【課題】 この発明は、ヘッドに溶液を供給する配管を減らすることができ、又は非噴射時に溶液がノズルから滴下するのを防止するとともに、噴射開始時に不適切な噴射がされるのを防止できる塗布装置を提供することにある。
【解決手段】 ノズルを用いて基板に機能性薄膜を形成する溶液を噴射塗布する塗布装置において、上記ノズルが形成されたインクジェット方式の複数のヘッド２０と、これらヘッドが設けられるとともに、上記溶液が供給される主管路８が形成されたヘッダー９と、このヘッダーの主管路に接続されこの主管路に上記溶液を供給する溶液タンクと、上記各ヘッドと上記主管路とを接続し、この主管路から上記ヘッドに溶液を分配する複数の分配管２２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。
【解決手段】回転中のウェハ上に溶剤を供給し、ウェハを第６の回転数で回転させて溶剤を拡散させる（工程Ｓ１）。ウェハの回転を第１の回転数まで加速させ、第１の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ２）。ウェハの回転を第２の回転数まで減速させ、ウェハＷを第２の回転数で回転させる（工程Ｓ３）。ウェハの回転を第３の回転数までさらに加速し、第３の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ４）。ウェハの回転を第４の回転数である０ｒｐｍ超５００ｒｐｍ以下まで減速させ、第４の回転数で１〜１０秒間ウェハを回転させる（工程Ｓ５）。ウェハの回転を第５の回転数まで加速し、第５の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ６）。工程Ｓ２から工程Ｓ３の途中まで、あるいは工程Ｓ２の間ウェハの中心にレジスト液を連続的に供給する。 （もっと読む）

【課題】 周縁部においても膜厚均一性の高い塗布膜の形成方法および塗布膜形成装置を提供すること。
【解決手段】 塗布液膜の周縁部の上方を覆うようなカバーを設けて、塗布液膜の周縁部において局所的に溶媒蒸気が滞留する空間を作り、この空間の大きさを乾燥中に制御させることによって、塗布液膜周縁部での蒸発速度を調節し、塗布液膜内の濃度分布を均一にすることで周縁部の膜厚不均一を抑制する。 （もっと読む）

【課題】スピン塗布法を用いて塗布液を基板に塗布する場合において、塗布液の塗布量を少量にしつつ、塗布液を基板面内に均一に塗布する。
【解決手段】塗布処理方法は、ウェハを加速回転させた状態で、そのウェハの中心部にノズルからレジスト液を吐出して、ウェハ上にレジスト液を塗布する塗布工程Ｓ３と、その後、ウェハの回転を減速し、ウェハ上のレジスト液を平坦化する平坦化工程Ｓ４と、その後、ウェハの回転を加速して、ウェハ上のレジスト液を乾燥させる乾燥工程Ｓ５と、を有する。塗布工程Ｓ３では、ウェハの回転の加速度を第１の加速度、前記第１の加速度よりも大きい第２の加速度、前記第２の加速度よりも小さい第３の加速度の順に変化させ、当該ウェハを常に加速回転させる。 （もっと読む）

【課題】処理基板上を移動するノズル搬送機構に駆動部を設けないため、機構部が複雑にならず駆動機構からの発塵パーティクルによる欠陥問題のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】塗布液ノズルを待機位置で待機させるためのノズルバス１４と、ノズルバスにおいて、塗布液ノズルから塗布液の吐出動作又は、乾燥抑制溶剤の吸引動作と排出動作とをディスペンス制御するディスペンス制御部とを備え、ノズルバスは、塗布液ノズルの塗布液を吐出する孔１００と、乾燥抑制溶剤を吸引する孔１０１とを具備すると共に、塗布液を吐出する孔の位置と乾燥抑制溶剤を吸引する孔の位置とを切り換える回動機構１１０を具備し、塗布液ノズルは乾燥抑制溶剤を吸引する時に、回動機構によりノズルバスを回動させて塗布液ノズルの塗布液を吐出する孔の位置から乾燥抑制溶剤を吸引する孔の位置に切り換え、ノズルバスの内部に設けられる乾燥抑制溶剤の貯留部から吸引を行う。 （もっと読む）

【課題】支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層、オーバー層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版において、高感度で耐汚れ性に優れたネガ型感光性平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層、オーバー層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版であって、該オーバー層の塗布、乾燥直後に３０〜５０℃、相対湿度３０〜７０％の条件で調湿した状態で巻き取り、その後、塗布物を３０〜５０℃、相対湿度３０〜７０％の条件で２４〜１６８時間加温することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送高さを高精度に制御し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布ステージ４は、空気を噴出する噴出孔４０ａと、空気を吸引する吸引孔４０ｂとが設けられている。噴出孔４０ａのそれぞれには、空気を供給する供給ラインＬ１が接続されており、吸引孔４０ｂのそれぞれには、空気を吸引する吸引ラインＬ２が接続されている。供給ラインＬ１の供給流量は、流量計１４ａが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１３の開度が調整されることによって制御される。また、吸引ラインＬ２の吸引流量は、流量計１４ｂが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１９ａの開度が調整されることによって制御される。なお、この供給流量および吸引流量の制御は、基板Ｗが塗布ステージ４上に搬送されてくるよりも前に実行される。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、かつ装置構成上の問題を伴うことなくフットプリントを小さくすることができ、かつ処理の自由度が高い、複数の処理ユニットを備えた処理装置を提供すること。
【解決手段】 搬送機構と、レジスト塗布処理部を含む複数の処理部とを内部に備えた塗布処理部２３と、塗布処理部２３と平行に配置され、搬送機構と、レジスト現像処理部を含む複数の処理部を内部に備えた現像処理部２４と、塗布処理部２３から被処理基板を受け取る第１のパスユニットと、現像処理部２４へ被処理基板を受け渡す第２のパスユニットとを備えた、被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部２７と、熱処理部２７に配置された被処理基板を搬送する別の搬送機構３６と、現像処理部２４と塗布処理部２３との間に設けられた直線状の空間部４０と、空間部４０内に配置され、被処理基板を搬送する処理部外搬送機構４１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板に液処理を行う液処理装置において、装置を構成する各部が使用できない状態になったときにスループットの低下を抑えることができる装置を提供すること。
【解決手段】第１のノズル、第２のノズルを備えた液処理装置を構成する。この液処理装置において、通常時は、第１のカップ群と第２のカップ群との間で交互に基板を受け渡し、両カップ群においてカップが順番に使用されるように基板搬送機構を制御すると共に、基板保持部、処理液供給系またはノズル支持機構が使用できない状態になったことにより第１のカップ群及び第２のカップ群の一方において基板の処理ができない状態になったときに、当該一方のカップ群のうちの使用可能なカップにより基板を処理するために、他方のカップ群を受け持つノズルが移動する。 （もっと読む）

【課題】基板に薬液を供給して液処理を行う液処理装置において、薬液の供給状態を確実に判定できる技術を提供すること。
【解決手段】基板保持部に保持された基板に、ポンプから配管及びノズルを介して薬液を供給して液処理を行う装置において、前記配管からノズルの先端部に至るまでの流路構成部材に歪みゲージが設けられた歪みセンサと、この歪みセンサの出力電圧を微分する微分回路と、この微分回路の出力に応じて薬液の供給状態を判定する判定部と、を備えるように装置を構成する。光学的な検出を行う場合よりも基板の表面状態や薬液の性質による影響が抑えられるので、精度高い判定を行うことができる。 （もっと読む）