【課題】基板表面の高さレベルを決定する際のより多くの融通性及び／又は効率的レベルセンサ技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗ表面の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、基板Ｗ上の反射後に測定ビームを受光するように配置された検出ユニットを備え、検出ユニットは、各検出素子が測定エリア８１、８２、８３、８４の測定サブエリア８ａ上に反射した測定ビームの一部を受光するように配置された検出素子のアレイを備え、それぞれの検出素子によって受光された測定ビームの部分に基づいて測定信号を提供するように構成され、処理ユニットは、測定サブエリア８ａでの選択された解像度に応じて、測定サブエリア８ａの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリア８ａの組合せの高さレベルを計算するように構成された、レベルセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留りを向上させることができる画像記録方法、および画像記録システムを提供する。
【解決手段】描画パターンが形成される被描画体の露光面の凹凸形状を形状測定器で測定する。これにより得られた凹凸形状の変位データを波形鈍化処理部８１で補正して、プリズムペアによる光ビームの焦点調節が可能となるようにする。波形鈍化処理部８１を経た変位データと、元の変位データとの差分を差分算出部８２で算出する。差分算出部８２で得られた差分の最大値と閾値とを露光可否判定部８３で比較し、この比較結果に基づいて、露光可否を判定する。露光可能であると判定された場合、波形鈍化処理部８１を経た変位データに応じて、プリズムペアの駆動を制御する。露光不可であると判定された場合は、露光記録は行わない。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。露光装置は、基板を保持する基板ホルダを有し、基板ホルダに基板を保持して移動可能な基板ステージと、基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージの可動領域を変更する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを用いて露光装置の検査を行う際に、高精度な転写パターンを形成し、回折光検出データを取得し、高精度の検査結果を得ることが可能な露光装置の検査方法、及び露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置の検査方法では、両端間に位置するパターンと異なるパターン幅を有する第１ピッチで並んだ複数のストライプ形状のパターンを含む第１のパターン群２０１と、第２ピッチで並んだ複数のストライプ形状のパターンを含む第２のパターン群２０２とを有するフォトマスク１１２に、光軸に対し傾いた方向から前記フォトマスク上に照明して、前記第１及び第２のパターン群からそれぞれ第１及び第２の回折光を発生させる。ウエハ上に、前記第１の回折光による第１の像と、前記第２の回折光による第２の像とを結像させ、第１の像と前記第２の像との間の相対距離を測定し、前記相対距離に基づいて、前記露光装置の投影光学系の状態を検査する。 （もっと読む）

【課題】レチクルのパターンを基板に投影するときの基板の光軸に沿った方向の位置決定技術を提供する。
【解決手段】レチクル３０のパターンを基板６０に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を駆動するステージ７０と、前記投影光学系の光軸に直交する第１の方向に長手方向を有する第１のパターン、及び、前記第１の方向と平行ではなく且つ、前記投影光学系の光軸に直交する第２の方向に長手方向を有する第２のパターンのそれぞれを前記投影光学系の物体面に配置したときに、前記第１のパターンの結像する第１の結像位置、及び、前記第２のパターンの結像する第２の結像位置のそれぞれを取得する取得部１００と、前記レチクルのパターンを前記基板に投影するときの前記基板の前記光軸に沿った方向の位置を決定し、決定した位置に前記基板が位置決めされるように前記ステージによる前記基板の駆動を制御する制御部１１０と、を有する露光装置。 （もっと読む）

【課題】投影光学系のフォーカス情報を高い計測再現性で、かつ高い計測効率で計測する。
【解決手段】フォーカステストレチクルＴＲに設けられた３つの評価用パターン１２Ａ〜１２Ｃの外側パターン１４は、それぞれＹ方向に延びた遮光膜よりなるラインパターン１４Ａと、ラインパターン１４Ａの＋Ｘ方向側に設けられ、線幅がラインパターン１４Ａより狭く形成された位相シフト部１５Ｃと、ラインパターン１４Ａの−Ｘ方向側に設けられ、線幅がラインパターン１４Ａより狭く形成された透過部１５Ｂと、位相シフト部１５Ｃの＋Ｘ方向側に設けられた透過部と、を有し、評価用パターン１２Ａ〜１２Ｃの位相シフト部１５Ｃ及び透過部１５Ｂの線幅ｂ，ｂ１，ｂ２は互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】露光品質制御方法を提供する。
【解決手段】露光装置に適用する露光品質制御方法で、露光装置は、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム(real-time imaging performance control system)である。露光装置は、露光条件に基づいて、ウェハに対し露光動作を実行する。本発明の露光品質制御方法は、焦点管理方法を用いて、露光装置の第一焦点を得るステップと、第一焦点に基づいて、露光装置を調整するステップと、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム測定を行い、露光装置の第二焦点を得るステップと、第二焦点に基づいて、露光装置を調整するステップと、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム測定を行い、露光装置の第三焦点を得るステップと、第三焦点に基づいて、露光条件を生成するステップと、からなる。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を抑制しつつ焦点ずれの発生を低減する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と、原版ステージと、基板ステージと、筐体の一端面と前記原版ステージの第１基準面間の距離を検出する第１検出器と、筐体の他端面と前記基板ステージのた第２基準面間の距離を検出する第２検出器と、前記筐体の前記一端面と前記他端面間の距離情報を検出する第３検出器と、前記原版ステージのマークと前記投影光学系と前記基板ステージのマークとを通過する光を検出して前記投影光学系のフォーカス状態を計測する計測器と、を備える。前記制御部は、前記第３検出器による前記情報が許容範囲内でないなら前記投影光学系のフォーカス制御を行い、許容範囲内なら前記第１検出器の結果に基づいて前記原版の面が前記投影光学系の物体面に位置し、前記第２検出器の結果に基づいて前記基板が前記投影光学系の像面に位置するようにフォーカス制御を行う。 （もっと読む）