【課題】マニホールド内のエアを十分に排出可能なダイヘッド及びこれを備えたダイコーターを提供する。
【解決手段】レジスト液Ｒを第１及び第２スリット２４、２５に供給するマニホールド２３が長手方向に延びて形成され、マニホールド２３の上端にはレジスト液Ｒを導入する導入口１５が設けられ、マニホールド２３の下端と連結される第１及び第２スリット２４、２５からレジスト液Ｒが吐出されるダイヘッド３において、マニホールド２３を形成する上壁面２２ｅが、導入口１５を下端として長手方向に勾配を有し、その上端にはエアを排出するエア排出口１６ａ、１６ｂが設けられている。 （もっと読む）

【課題】レジスト層から適正量の溶媒を揮発させて、露光後の正確なレジストパターンを実現するレジスト膜形成装置並びに方法を提供する。
【解決手段】基板を回転させながらレジスト４を滴下して回転延伸させ、基板２にレジスト４が塗布された試料を加熱する。このとき、計量部４２により加熱されている試料の重量を計量する。そして、計量された試料の重量に基づいて、試料に塗布されたレジスト４から一定量の溶媒が揮発するまで加熱を行い基板２上にレジスト層Ｒｎを成膜する工程を実行する。さらに、試料に成膜されたレジスト層Ｒｎ上にさらにレジスト層を成膜する工程を所定回数繰り返し実行し、試料に複数のレジスト層を積層する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、所望のストライプ状パターンを有する塗布膜を形成可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置は、塗布対象としての基板を保持するステージと、複数並設された吐出口と各吐出口に向かって塗布液が流通する流路とを有し、かつステージ側に吐出口を向けて配置されたノズル部とを備える。ノズル部では、各吐出口の周辺部において各流路の内壁部よりも撥液性が高くなっている。流路を伝わって吐出口から吐出された塗布液が、各吐出口の形状および大きさに応じた幅および膜厚で、基板上に塗布される。 （もっと読む）

【課題】 ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。
【解決手段】 洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。 （もっと読む）

【課題】処理液中に混入している気泡を除去する脱気性能を向上させることができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに処理液を吐出する吐出ノズル５１ａと、吐出ノズルを保持してウエハＷ側に移動可能に形成されるノズルアーム６０と、ノズルアームと処理液供給源を接続する処理液供給管７１ａと、ノズルアームに配設され、吐出ノズルと処理液供給管を接続し、気液分離機能を有する部材により形成される気液分離管８０ａと、ノズルアームに配設され、気液分離管の周囲を密閉する密閉室６１と、密閉室内を減圧して脱気する脱気機構８５と、を具備する。これにより、脱気機構により密閉室内を減圧して気液分離管を流れるレジスト液Ｒから気泡Ｂを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板１０上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板１０が載置され、少なくとも１８０度回転可能な回転テーブル３２と、基板１０の中心を通る第１の方向（Ｘ方向）軸で２分割された第１の基板周辺領域及び第２の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板１０の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部５０と、基板１０と樹脂膜形成ヘッド部５０を相対的に、第１の方向とは直交する第２の方向（Ｙ方向）に移動させる移動機構４５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】パターン形成装置と塗布現像装置との間における基板の搬送スループットの向上に有利となるパターン形成装置および塗布現像装置を提供する。
【解決手段】このパターン形成装置は、隣設される塗布現像装置との間で基板の受け渡しを実施する。パターン形成装置側の第１制御部は、基板に対してパターン形成処理を開始するに際し、第１搬送ハンド３５の動作を開始させたとき、またはその後、塗布現像装置側の第２制御部に対して、新たな基板の受け渡し動作を予告する第１信号（Ｓ４１−２）を送信して予め第２搬送ハンド５２の動作を開始させ、第２搬送ハンド５２の動作中に、第２搬送ハンド５２の動作を要求する第２信号（Ｓ４１−４）を送信する。 （もっと読む）

【課題】薄膜成膜方法および光学素子の製造方法において、被成膜体の外縁部における薄膜形成材料の滞留による膜厚ばらつきを容易に低減することができるようにする。
【解決手段】被成膜体１０上の凸面部１０ａに液状の薄膜形成材料９を供給し、被成膜体１０を回転することにより凸面部１０ａ、コバ平坦面１０ｂ上で薄膜形成材料９を塗り拡げて成膜する薄膜成膜方法であって、被成膜体１０を回転する前に、薄膜形成材料９をコバ平坦面１０ｂの外縁部から、より外方に案内する塗布案内面１０ｃを設けておく方法とする。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムの製造プロセスにおいて、触媒酸化設備の排出口の排熱の再利用を可能にすること。
【解決手段】溶剤を含む感光性樹脂組成物溶液をキャリアフィルムに塗工するための塗工設備１、該塗工された感光性樹脂組成物溶液に含まれる溶剤を乾燥させるための乾燥設備２、該乾燥設備から発生する排ガス中の該溶剤成分を酸化により処理するための触媒酸化設備３、及び該触媒酸化設備の排出口の排熱を利用する排熱ボイラー設備４、を含むドライフィルム製造装置。 （もっと読む）