【課題】塗布液の選択性を向上させ、多種多様な物性値を有する塗布液を用いても高精度の塗布処理を行うことができる回転塗布装置を提供する。
【解決手段】円形又は多角平面を塗布対象面とした被塗布物２に塗布液を塗布し、この被塗布物２を高速回転させることにより塗布液を拡散させて塗布膜を形成する回転塗布装置１において、被塗布物２を平行支持する平円板状の支持台３と、支持台３と離間を有するようにして平行に対向配置され、支持台３との離間に開放空間Ｓを形成する平円板状の平行平板４とを具備してなり、支持台３及び平行平板４がそれぞれ回転軸６０及び回転軸７０周りに独立して回転駆動される。 （もっと読む）

【課題】基板上に処理液が存在するか否かについて、簡易な構造で検出し、製品の歩留まりの悪化を抑えること。
【解決手段】スピンチャック２に静電センサ５４Ａ〜５４Ｃを埋設する。静電センサ５４の静電容量は、基板であるウエハＷ上に処理液が存在すると、存在しない場合に比べて大きくなる。従って静電センサ５４Ａ〜５４Ｃにより、スピンチャック２上のウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することができる。従って所定のタイミングでウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することによって、処理液ノズル４からの処理液の吐出や、基板上における処理液の拡散の異常を速やかに検出できるため、これらの異常に直ちに対処でき、製品の歩留まりの悪化を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】良好な接液によって均一なレジスト膜を形成することができるフォトマスクブランク、フォトマスク及びそれらの製造方法並びに塗布装置を提供すること。
【解決手段】レジスト液２１を塗布装置に備えられたノズル２２の毛細管現象により上昇させ、上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて被塗布面１０ａにレジスト膜を形成することを含むフォトマスクブランクの製造方法であって、接液の際には、ノズルの一端が、他端より被塗布面に接近することにより、前記ノズル内の前記塗布液が、前記ノズルの一端において、被塗布面に最初に接液し、前記最初に接液した点を接液起点として、前記一定長さのノズルの全長にわたる、接液がなされるようにした。 （もっと読む）

【課題】複雑な構成を用いることなく、塗布液が基板の裏面側に回り込んで付着することを抑制することができる塗布装置及び気流制御板を提供すること。
【解決手段】気流制御板１０の上板１１は、保持ヘッド１に保持された基板Ｗの周縁部から隙間３３をあけて配置されている。気流制御板１０の下板１２に設けられたガイド羽根１８の上面に、上板１１の下面１１ｂが当接することで、上板１１及び下板１２が一体的に固定され、これにより気流制御板１０が構成される。回転する気流制御ユニット５の気流制御板１０では、導入口１３からエアが導入され、導入されたエアは、主に辺方向流路１６内を流れ、また放射状流路１７内も流れる。特に、隙間３３を介して上板１１の下面１１ｂに周り込んだレジスト液３１は、表面張力により下面１１ｂに貼り付きながら、遠心力及び放射状流路１７を流れるエアにより排出口１５から排出される。 （もっと読む）

