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国際特許分類[G03F7/16]の内容

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【目的】 半導体ウェーハW等の下面周縁部のみを吸着しても撓みが発生し難い回転処理装置を提供する。
【構成】 吸引チャック5の上部形状は周縁部が内側部よりも高くなった皿状をなし、周縁部の上面には半導体ウェーハWの製品とならない外縁部分を吸着するための吸引溝9が形成されている。この吸引溝9上に半導体ウェーハWの下面周縁部の製品にならない部分が載置されるようにする。そして、吸引溝9を介して半導体ウェーハWの下面周縁部を吸引する。吸引溝9は平面視で円形状をなすように形成されているため、半導体ウェーハWの下面周縁部の全周が吸引され、撓みが発生し難い。 (もっと読む)


【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第1のフィルム層(カバーフィルム)24、感光性樹脂層25、及び第2のフィルム層(ベースフィルム)26を含む積層体を、下部硬質板14と上部硬質板15とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記(a)工程〜(d)工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
(a)上部硬質板及び/又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第1のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
(b)前記下部硬質板に積層した前記第1のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
(c)前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
(d)下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置の製造コストを軽減するとともに、装置の設置面積を縮小化する技術を提供する。
【解決手段】Y方向に沿って配置される洗浄部3と乾燥部41との間に、搬送ユニット21を配置するとともに、洗浄部3および乾燥部41に対して(−X)側に、中庭空間101を設けた状態で現像部6を配置する。そして、搬送ユニット21に対して(−X)側に隣接する位置に、塗布ユニット10を設置する。また、塗布ユニット10周囲の中庭空間101に露出する側面をカバー部材1aで覆うとともに、カバー部材1aの乾燥部43側に開口部1bを設ける。また、カバー部材1aと現像部6との間に通路102を設け、中庭空間101のうちの塗布ユニット10を挟んで開口部1bと反対側の空間(設置空間103)に、各処理ユニットの付帯設備103aを設置する。 (もっと読む)


【課題】高速スリット塗布を行った場合にも、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、被膜の剥離もない、固形分含有量が高いスリット塗布用感光性樹脂組成物およびこれを用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】m−またはp−位に置換基を有するフェノール性化合物を用いて合成され、かつ重量平均分子量(Mw)が3,000〜16,000で、o−o’結合率が20%以上、30%以下のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどの感光剤、必要に応じフェノール性化合物、活性剤を含む感光性樹脂組成物を、スリットコーターを用いて基板上にスリット塗布する。200mm/sec以上の塗布速度で塗布しても、膜厚が均一で、塗布ムラのない塗膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】顔料を含有する硬化性組成物の除去性能に優れた硬化性組成物除去液を提供する。
【解決手段】顔料を含有する硬化性組成物の除去液であって、(A)脂環式ケトン類および(B)一般式(1)で示されるグリコールジアルキルエーテル類を含有し、化合物(A)の含有量が除去液全体に対して30質量%以上であることを特徴とする硬化性組成物除去液。
−O−[C2n−O]−R (1)
(式中、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、nは正の整数である) (もっと読む)


【課題】基板の中央部と周縁部との膜厚のばらつきをより抑制することが可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、スプレーノズル6がガラス基板4に液体を噴射する際に、制御部9が、ガラス基板4の周辺部Aから中央部Bまでは、スプレーノズル6を加速させながら移動させる。また、スプレーノズル6が中央部Bに達すると、制御部9は、ガラス基板4の中央部Bでは、スプレーノズル6を等速度で移動させる。さらに、制御部9は、中央部Bから周辺部Cまでは、スプレーノズル6の移動速度を中央部Bでの等速度から減速させる。 (もっと読む)


【課題】塗布装置の稼働率を向上させることにより、塗布基板の低コスト化を図ることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に塗布液を塗布する塗布ユニットと、基板に付着した異物の存在を検知する検知ユニットと、前記検知ユニットからの異物情報に応じて前記塗布ユニットを制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記検知ユニットからの異物情報から基板上における異物位置情報を得、その異物位置情報に基づいて基板に付着した異物を回避するように前記塗布ユニットを駆動制御するように構成する。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸形状を得ることができる表面改質方法及び装置、重層塗布方法及び装置、並びに塗布物を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を支持体16に塗布する塗布部18と、乾燥点まで乾燥した塗膜に第1溶媒よりも分子体積の小さい第2溶媒の蒸気含有熱風を供給して乾燥させる乾燥部20と、乾燥した塗膜に塗布液を塗布してオーバーコート層を形成する塗布部22と、を備える。乾燥部20は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、で示される式を満たす条件で乾燥処理を行う。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、アルミニウム支持体を親水化乾燥、感光層塗布液の塗布乾燥、など諸加熱工程の後に伴う冷却工程の冷却に優れ、生産速度を上げるに従い冷却工程も大型で長くなることを改善抑制でき、しかも、感度、特に、アミ点再現性、耐刷力にも優れた平版印刷版材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】親水化処理したアルミニウム支持体上に、感光層を有する平版印刷版材料を製造する方法であって、該アルミニウム支持体を親水化乾燥処理するA工程、親水化乾燥処理したアルミニウム支持体上に感光層側の少なくとも一層を塗布乾燥するB工程、を有し、A工程およびB工程の少なくとも一つの工程の後に、イオン風で冷却するイオン風冷却工程を有することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】レジストを塗布し、露光後に現像を行ってレジストパターンを形成するにあたって、レジスト表面に残渣が付着することで生ずる現像欠陥を抑制すること。
【解決手段】ウエハWの表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、その後レジスト膜が形成されたウエハWの表面を露光して、この露光処理されたウエハWの表面に、酸性アルコールLを供給して、当該表面に形成されているレジスト膜の低分子層の一部を溶解し、さらに、その後行われる現像処理に用いられる現像液に対する当該低分子層の溶解性を高める。 (もっと読む)


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