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国際特許分類[G03F7/16]の内容

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【課題】アルカリ現像液耐性に優れた黒色重合性組成物、及び、ウェハレベルレンズ等を提供する。
【解決手段】(A)黒色材料と、(B)重合開始剤と、(C)重合性化合物と、(D)重量平均分子量が少なくとも3万であり、且つ、側鎖に重合性基を有するアルカリ可溶性バインダーポリマーとを含有する黒色重合性組成物である。 (もっと読む)


【課題】処理ユニットの設置スペースを小さくして、装置の小型化を図ると共に、基板の処理時間の短縮化及び搬送時間の短縮化によりスループットの向上を図れるようにすること。
【解決手段】ウエハWを加熱するための加熱部50を形成する熱板51と、熱板51の下方に配設され、ウエハを冷却するための冷却部40を形成する冷却プレート41と、上下に配設された加熱部50及び冷却部40と対向する位置に配設され、ウエハWに対して処理液の液膜を形成する複数の現像処理部60と、冷却部40及び現像処理部60に対してウエハWを搬入又は搬出するためのメインアームA1と、メインアームA1から受け取ったウエハWを冷却部40に受け渡すと共に、加熱部50に近接する位置に移動する昇降可能な支持ピン80とを具備する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性(膜厚均一性)及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】[A]ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、[B]ラジカル重合開始剤、及び[C]有機溶媒を含有し、固形分濃度が5質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上10mPa・s以下であり、かつ[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 (もっと読む)


【課題】 本願発明の課題は、感光性樹脂組成物面上に補強板を貼り付けた際に十分なリフロー耐熱性を保持しており、かつスクリーン印刷後の塗工外観が良好で、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温(200℃以下)で硬化可能であり、得られる硬化膜が柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)分子内に感光性基を実質的に含有していないカルボキシル基含有樹脂、(B)感光性樹脂、(C)光重合開始剤、(D)反応性表面調整剤、及び(E)溶媒を含有する感光性樹脂組成物を用いることにより上記課題を解決することができる (もっと読む)


【課題】塗布、現像装置のスループットの低下を抑えると共に、装置の設置面積を抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】処理ブロックは、キャリアブロック側の加熱系のブロックと、液処理系の単位ブロック群と、インターフェイスブロック側の加熱ブロックと、をキャリアブロック側からインターフェイスブロック側にこの順番で配置し、前記液処理系の単位ブロック群は、反射防止膜用の単位ブロックと、レジスト膜用の単位ブロックと、上層膜用の単位ブロックと、をこの順で上側に積層した塗布膜用の単位ブロック群と、この塗布膜用の単位ブロック群に対して互いに上下に積層された現像用の単位ブロックと、から構成され、液処理系の各単位ブロックで液処理モジュールは基板の搬送路の左右両側に配置されるように装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】薬液に溶存するフィルタ等で除去できない程度の小さいサイズの気泡を微細化する薬液配管装置を提供する。
【解決手段】基板に薬液を塗布、または噴射する塗布装置または噴射装置の薬液配管装置であって、複数の異なる断面を有する、薬液の流路と、流路の途中の流路外壁に備えられ気泡を粉砕する超音波ヘッドと、流路の途中の流路外壁に前記超音波ヘッドと対向する位置に備えられ、超音波ヘッドの振動を反射するための超音波反響板と、前記超音波ヘッドと前記超音波反響板の近傍に設けられ薬液の温度を調整するための温度調整機構と、流路の途中に挿入され、気泡を微細化する体積調整用ブロックと、を備え、薬液内の気泡を微細化することを特徴とする薬液配管装置。 (もっと読む)


【課題】保守作業の容易化および省スペース化が実現されつつ安定に飛散防止部材を昇降させることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置100は、基板Wを水平に保持するとともに鉛直方向の回転中心線P周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック21を備える。スピンチャック21を取り囲むように、カップ10が設けられている。カップ10は、内構成部材11、中構成部材12および外構成部材13からなる。内構成部材11の下方には、一対の第1昇降機構81が設けられている。一対の第1昇降機構81のサーボモータ119は、制御部により互いに同期して駆動される。 (もっと読む)


【課題】フィルターエレメントの適切な交換タイミングを把握できるフィルター装置を提供する。
【解決手段】フィルター装置は、フィルター膜と前記フィルター膜を支持するサポート材とを有するフィルターエレメントを備え、前記フィルター膜と前記サポート材との少なくとも一方は、メタルイオンの吸着量に応じて色が変化する物質を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】基板周縁近くの領域でのレジスト膜等の膜厚を均一に維持することが可能な回転塗布方法を提供する。
【解決手段】基板に形成する膜の原料薬液を基板に滴下し、基板を回転することにより膜を形成する方法であって、基板回転保持部に保持される基板の周囲を囲むカップ部を第1のカップ排気量で排気しつつ、所定の回転速度で第1の基板に膜を形成し、カップ部を第2のカップ排気量で排気しつつ、所定の回転速度で第2の基板に膜を形成し、第1のカップ排気量、第1の基板に形成された膜の膜厚、第2のカップ排気量、および第2の基板に形成された膜の膜厚に基づいて、カップ排気量に対する膜の膜厚の変化率を取得し、取得した変化率に基づいてカップ排気量を決定し、決定したカップ排気量にてカップ部を排気しつつ、所定の回転速度で基板を回転することにより、膜を第3の基板上に形成する方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】従来よりも簡便な方法で支持体との密着性の高いレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】基板上に直接、レジスト組成物を塗布する工程(1)と、前記レジスト組成物が塗布された前記基板をベークしてレジスト膜を形成する工程(2)と、前記レジスト膜が形成された前記基板を有機溶剤で洗浄する工程(3)と、前記の洗浄後の前記基板上に、前記レジスト組成物と同じレジスト組成物を塗布してレジストパターンを形成する工程(4)とを有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


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