【課題】分散性、分散安定性に優れた着色硬化性組成物の調製方法を提供し、それによって得られた着色硬化性組成物を提供し、また、色純度が高く、色ムラ発生が抑えられたカラーフィルタの製造方法を提供し、それによって得られたカラーフィルタを提供し、さらに高解像度の固体撮像素子を提供する。
【解決手段】少なくとも染料を有機溶剤に溶解して染料溶液を調製する工程、少なくとも顔料を分散剤で分散して顔料分散液を調製する工程、および前記染料溶液と前記顔料分散液を混合する工程、を有する着色硬化性組成物の調製方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有膜形成用組成物は、下式（１）で表される化合物由来の構造単位（ａ１）を含有するポリシロキサンと、有機溶媒と、を含有する。


〔式中、Ｒ^１は、ｂ価の置換されてもよい芳香族炭化水素基又は置換されてもよい複素環基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して１価の有機基を表す。ａは０〜１の数であり、ｂは２又は３である。Ｘ^１は、単結合、置換されてもよいメチレン基、炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又はフェニレン基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】異なる領域のパターン間に重ね合わせズレを発生させずに、一の領域に微細な狭ピッチパターンを形成すると同時に他の領域に微細パターンを形成する。
【解決手段】第１領域１０１及び第２領域１０２を含む基板１００上に被加工膜１２１を形成した後、各領域間で膜厚が異なる下層レジスト膜１２２及び１２３を形成し、その後、中間層レジスト膜１２４及び上層レジスト膜１２５を形成する。ホールパターン形成用の露光マスクを用いて上層レジスト膜１２５をパターニングした後、それをマスクとして中間層レジスト膜１２４をパターニングし、その後、それをマスクとして下層レジスト膜１２２及び１２３をパターニングした後、それをマスクとして被加工膜１２１をエッチングすることにより、各領域で開口寸法が異なる複数のホール１５１ａ及び１５１ｂを同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、上記問題を鑑み、ウエハ上に樹脂膜形成する際、気泡によるクラックを抑制でき、信頼性に優れた樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜、保護膜、絶縁膜、半導体装置および表示体装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の樹脂ワニスは、半導体ウエハまたは表示体装置に用いられる樹脂膜を形成するための樹脂ワニスであって、前記樹脂ワニスは、５０［ｃｃ］容量のメスシリンダーに液面高さが２０ｃｍとなるように該樹脂ワニスを採取し、ゲージ圧−９８［ｋＰａ］で６０分間処理した際の気泡の数が５個以下であることを特徴とする。また、本発明の樹脂膜は、上記に記載の樹脂ワニスを塗布してなることを特徴とする。また、本発明の半導体装置は、上記に記載の樹脂膜を有していることを特徴とする。また、本発明の表示体装置は、上記に記載の樹脂膜を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】１ｍｍ未満の版厚の樹脂凸版印刷版でも印刷時の耐刷力、耐圧力が大きく、画像形成性およびその再現性に優れた軽量な樹脂凸版印刷版およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の樹脂凸版印刷版１７は、フィルムベース１５上に層厚４５０μｍ〜７８０μｍの感光性樹脂層を形成した感光性樹脂凸版の版材１０を備え、版材１０の表側に密着固定されたネガフィルム１８を通して入射される紫外線のレリーフ露光と、版材１０の裏側に密着されたポジフィルムを通して入射されるバック露光とにより、感光性樹脂層１３にレリーフ像２２とバック析出層２３とを凝固させ、感光性樹脂層の非凝固部を水洗浄で除去して乾燥・後露光を行ない、版厚１ｍｍ未満の可撓性の樹脂凸版印刷版１７が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】マイクロエレクトロニクスウェハの製造において下地反射防止コーティング層として使用されうる新規な組成物を提供する。下地反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物が特に望まれる。
【解決手段】一形態においては、ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物を提供する。別の形態においては、ヒドロキシルナフトエ基、例えば、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ基を含む成分を含む、有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物を提供する。本発明の好ましい組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させ、および／または平坦化、共形もしくはビアフィル層として機能させるのに有用である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用共重合体の、リソグラフィー用組成物としたときのリソグラフィー特性を、実際にリソグラフィー用組成物を調製しなくても評価できる方法を提供する。
【解決手段】下記工程を含むリソグラフィー用共重合体の評価方法：
（１）リソグラフィー用共重合体を溶媒に溶解させて試験溶液を調製する工程；
（２）動的光散乱法を用いて、前記試験溶液の粒径分布における散乱強度を測定する工程；
（３）前記試験溶液に貧溶媒を添加し、動的光散乱法を用いて、前記貧溶媒添加後の試験溶液の粒径分布における散乱強度を測定する工程；
（４）前記（２）工程において測定される、粒径分布の任意のピーク（ａ）の散乱強度を基準とした場合に、貧溶媒の添加により、前記（３）工程において測定される、前記ピーク（ａ）の散乱強度が、前記基準に対して所定の強度に減少するまでに要する貧溶媒添加量を求める工程；
（５）前記貧溶媒添加量の差異により、前記リソグラフィー用共重合体を含む組成物のリソグラフィー特性を評価する工程。 （もっと読む）

【課題】製造効率の向上、ひいてはコスト低減を図ることのできるフォトレジストのパターン形成方法及び同方法を用いたプローブの製造方法、並びに電子デバイス検査用プローブを提供する。
【解決手段】基板上に第１のレジスト材料を積層する下部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を第１のパターンで露光する第１の露光工程と、第１の露光工程に引き続き、前記下部レジスト層上に、第２のレジスト材料を積層する上部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を露光するために用いた前記第１のパターンと少なくとも一部が重合する第２のパターンで前記上部レジスト層を露光する第２の露光工程と、不要なレジストを除去して開口部が形成されたレジスト層を形成する現像工程と、を有するフォトレジストのパターン形成方法とした。 （もっと読む）

【課題】複合印刷版を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、レリーフを形成することのできる単一前駆体とキャリアとから複合印刷版を製造する方法に関する。単一前駆体は、補強エラストマー層を有する単一感光性要素または単一レーザー彫刻可能な印刷要素とすることができる。単一前駆体は、キャリアのサイズの少なくとも７０％のサイズを有する。単一前駆体は、前駆体を、位置合わせマーキングのないキャリア上に凡そ位置合わせすることによりキャリア上に配置される。単一前駆体の精密な位置合わせは、複合版上に位置合わせされた画像を形成するためにコンピュータから生成されたデジタル情報を用いて行われる。本方法は、特にレリーフ印刷用複合印刷版を製造するのに好適であり、特に波形基材のフレキソ印刷用複合印刷版を製造するのに好適である。 （もっと読む）

【課題】レジストにも一様に蒸着材料が付着する成膜プロセスにおいても、容易にリフトオフを可能にする。
【解決手段】Ｄｅｅｐ−ＵＶ光に感光性を有するＰＭＧＩをレジスト１として用い、成膜後にＤｅｅｐ−ＵＶ光をレジスト１に全面露光を行う。これにより、レジスト１自体が変質するので、レジスト１の側壁に蒸着材料が吸着する場合でもリフトオフが容易となる。 （もっと読む）