【課題】塗布工程のタクト時間を短縮し、且つ、現状より長時間をフォトレジスト供給２に費やし、より微小な異物を捕捉するフォトレジストの塗布方法及びスリットコータを提供する。
【解決手段】奇数枚目の基板への塗布には、第１フォトレジスト供給系４０ＡのディスペンスポンプＤＰ−Ａからスリットノズル２３へのフォトレジストの供給と、フォトレジスト貯蔵容器４３から１次ポンプ１Ｐ−Ａへの供給、及び第２フォトレジスト供給系４０Ｂの１次ポンプ１Ｐ−ＢからディスペンスポンプＤＰ−Ｂへの供給を行い、偶数枚目の基板への塗布には、第２フォトレジスト供給系のディスペンスポンプからスリットノズルへのフォトレジストの供給と、フォトレジスト貯蔵容器から１次ポンプへの供給、及び第１フォトレジスト供給系の１次ポンプからディスペンスポンプへの供給を行うこと。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタとして用いたときに様々な原因による信頼性の低下を抑制した表示装置用カラーフィルタを製造する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に熱処理してなるカラーフィルタ層を有し、前記カラーフィルタ層を形成するよりも先にカラーフィルタ層形成時の熱処理温度以上の温度で、前記プラスチックフィルムを加熱する表示装置用カラーフィルタの製造方法であり、前記プラスチックフィルムをカラーフィルタ層の形成より先に加熱するに際して、前記加熱を少なくともロール巻き出し装置、加熱炉、ロール巻き取り装置を備える熱処理装置を用いて連続的にロール・ツー・ロールで行う。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセス中に基板の位置合わせをする方法を説明する。
【解決手段】少なくとも１つのアライメントマークを含む第１のレジスト層を基板上に形成する。この第１のレジスト層を現像した後、第１のレジスト層の上に第２のレジスト層を堆積し、それによって平坦な上部面を残す（すなわちトポグラフィがない）。第２のレジスト層を適切にベークすることによって、対称アライメントマークを第２のレジスト層内に、第１のレジスト層内のアライメントマークからのオフセットエラーなく、またはほとんどなく形成する。第２のレジスト内に形成されるアライメントマークの対称性は、第１および第２のレジスト層のそれぞれの厚さ、被覆プロセスパラメータ、およびベーキングプロセスパラメータを適切に調整することによって向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 良好な回路の埋め込み性、作業性、支持体からの易はく離性、及びソルダーレジスト・永久レジストに要求される諸特性を備えた優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、それを用いた感光性エレメント、ラミネート方法、感光性永久レジストを提供する。
【解決手段】 （ａ）バインダーポリマー、（ｂ）１つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物、（ｃ）重合開始剤、（ｄ）軟化点が４０℃〜９０℃である熱硬化剤を含有する感光性樹脂組成物。前記（ａ）成分のバインダーポリマーが、エチレン性不飽和基及び２つ以上の水酸基を有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物と、ジイソシアネート化合物と、カルボキシル基を有するジオール化合物と、を反応させて得られたカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する重合性プレポリマーであると好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面に段差を有する基板の該段差部に微細樹脂構造体を形成する場合において、高い平坦性を有する樹脂構造体を製造する方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】固体エポキシ樹脂と液状エポキシ樹脂と光重合開始剤を配合することによって得られる、加熱により溶融軟化する固体光硬化性樹脂組成物を用い、（ａ）表面に段差を有する基板を覆うように、固体光硬化性樹脂組成物からなる未硬化樹脂層を形成する工程、（ｂ）未硬化樹脂層を溶融又は軟化する温度に加熱した状態で、その表面に平板を押圧接触させ、未硬化樹脂層が再固形化する温度にまで冷却して平板を除去することにより、平坦面を有する一次成形体を形成する平坦化工程、（ｃ）一次成形体の上面側から、マスクを用いて選択露光することにより所定領域のみを硬化させる工程、（ｄ）選択硬化された一次成形体の未露光部分を現像除去することにより樹脂構造体を形成する工程、を行う。 （もっと読む）

【課題】ノズル初期化機構で用いられる洗浄液を有効利用するとともに、配管構成を簡略化できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１のノズルメンテナンスユニット９は、ローラ９５と、ローラ９５を収納するローラバット９６と、ノズルの洗浄に用いられるノズル洗浄ユニット４０と、ノズル洗浄ユニット４０が待機する待機バット４１と、を備えている。このローラバット９６と待機バット４１とは連結管４２で連結されており、待機バット４１上の溶液はすべてローラバット９６へと送液される。そのため、スリットノズル５５やノズル洗浄ユニット４０より排出された洗浄液や処理液はすべて、ローラバット９６に一旦貯留され、予備吐出で処理液が吐出されたローラ９５外周面の洗浄に再利用できる。また、排気配管２５およびオーバーフロー廃液配管２３、ローラバット廃液配管２４をローラバット９６に設置すればよいので配管構成が簡略化される。 （もっと読む）