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国際特許分類[G03F7/075]の内容

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【課題】 弾性回復特性とガラス基板などに対する密着性を両立できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子中に含有する親水性樹脂(A)、エチレン性不飽和結合含有基(x)を分子中に含有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステルおよびピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(B)、2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有するウレタンオリゴマー(C)、2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能(メタ)アクリレートモノマー(D)並びに光重合開始剤(E)を必須成分として含有する感光性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高透明性、高密着性、かつ酸およびアルカリ薬液に対して優れた耐薬品性を有するポジ型感光性組成物を提供すること、およびそのポジ型感光性組成物の製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明のポジ型感光性組成物は、(a)ポリシロキサン、(b)ナフトキノンジアジド化合物、(c)ウレア結合をまたはイソシアネート基を有するシランカップリング剤、(d)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物であって、前記(c)ウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤が、特定の構造を有する化合物である。 (もっと読む)


【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物(A)一種以上と、下記一般式(2)で示されるケイ素化合物(B)一種以上とを含む混合物の縮合物及び/又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
m0B(OH)m1(OR)(3−m0−m1) (1)
10m1011m1112m12Si(OR13(4−m10−m11−m12) (2) (もっと読む)


【課題】本発明は、表示素子用硬化膜の一般的特性である放射線感度等を十分満足する表示素子用硬化膜を形成することができ、かつ表示素子用硬化膜形成の際の加熱工程において、人体に有害なベンゼン等のアウトガスの発生を低減することができるポジ型感放射線性組成物、このポジ型感放射線性組成物から形成された表示素子用硬化膜、この表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子を提供することを目的とする。
【解決手段】[A]シロキサンポリマー、及び[B]キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であって、[A]シロキサンポリマーが、下記式(1)で表される化合物及び下記式(2)で表される化合物を含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であり、かつ[A]シロキサンポリマーにおける下記式(2)で表される化合物に由来する構造単位の含有率が、5モル%以上60モル%以下であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

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【課題】縮合物の保存安定性と、該縮合物を加熱焼成し膜とした際、鉛筆硬度5H以上の硬質な膜を得、かつ膜厚3.0μm以上の膜にクラックを発生させない、シラン系組成物、およびその硬化膜を提供する。
【解決手段】一般式(1):(CH)Si(ORで表されるアルコキシシランAと、一般式(2):(Ph)Si(ORで表されるアルコキシシランBと、一般式(3):(CHSi(ORで表されるアルコキシシランCとをモル比で表して、アルコキシシランA:アルコキシシランB:アルコキシシランC=30〜70:10〜50:20〜60の範囲で縮合させたアルコキシシラン縮合物、およびポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンを含む組成物。 (もっと読む)


【課題】高感度かつ露光後焼成が不要で、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた透明膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】アルコキシシリルを有するラジカル重合性モノマー(a1)と、酸性基を有するラジカル重合性モノマー(a2)と、(a1)と(a2)以外のラジカル重合性モノマー(a3)とをラジカル共重合してなるポリマー(A)、光酸発生剤(B)、及び有機溶剤(C)を含有するポジ型感光性組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハ等の基板に塗布、露光、現像によりパターニングしたポリベンゾオキサゾール前駆体を主成分とするポリアミド樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物に、熱履歴を加えて脱水閉環した場合でも、半導体ウエハ等の基板の反りを低減できるポジ型感光性樹脂組成物、かかるポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂を主成分とするポリアミド樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物を脱水閉環して得られる硬化膜、かかる硬化膜を有する保護膜、絶縁膜、半導体装置、表示装置を提供することにある。
【解決手段】 ポリアミド樹脂(A)と、感光剤(B)と、を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、該ポリアミド樹脂が、下記一般式(1)で示される構造を有することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できる大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記化合物(1)と化合物(2)とを加水分解縮合反応させて得られるポリシロキサン化合物、光酸発生剤及び有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。R1はC1〜4アルキル基又はC6〜10アリール基、R2はC2〜10の2価炭化水素基、R3はC2〜10の2価飽和脂肪族炭化水素基、X1及びX2は酸解離性溶解抑止基、を表す。
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