【課題】ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。
【解決手段】ワークＷのマークとマスクのアマークとを検出する少なくとも２つのアライメント検出系１５２と、露光領域Ｐに位置するワークＷとマスクとのギャップをそれぞれ検出する少なくとも３つのギャップセンサ１５３と、マスク保持部をＸＹ方向、およびθ方向に駆動可能、且つチルト駆動可能なマスク駆動機構２００とを有し、マスク駆動機構２００は、アライメント検出系１５３で検出された両マークのずれ量に基づいて、マスク保持部を水平面上で駆動することでワークＷとマスクとのアライメントを調整するとともに、マスク駆動機構２００は、ギャップセンサ１５３によって検出されたギャップに基づいて、マスク保持部をチルト駆動することで、ワークＷとマスクとの相対的な傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】各主走査において光ビームの合焦位置を基板の主面上に精度よく合わせる。
【解決手段】パターン描画装置は、基板９の主面との間の検出距離を取得する距離検出部５およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構４７１を備える。往路または復路である各主走査において主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画する際に、次の主走査にて描画が行われる線状領域に対して複数の検出距離が取得され、直前の主走査にて取得された複数の検出距離を用いて複数回のフォーカス調整が行われる。制御部６の制御により、主走査方向に関して、往路および復路のそれぞれにて複数の検出距離が取得される検出位置と、複数回のフォーカス調整が完了する際の照射領域の複数の位置とが一致するとともに、往路および復路における複数の検出距離の検出位置が近似する。これにより、各主走査において光ビームの合焦位置が主面上に精度よく合わせられる。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】チャック１０の露光位置側の周辺部に第１の真空区画１０ａを設け、チャック１０の中央部に第２の真空区画１０ｂを設け、チャック１０の露光位置と反対側の周辺部に第３の真空区画１０ｃを設け、受け渡し位置で、基板１をチャック１０に搭載し、第１の真空区画１０ａの真空引きを行った後、チャック１０を受け渡し位置から露光位置へ移動するのと並行して、第２の真空区画１０ｂの真空引きを行い、第２の真空区画１０ｂの真空引きを行った後、第３の真空区画１０ｃの真空引きを行う。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板に対して光学系を用いてパターンを露光する露光方法であって、光学系としての干渉式光学系及び可変成形光学系を準備すること、基板と干渉式光学系及び可変成形光学系とを所定の走査方向に沿って相対走査すること、相対走査中に、干渉式光学系を用いて走査方向に平行なパターンを基板上に露光する干渉露光と、可変成形光学系を用いる可変成形露光と行なう。 （もっと読む）

【課題】表示パネル用のガラス基板のレジストの露光に好適な深い焦点深度を得ることにある。
【解決手段】露光方法は、ハーフトーンマスク２４を用い、また露光用光源１２からのｉ線を、ハーフトーンマスク２４を介して、等倍投影光学系２６に通し、前記光学系２６を経たｉ線をガラス基板２８のレジスト３０に照射することを含む。前記光学系２６は次式により得られる特定範囲の開口数ＮＡ２を有する。 ＮＡ２＝ｋ１×０．３６５／Ｒ （もっと読む）

【課題】フォーカスモニターマスクを使用して高精度に実デバイスマスクの平坦度を計測することが可能な露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】マスクのパターンを投影光学系で基板上に投影する露光装置の露光方法であって、第１のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、第１のマスクのパターンを投影光学系で投影した際の像面の状態を求めるステップと、像面の状態に基づいて、基板上の結像状態を変化させる露光装置の駆動系の駆動量に関連する情報を求めるステップと、第２のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、第１のマスクの平坦度に関連する情報と第２のマスクの平坦度に関連する情報とを用いて、駆動系の駆動量に関連する情報を変更するステップと、変更した駆動量に関連する情報に基づいて駆動系を駆動して、第２のマスクのパターンを投影光学系で基板上に投影するステップとを有する露光方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】絶縁材料上に接合された導電性材料にドライエッチングを施して、多数並列配置された個々のパターンを形成するにあたり、パターンの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常が生じないパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】エッチングマスク５が、多数並列配置されたパターンに対応するエッチングマスク４Ａの内、導電性材料１４の外周部から複数個内側までの各エッチングマスク４Ａを隣のエッチングマスク４Ａと連結部７Ａで連結するように形成する。プラズマ加工中に帯電する電子による導電性材料１４の面内電位差の発生を抑制し、照射イオンの歪曲を抑えて、パターン４Ａの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常を防止できる。 （もっと読む）

【課題】絶縁材料上に接合された導電性材料にドライエッチングを施して、多数並列配置された個々のパターンを形成するにあたり、パターンの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常が生じないパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】個々のパターンに対応するエッチングマスク５をパターンを形成する必要のない導電性材料１４の外周領域まで含めた全面にパターニングし、エッチングによって基板３の全面にパターンを形成する。これにより、電位勾配が急な外周領域のパターンに積極的にエッチング異常が集中させ、内側の領域を正常なエッチング領域として確保できる。 （もっと読む）

【課題】 マスクの保持力を向上させることで、露光後に基板をマスクから離す速度を速くしてもマスクがずれるのを防止し、これにより、スループットの向上を図る。
【解決手段】 マスクＭを真空吸着する真空吸着枠２６の枠内に透明板ガラス４０を固定配置し、この透明板ガラス４０とマスクＭとの間の空気を真空吸引することにより、真空吸着枠２６及び透明板ガラス４０によってマスクＭを真空吸着する。 （もっと読む）