【課題】２つの基板のそれぞれに形成されたアライメントマークの両方に同時にピントを合わせることができない場合であっても、それらの位置合わせを高精度に行うことを可能にする。
【解決手段】パターンを転写される基板に形成されるアライメントマークＡＭ１は、正方形の中実図形であるアライメントパターンＡＰ101〜ＡＰ109、ＡＰ111〜ＡＰ114を配列してなるものとする。一方、基板に転写すべきパターンを担持するブランケットには、アライメントマークＡＭ２として、環状の中空矩形のアライメントパターンＡＰ２をパターンと同じ材料で形成する。アライメントマークＡＭ１は、低い空間周波数成分をアライメントパターンＡＰ２よりも多く含むパターンにより構成されており、ピントが合わない状態で撮像された場合でも重心位置を精度よく検出することが可能である。 （もっと読む）

【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材２０の位置を調整する被露光部材位置調整装置１００と、被露光部材２０に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク３０の位置を調整するマスク位置調整装置２００とを備える露光装置１０であって、直交する２軸の一方の軸をＸ軸とし、他方の軸をＹ軸としたとき、被露光部材位置調整装置１００は、被露光部材２０をＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面上におけるＸ軸に沿った方向及びＹ軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置２００は、マスク３０をＸＹ平面に直交するＺ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。 （もっと読む）