【課題】外観欠陥を生じにくい感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ポリイミド系樹脂またはその前駆体、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶媒および（ｄ）界面活性剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（ｄ）界面活性剤が（ｄ１）シリコン系界面活性剤および（ｄ２）フッ素原子を有する界面活性剤を含み、感光性樹脂組成物中の（ｄ１）の含有量をＸ質量％、（ｄ２）の含有量をＹ質量％とした場合、Ｘ＞Ｙ（Ｙ≠０）であり、かつ、（ｄ）界面活性剤の総量が感光性樹脂組成物中０．００５質量％以上０．１０質量％以下である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半透過反射型液晶表示素子基板上に、カラムスペーサと、優れた表示特性を示すために必要な高さを有する液晶配向用突起とを同時に形成することができる液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ネガ型レジスト組成物を半透過反射型液晶表示素子基板に塗工してレジスト膜を形成する工程１と、前記レジスト膜に、液晶配向用突起形成部及びカラムスペーサ形成部に対応するパターンの開口部が形成されたマスクを介して活性光線を照射する工程２、前記活性光線を照射した後のレジスト膜を現像することにより、カラムスペーサ及び液晶配向用突起を同時に形成する工程３とを有し、工程１において、半透過反射型液晶表示素子基板上のマルチギャップ間に塗工されるネガ型レジスト組成物の最も低い部分の高さが、マルチギャップとマルチギャップ上に塗工されるネガ型レジスト組成物との高さの合計の０．６〜０．９倍となるように塗工する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板や半導体ウエーハなどに感光性組成物皮膜を形成する工程において、基板の周辺部、縁辺部または裏面部に付着した未硬化の顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去、または装置部材や器具の表面に付着した未硬化の顔料を含有する感光性組成物の除去に有効な除去液を提供する。
【解決手段】未硬化の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる除去液であって、（ａ）炭素数が９以上の芳香族炭化水素が１０〜４０質量％、（ｄ）グリコールエーテル類、カルボン酸エステル類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、ケトン類およびアルコキシカルボン酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種であるその他の溶剤が３０〜９０質量％であり、かつ、除去液全量に対し、（ａ）と（ｄ）成分の合計が５０〜１００質量％となる量である。 （もっと読む）

【課題】新規な塗布液の塗布方法、塗膜の形成方法、ならびにそれを利用したパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、塗布液と希釈液とを含む混合液からなる液溜まりを形成する工程と、前記混合液を前記基板の表面に広げる工程とを有する方法により、基板上に塗布液を塗布することで、塗膜を形成する。あるいは、基板上に希釈液を滴下して、前記基板の全面を前記希釈剤で覆う工程と、前記希釈剤上に塗布液を滴下して、前記塗布液と前記希釈液とを含む混合液が存在する領域を形成する工程と、前記混合液を前記基板の表面に広げる工程とを有する方法により、基板上に塗布液を塗布することで、塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上、又は、ステージと基板との間に異物が存在している場合に、ガード部材から基板が押圧されることにより基板が損傷するのを抑えることができ、さらに、異物の存在を誤検知するのを抑制する塗布装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、スリットノズルよりも塗布進行方向側に取付けられ、スリットノズルを保護するガード部と、ガード部が衝突対象物に接触したことを検知する検知部と、を備えており、ガード部は、衝突対象物を接触させる衝突部と、この衝突部を基板から離れる側に変位させる変形促進部とを有しており、衝突部に衝突対象物が接触した状態から、さらに塗布ユニットが塗布進行方向に移動すると、衝突部が基板から離れる側に変位し、検知部はガード部に衝突対象物が接触したことを検知する構成とする。 （もっと読む）

【課題】より少ない供給量で、レジスト液等の塗布液をウェハ全面に効率よく塗布することができ、レジスト液等の塗布液の消費量を削減することができる塗布処理方法を提供する。
【解決手段】第１の回転数Ｖ１でウェハＷを回転させ、回転するウェハＷの略中心上に塗布液を供給する第１の工程Ｓ１と、第１の工程Ｓ１の後に、第１の回転数Ｖ１よりも低い第２の回転数Ｖ２でウェハＷを回転させる第２の工程Ｓ２と、第２の工程Ｓ２の後に、第２の回転数Ｖ２よりも高い第３の回転数Ｖ３でウェハＷを回転させる第３の工程Ｓ３と、第３の工程Ｓ３の後に、第２の回転数Ｖ２よりも高く第３の回転数Ｖ３よりも低い第４の回転数Ｖ４でウェハＷを回転させる第４の工程Ｓ４とを有する。 （もっと読む）

【課題】より少ない供給量で、レジスト液をウェハ全面に効率よく塗布することができ、レジスト液の消費量を削減することができるレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】略静止したウェハの略中心上に、溶剤を供給する溶剤供給工程Ｓ０と、溶剤供給工程Ｓ０の後に、ウェハの略中心上であって溶剤の上にレジスト液を供給しつつ、第１の回転数Ｖ１でウェハを回転させる第１の工程Ｓ１と、第１の工程Ｓ１の後に、第１の回転数Ｖ１よりも低い第２の回転数Ｖ２でウェハを回転させる第２の工程Ｓ２と、第２の工程Ｓ２の後に、第１の回転数Ｖ１よりも低く第２の回転数Ｖ２よりも高い第３の回転数Ｖ３でウェハを回転させる第３の工程Ｓ３とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材上に良好な面状の塗布層を短時間で塗設できるフォトマスクブランクスの製造方法、及びそれにより得られたフォトマスクブランクス、並びに、ガラス基材との密着性に優れた遮光層を有するフォトマスクの提供。
【解決手段】透明ガラス基材を洗浄するガラス洗浄工程、及び、洗浄後の透明ガラス基材上に、遮光材料を少なくとも含有する感光性組成物層、及び酸素遮断性層を含む各塗布層を塗設するための塗布液を、塗布層毎に、順次、塗布し、乾燥する塗布乾燥工程を有し、該塗布乾燥工程における各塗布液の乾燥が、３μｍ〜７μｍに極大波長を有する赤外線を放射する赤外線ヒーターを用いた加熱により行われるフォトマスクブランクスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の面内膜厚均一性の悪化を抑制する。
【解決手段】転写パターンとなる薄膜が形成された薄膜付き基板上にレジスト膜が形成されたマスクブランクスである。レジスト膜は、前記基板の周縁部におけるレジスト膜の不要部分が除去されている。また、レジスト膜は、転写パターンが形成される領域において、膜厚の最も厚い位置におけるレジスト膜の膜厚と、膜厚の最も薄い位置におけるレジスト膜の膜厚との差異が５０オングストローム以下である。 （もっと読む）