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国際特許分類[G03F7/26]の内容

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【課題】レジスト膜を剥離する際に、残すべきパターンの剥離や、バリ、ブリッジングなどの不良の発生を抑えて、歩留まり向上させる。
【解決手段】まず、基板1の一方の面にレジスト71の膜を形成する(ステップS1)。次に、レジストが形成された基板上に金属、半導体および絶縁体から選択された薄膜72を成膜する(ステップS2)。次に、薄膜72が成膜された基板1を加熱する(ステップS3)。レジスト71が付いた基板1をこのように加熱することにより、レジスト71が軟化、変形し、レジスト71上に付着した薄膜72もそれに応じて変形し、薄膜表面には皺WやクラックCが生じる。次に、高圧ジェットリフトオフ装置の高圧ジェットによりレジスト剥離液を吐出させて、レジスト71の膜とそのレジスト71上に成膜された薄膜72を除去する(ステップS4)。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて大幅にレジスト液の回収を効率化することができ、回収コストを低下してレジスト液のリサイクル率を高めることができる方法を提供する。
【解決手段】所定容量の専用容器であるペール缶10を用いてレジスト液供給施設からレジスト液使用施設へレジスト液を供給するとともに、このペール缶10を、前記レジスト液使用施設、例えばスピンコーター250で生じる使用済レジスト液252を回収するためのレジスト液回収容器としても使用する。これにより、ユーザー側での回収やリサイクルの設備負担が不要であり、既存のレジスト液供給システムをそのまま用いて回収ができるため、回収費用と労力を大幅に削減できる。ペール缶10としては、筒状に形成された合成樹脂製の内側容器と、この内側容器の外殻を構成する金属製の外側容器とを備えるペール缶を用いることで、製造コストを低下するとともに、内側容器と外側容器の分離解体を容易にする。 (もっと読む)


【課題】 レジスト材料の利用効率を向上させて、作製コストの削減を目的としたレジス
トパターンの作製方法、レジストパターンの除去方法、半導体装置の作製方法を提供する
ことを課題とする。
【解決手段】 本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジ
ストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。また、前記レジストパター
ンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパタ
ーンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レ
ジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上
の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により導電性を容易に安価に得ることのできる導電性転写フィルム及びそれを用いた導電性パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 仮支持体上に、導電性層、及びネガ型感光性樹脂層を順次積層してなる導電性転写フィルム。仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層、導電性層、及びネガ型感光性樹脂層を順次積層してなる導電性転写フィルム。導電性層が、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化すず、金、銀、銅、アルミニウムのいずれかを主成分とする導電性膜であると好ましい。前記の導電性転写フィルムを用いて、ネガ型感光性樹脂層側を支持体に貼りつける工程、所定部を露光する工程と、を含む導電性パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】異物を効率よく除去することができ、混入異物の極めて少ない感放射線性樹脂組成物を得ることが可能な感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物の予備組成物を、フィルター部分で、フィルター有効濾過面積当たりの濾過量を30L/m以下に保持して2回以上繰り返し濾過する工程を含む感放射線性樹脂組成物の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】レジストの溶剤とリンス液が異なる成分であってもレジストを再利用できる再生レジストの製造方法を提供すること。
【解決手段】使用前レジストを塗布工程S10で塗布した後に、残余の使用済レジストを回収し、該使用済レジストから再生レジストを製造する方法であって、使用前レジストの溶剤が主としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)であり、塗布後の使用前レジストに、例えばPGMEのように、PGMEAより低沸点の他の溶剤を含むリンス液を添加して使用済レジストを得るリンス工程S20と、この使用済レジストの回収工程S30後に、他の溶剤を所定の濃度以下になるように分留する分留工程S40と、を備える。 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れ、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成でき、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランの構造単位(a1)、式(1)の構造単位(a2)、及び式(2)の構造単位(a3)を含むポリシロキサンと有機溶媒を含有する組成物。
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【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板101の上に、ラクトンがフェノールにおけるOH基の水素と置換された基と酸脱離基とを含むポリマーを有する化学増幅型レジスト材料からレジスト膜102を形成する。続いて、レジスト膜102に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。その後、パターン露光が行われたレジスト膜102を加熱し、加熱されたレジスト膜102に対して現像を行って、レジスト膜102からレジストパターン102aを形成する。 (もっと読む)


【課題】支持体に設けられた樹脂基材に対して凸状となることなくパターンを簡便に形成するためのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成工程において、支持体1上にネガ型の感光性樹脂層12を形成し、この感光性樹脂層12上にパターン3を形成し、埋め込み・硬化工程において、感光性樹脂層12のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施してパターン3を感光性樹脂層12に埋め込み、これと同時に感光性樹脂層12を硬化させて樹脂基材2とし、これにより、支持体1上に設けられた樹脂基材2に凸状となることなくパターン3を形成する。 (もっと読む)


【課題】難エッチング材料を不活性ガスによりエッチングする際に残渣なく加工する方法を提供する。
【解決手段】難エッチング性の金属薄膜2上に、断面形状がハンマーヘッド型となるようにレジスト4を形成した後に前記金属薄膜をドライエッチングし、その後前記レジストを除去する。前記ハンマーヘッド型の断面形状を有するレジストパターンは、現像液に対する溶解速度が異なる2種類のレジストを積層塗布して露光・現像することによって得る。 (もっと読む)


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