国際特許分類［G03F7/115］の内容
物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284) | 構造の細部，例．支持体，補助層，に特徴のあるもの (2,371) | 真空焼付においてスクリーン効果またはより良い密着を得るための手段を有する支持体または層をもつもの (2)
国際特許分類［G03F7/115］に分類される特許
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表面処理方法および表面処理装置
【課題】基板とレジストの密着性を向上するための疎水化処理による基板の裏面の汚染を抑制できる表面処理方法を提供すること。
【解決手段】表面処理方法は、基板１とレジストとの密着性を高めるために、前記レジストが塗布される基板１の表面を疎水化処理するための表面処理方法であって、基板１と前記レジストとの密着性を高めるための表面処理剤３の蒸気を基板１の表面に供給する際に、基板１の裏面に表面処理剤３の蒸気が供給されることを防止する。
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感光性樹脂板製版用カバーフィルム
【課題】
本発明は、ネガ密着性と空気抜け性を向上させ、解像度の高い画像を得ることができる感光性樹脂板製版用カバーフィルムの提供を課題とするものである。
【解決手段】
支持層、感光性樹脂層、スリップコート層をその順に設けてなる感光性樹脂積層体のカバーフィルムとして用いられるフィルムであって、少なくとも粒子Ａと粒子Ｂを含有するポリエステルフィルムであり、該粒子Ａと該粒子Ｂの平均粒径が異なり、該フィルムの少なくとも一方の表面（Ｘ面）の３次元粗さＳＲａが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、該フィルム表面（Ｘ面）の３次元粗さＳＲｚが２０００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であり、かつ該フィルム表面（Ｘ面）と感光性樹脂積層体のスリップコート層の表面とが密着または対向する態様で使用される感光性樹脂板製版用カバーフィルム
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