠牲膜パターンの形状を持つ空間を形成する工程を含むマイクロ構造体の製造方法において、(A)一部又は全部のフェノール性水酸基が1，2−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドによりエステル化されたクレゾールノボラック樹脂を含むと共に、架橋剤を含み、かつ200〜300nmの波長領域に最大の吸収極大を持つ光酸発生剤を含む光パターン形成性犠牲膜形成用組成物を用い、犠牲膜として塗布する工程、(B)基板を加熱する工程、(C)パターンレイアウトイメージに沿った照射を行う工程、(D)犠牲膜パターンを形成する工程、(E)上記犠牲膜パターン中のクレゾールノボラック樹脂間に架橋を形成する工程を含む。
【効果】高精度な欠陥損失のない平面形状及び85°以上90°未満側壁の形状を有し、かつ熱耐性に優れる犠牲膜パターンが得られる。 （もっと読む）

【課題】現像時の未露光部凝集物の発生を抑制し、ポリイミド樹脂及びポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物、該フェノール樹脂組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有して成る半導体装置を提供する。
【解決手段】特定構造のフェノール樹脂（Ａ）、下記一般式：


｛式中、Ｒ₆は、置換されていてもよい炭素数３以上の脂肪族基；置換されていてもよい炭素数３以上の脂環式基；又は置換されていてもよい芳香族基；を表し、Ｙは、Ｏ、ＮＨ又は単結合を表し、そしてｂは、２又は３の整数である。｝で表される構造を有するフェノール化合物（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有する、フェノール樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、高解像度、高い光取り出し効率を有するマイクロレンズ用材料に用いられるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】芳香族縮合環又はその誘導体を有する単位構造を含むアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）と、光分解しアルカリ可溶性基を生ずる有機基を有する化合物（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）とを含むポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】 塗布ムラを小さくすることができると共に、プロセスマージンを広くすることができる高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）、アルカリ可溶性フェノール樹脂（Ｂ）、キノンジアジドスルホン酸エステル（Ｃ）及び有機溶剤（Ｄ）を有し、前記アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）と前記アルカリ可溶性フェノール樹脂（Ｂ）の比率が重量比で９５：５〜８５：１５であり、前記アルカリ可溶性フェノール樹脂（Ｂ）の分子量が１０００以下、かつ、分子量分布が１．０５以上１．６５以下であり、前記有機溶剤（Ｄ）は、プロピレングリコールモノメチルエーテル（Ｄ１）及び常圧の沸点が１５０℃〜２４０℃の範囲の溶剤（Ｄ２）を含む複合溶剤である。 （もっと読む）

【課題】形成した樹脂パターンを熱処理した後であっても矩形又は矩形に近い樹脂パターンを製造できる樹脂パターン製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも以下の工程（１）〜（７）をこの順に含むことを特徴とする樹脂パターン製造方法。（１）感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線によりパターン状に露光する露光工程、（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、（５）現像された感光性樹脂組成物にオーバーコート層を設ける塗設工程、（６）オーバーコート層が設けられた感光性樹脂組成物を熱処理する熱処理工程、（７）オーバーコート層を除去する除去工程。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、十分な感度を有するポジ型感放射線性樹脂組成物、並びにこのポジ型感放射線性樹脂組成物を用い、優れた耐メルトフロー性、耐熱性及び耐溶媒性を有し、電圧保持率に優れる層間絶縁膜及びその形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ１］ケイ素原子に炭素原子で結合する有機基のうち、エポキシ基を有する有機基の含有割合が、０モル％以上５０モル％未満であるポリオルガノシロキサン、及び［Ａ２］上記含有割合が、５０モル％以上１００モル％以下であるポリオルガノシロキサンを含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】保管温度４℃以下で保存安定性に優れるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
（ａ）ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールまたはそれらの前駆体、（ｂ）キノンジアジド化合物および（ｃ）溶剤を含有し、ベンゼン、トルエンおよびキシレンの含有量がいずれも５ｐｐｍ以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、かつ、露光感度と解像度を両立できる、ポジ型感光性樹脂に使用される新規なテトラキスフェノール化合物を提供する。
【解決手段】本発明は、一般式（１）で表されるテトラキスフェノール化合物である。


（式（１）中、Ａｒはフェノール性水酸基を有するアリール基であり、同一でも異なってもよく、２位、３位、４位、５位、６位のいずれかで置換したものである。） （もっと読む）

【課題】感度、露光後放置安定性に優れ、寸法制御性に優れた感光性樹脂組成物、それを用いた絶縁膜や保護膜としての硬化膜、およびそれを用いた半導体装置の提供。
【解決手段】（ａ）ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールもしくはポリアミドイミド、それらいずれかの前駆体またはそれらの共重合体であるアルカリ可溶性樹脂、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）特定のアリルフェニルエーテル化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）