【課題】少なくとも２つの交互材料の層を有する多層系を備えた反射面を基板上に含む紫外から極紫外までの波長範囲の反射光学要素、及び投影露光装置を提供する。
【解決手段】作動波長で屈折率の異なる実数部を有する少なくとも２つの交互材料の層（４１，４２）を有する多層系を備えた反射光学要素を提案し、作動波長である一定の入射角帯域幅分布を有する放射線は、反射光学要素上に入射することができ、反射面は、層（４１，４２）が第１の周期の厚み（Ｐ１）の交互材料を有する１つ又はそれよりも多くの第１の部分（Ａ１）と、交互材料の層（４１，４２）が第１（Ｐ１）及び少なくとも１つの更に別の周期の厚み（Ｐ２）を有する１つ又はそれよりも多くの更に別の部分（Ａ２）とを含み、反射面にわたる第１（Ａ１）及び更に別の部分（Ａ２）の配列は、入射角帯域幅分布に適応される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明基板に加工を行う場合に、搬送や露光等を問題無く行うことができ、適切に加工を行うことができる透明基板の加工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板１０、１５の加工方法であって、
前記透明基板１０、１５の表面上の全面を覆うように、光を反射する反射層２０を形成する反射層形成工程と、
前記反射層２０上に、レジスト層９０を形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層９０を露光によりパターニングし、開口部９１を形成するレジストパターニング工程と、
前記開口部９１にある前記反射層２０をエッチングにより除去する反射層部分エッチング工程と、
前記開口部９１にある前記透明基板１０を加工する透明基板加工工程と、
前記レジスト層９０を除去するレジスト除去工程と、
前記反射層２０の残りの部分を除去する反射層全面除去工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置上から基板を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板搬出装置６０は、基板が載置された基板トレイ９０を吸着保持して、水平面に平行にスライドさせることにより、基板トレイ９０を基板ホルダ５０から搬出し、エア浮上装置６８上に載置する。また基板搬出装置６０では、基板トレイ９０が進行して来る前に予めエア浮上ユニット６８を、その上面が基板ホルダ５０に近い側が低くなるように傾斜させておき、基板トレイ９０の進行に応じて水平に姿勢を制御する。基板トレイ９０は、傾斜したエア浮上装置６８のガイド面に対して進入するので、基板ホルダ５０のエア浮上装置５５からエア浮上装置６８にスムーズに載り移ることができる。従って、基板トレイ９０を高速でスライドさせることができ、基板の搬出を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース４１は、盤面５１ａに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔５２と、盤面５１ａに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔５３と、ベース５１の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔５２から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路５４と、を備えている。ここで、圧損回路５４は、水平方向に曲がる曲がり部６４を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、当該塗膜又は成形体に所定パターン状に電磁波を照射後、未露光部の塗膜を除去してパターンを形成する現像工程の前に、当該塗膜又は成形体を加熱する工程を有するレリーフパターンの製造方法であって、前記加熱する工程が、系外から積極的かつ継続的に気体が供給され、且つ、当該塗膜又は成形体から発生する揮発性成分が系外に積極的に除去される雰囲気下で、熱媒体を介するか、電磁波の輻射により、当該塗膜又は成形体を加熱する工程であることを特徴とする、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】投影システムと本流体ハンドリング構造に対向する対向面との間に定義される空間に液浸液を供給するよう構成された流体ハンドリング構造が開示される。本流体ハンドリング構造の下面は、対向面に向けて流体を供給するよう構成された供給開口と、本流体ハンドリング構造と対向面との間から流体を除去するよう構成された複数の抽出開口と、供給開口と複数の抽出開口との間の突出部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】平網画像領域や小点画像領域を含む各種画像に対して安定した印刷濃度を得ることができる印刷用凸版を作成するための印刷用凸版作成装置、システム、方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】ラスタ画像データＩｒに基づいて２値画像データＩｂを生成し、各網点突起部２０４の高さを決定するための高さ変換マトリクスＭｈをラスタ画像データＩｒに基づいて生成し、生成された２値画像データＩｂに基づき形成される平網部Ａで網点突起部２０４の高さが複数の高さレベルからなる印刷用凸版Ｃを作成するため、生成された高さ変換マトリクスＭｈと２値画像データＩｂとに基づいて露光量データＤｅを生成し、生成された露光量データＤｅに基づいて版材Ｆを露光する。 （もっと読む）

【課題】結像光学系の物体視野を配置することができる投影リソグラフィ用の照明光学系、照明系、投影露光系、を提供する。
【解決手段】第１のファセットミラーは、照明光束のうちの部分光束（２４）の反射誘導のための複数のファセット（７）を有し、ファセット（７）の反射面（２５）は傾斜可能である。第１の照明傾斜位置では、ファセット（７）は、入射する部分光束（２４）を第１の物体視野照明チャンネル（２６）に沿って照明視野に誘導する。照明光学系は、複数の第２のファセット（１１）を有する第２のファセットミラー１０を含み、第１のファセット（７）は、照明傾斜位置に依存して物体視野照明チャンネル（２６）を事前に判断する。第１のファセット（７）に割り当てられた第２のファセット（１１₁，１１は、第２のファセットミラー（１０）の２つの円錐断面線によって制限された部分上に位置する。 （もっと読む）

【課題】ワークに塗布したレジストの経時的な感度変化に合わせて露光量を変更し、一巻きの帯状ワークの全ての露光領域を所望の露光精度で露光できるようにすること。
【解決手段】巻き出しロール１から巻き出された帯状ワークＷは、露光部３に搬送され、光照射部４からマスクＭを介して照射される露光光により露光される。制御部２０には、ワークに塗布されたレジストの経時的な感度特性の変化に応じた露光時間の減少量、最後の露光領域の露光時間等のパラメータが記憶されており、制御部２０は帯状ワークの露光回数をカウントし、露光を開始してからのカウント値と、上記パラメータに基づき、露光しようしている露光領域の露光時間を求める。そして、この露光時間に応じて、シャッタ機構６のシャッタ板６ａの開時間を制御して、帯状ワークの各露光領域を上記求められた露光時間になるように制御する。 （もっと読む）