【課題】ドットゲインの軽減、マージナル抑制により高精細・高画質の印刷を実現できる凸版印刷版を得る。
【解決手段】印刷画像を表す多値画像データに基づき２値画像データを生成する工程と、２値画像データから目標立体形状データを生成する工程と、目標立体形状データに基づいて露光量データを算出する工程と、２値画像データのＯＮ画素に近接する画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、露光量データに基づき版上のＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して版上に残す領域の外側部分を彫刻し、エッジ露光量設定工程で設定された露光量に基づき版上の画像外近接画素にレーザ光を照射して画像部に対応するレリーフ頂面の縁部の角部の少なくとも一部が面取りされた凸部形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻工程と、により凸版印刷版を製造する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロウェッティングを用いて、高い解像度が得られるとともに、必要に応じて各画素を通過する光の位相を制御可能な空間光変調器を提供する。
【解決手段】配列面ＤＰに入射する光を変調する空間光変調器２８は、配列面ＤＰを横切るＺ方向に沿った隔壁部３３ａを有するセル部３４と、セル部３４に収容される互いに屈折率及び誘電率が異なる液体Ｌｑａ，Ｌｑｂと、セル部３４の窓部に設けられる透明電極３６と、セル部３４の底面に設けられる底面電極３７と、を備え、透明電極３６及び底面電極３７に印加する電圧によって、セル部３４内における液体Ｌｑａ，Ｌｑｂの厚さの比を制御する。 （もっと読む）

【課題】 パターン精度の劣化及びスループットの低下を抑制することが可能な露光方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係る露光方法は、表面にレジスト膜が設けられた被処理基板の複数のパターン転写領域それぞれに対してフォトマスクを介して第１の露光を行う工程（Ｓ１２）と、パターン転写領域の一部にオーバーラップするようにして被処理基板の周辺領域に対して第２の露光を行う工程（Ｓ１３）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】微細なブロックコポリマーのミクロ相分離パターンを得ることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工膜１１上に、表面エネルギーの異なる第１の表面エネルギー調整層１２ｃ、第２の表面エネルギー調整層１２ｄが交互に平行に並んだガイドパターンを形成し、ガイドパターン上に第１および第２のブロック鎖を含むブロックコポリマー層１３を形成し、ブロックコポリマーをミクロ相分離させ、ガイドパターンに基づいてブロックコポリマーを配向させる。第１の表面エネルギー調整層１２ｃは第１のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、第２の表面エネルギー調整層１２ｄは第２のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、ガイドパターンの周期はブロックコポリマーの周期の３以上の整数倍であり、第１の表面エネルギー調整層１２ｃ、第２の表面エネルギー調整層１２ｄ各々の幅は、ブロックコポリマー半周期の３以上の奇数倍である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ウェハで多重露光されるチップの境界領域に相応するマスク領域からＥＵＶ及びアウトオブバンドの反射を除去した反射型マスクを提供することを目的とする。
【解決手段】基板と、基板上に形成された露光光を反射する多層反射膜と、多層反射膜の上に形成され、多層反射膜を保護する保護膜と、保護膜の上に形成され、露光光を吸収する光吸収膜と、基板の、多層反射膜が形成された面の反対面上に形成された導電膜とを備えるマスクブランクであって、導電膜は、微細構造パターンにより露光光の反射を抑制するモスアイ構造体を有する。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するチャックを移動する移動ステージの移動に伴うケーブルからの発塵を抑制して、マスク及び基板に塵が付着するのを防止する。
【解決手段】チャック１０を搭載する移動ステージと、移動ステージに接続された複数のケーブル５１と、複数のケーブル５１を押さえるケーブル押さえ部材３２ｃが設けられた複数の連結されたケーブル収容具３２を有し、各ケーブル収容具３２のケーブル押さえ部材３２ｃに超高分子量ポリエチレンから成る潤滑層（超高分子量ポリエチレンチューブ３２ｄ）が設けられたケーブルガイド３０とを備える。ケーブルガイド３０に収容されたケーブル５１により移動ステージへ電力を供給して、移動ステージによりチャック１０を移動する。 （もっと読む）

【課題】露光対象となっている回路パターン領域以外から光が反射することなく、精度よく露光転写ができる反射型露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光に不要な波長を吸収する材料を含有する基板上に多層反射膜、保護膜、吸収膜、裏面導電膜が形成された反射型マスクブランクスを準備する。次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。次に、前記遮光枠領域において保護膜と多層反射膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】部品点数及び制御軸数を削減し、装置の小型化を図る。
【解決手段】基板７を複数の露光領域に分割し、基板７に投影する露光パターンが描かれた投影マスクを基板７の分割された露光領域にそれぞれ対応するよう複数の転写領域に分割し、分割された基板７の露光領域ごとに露光を行う分割露光装置において、投影マスクの上方位置に近接して配置され、投影マスクの面と平行にＸ方向に往復移動可能な遮光体２５と、遮光体２５の上方位置に近接して配置され、前記投影マスクの面に平行に前記Ｘ方向と直交するＹ方向に往復移動可能であって、基板７及び投影マスクの位置決めマークを撮像するＣＣＤカメラ１３−１〜４を覆うためのカバー５７と、を備え、遮光体２５及びカバー５７をそれぞれ所定の露光領域以外の光を遮蔽する位置に位置決めし、前記所定の露光領域を露光する。 （もっと読む）

【課題】迅速かつ的確な診断を行うことが可能な極端紫外光発生装置の診断方法を提供する。
【解決手段】極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の時系列データを生成する工程Ｓ２と、時系列データから統計データを生成する工程Ｓ３と、統計データに基づいて光源部の発光状態を評価する工程Ｓ４とを備える。 （もっと読む）

【課題】１単位時間当たりの露光可能なダイの数を最適化するために、新たなドーズ制御方法を提供する。
【解決手段】対応する励起レーザ放射のパルスによってＥＵＶ放射のパルスが燃料材料の励起から生成される変換効率を変化させることによって、リソグラフィ装置のＥＵＶ露光ドーズをパルス毎に制御する。変換効率は、レーザビームと相互作用する燃料材料の割合を変化させることによって、および／または、相互作用の質を変化させることによって、いくつかの異なる方法で変化させることができる。変換効率を変化させるメカニズムは、レーザパルスタイミングを変化させること、プリパルスエネルギーを変化させること、および／または、１つ以上の方向でメインレーザビームを可変的にずらすことに基づくことができる。生成されたＥＵＶ放射の対称を維持する工程を含むことができる。 （もっと読む）