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国際特許分類[G03F7/26]の内容

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【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、LWR等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、さらにパターン裾部分に残渣を生じることなく良好な矩形性のパターン形状を有するパターンを形成することができる感放射線性組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される繰り返し単位(I)を有する重合体成分、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性組成物である。また、下記式(1)におけるR及びRのいずれかとRとは互いに結合して炭素数5〜20の環構造を形成していることが好ましい。
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【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と半導体装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜2の上に下層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料を塗布し、周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 (もっと読む)


【課題】EUV用途のために、改良された(すなわち、低減された)ライン幅ラフネスを有するフォトレジストポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、酸脱保護性モノマー、塩基可溶性モノマー、ラクトン含有モノマーおよび光酸生成モノマーを含むモノマー;下記式の連鎖移動剤;並びに場合によって開始剤の重合生成物を含む:


式中、Zはy価のC1−20有機基であり、xは0または1であり、Rは置換もしくは非置換のC1−20アルキル、C3−20シクロアルキル、C6−20アリール、またはC7−20アラルキルである。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、短時間でPEBを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長600〜2000nmの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長600〜2000nmの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク(PEB)を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】T−ゲート構造物の改良された形成法の提供。
【解決手段】a)基板を提供する工程、b)基板上に平坦化層を配置する工程、c)UV感受性第一フォトレジストの層を配置する工程、d)マスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第一フォトレジストをパターン化して、T−ゲートの底部用の第一開口を規定する工程、e)パターンを平坦化層に転写する工程、f)このパターンをUV放射線に対して非感受性にする工程、g)UV感受性第二フォトレジストの層を配置する工程、h)第二フォトレジストをマスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第二フォトレジストをパターン化して、第一開口の上のT−ゲートのキャップ用の第二開口を規定する工程、i)第一開口および第二開口内に導電性材料を堆積してT−ゲートを形成する工程、を含む方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、電子線レジスト組成物の高精度な感度管理をするための感度検査方法を用いた、高精度に管理されたレジスト組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 レジスト組成物用材料と溶剤からなるレジスト組成物原体を調製し、該レジスト組成物原体を一部採取し、該採取したレジスト組成物原体を用いて試験用基板上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜にパターン照射を含むパターン形成処理を行ってレジストパターンを形成し、形成された該レジストパターンのサイズと前記パターン照射時の照射エネルギー量に基づいて前記レジスト組成物原体の感度を検定した後、該感度検定結果を基に前記レジスト組成物原体に加える追加材料の量を調整して前記レジスト組成物原体の感度調整を行う化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、前記パターン照射を電子線ビーム照射により行うことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れたラインウィドゥスラフネス(LWR)を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程(1)〜工程(4)を含むレジスト組成物用低分散樹脂の製造方法。工程(1):高分散樹脂と第1のケトン溶剤とを混合して、高分散樹脂及び第1のケトン溶剤からなる溶液を得る工程、工程(2):工程(1)で得られた溶液と脂肪族エーテル溶剤とを混合後、不溶分を除去して濃縮して濃縮物を得る工程、工程(3):工程(2)で得られた濃縮物を第2のケトン溶剤に溶解させる工程、工程(4):工程(3)で得られた溶液と脂肪族炭化水素溶剤とを混合後、高分散樹脂よりも分散度が小さい低分散樹脂からなる不溶分を得る工程 (もっと読む)


【課題】多層レジストプロセスにおいて、中間層膜のシリコン(Si)の含有率を高くした場合でも、上層のレジストパターンを形成した後の現像欠陥が発生せず、従って、歩留まりを向上できるようにする。
【解決手段】下層膜2の上にシリコンを含有する中間層膜3、4及び上層レジスト膜5を形成する。続いて、露光された上層レジスト膜5を現像して、上層レジスト膜から上層レジストパターン5aを形成する。上層レジストパターンをマスクとして、中間層膜3、4をエッチングすることにより、中間層膜から中間層パターン3a、4aを形成する。中間層パターンをマスクとして下層膜2をエッチングし、下層膜からエッチングパターン2aを形成する。中間層膜3、4は、第1のシリコン含有率を有する下層中間層膜3と、該下層中間層膜の上に形成され、第1のシリコン含有率よりも低い第2のシリコン含有率を有する上層中間層膜4を含む。 (もっと読む)


【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および/または下層が、アルカリ水溶液に可溶性又は可分散性の水不溶性ポリウレタン樹脂と、両性界面活性剤および/またはアニオン性界面活性剤 1質量%超20質量%未満と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】無機膜上に形成するレジストパターンの形成性及びエッチング選択比に優れ、レジスト膜を薄膜化する場合においても忠実なパターン転写が可能な多層レジストプロセス用無機膜形成組成物、並びにパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]加水分解性基を有する金属錯体(I)、加水分解性基を有する金属錯体(I)の加水分解物及び加水分解性基を有する金属錯体(I)の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに[B]有機溶媒を含有する多層レジストプロセス用無機膜形成組成物であって、[A]化合物が、第3族元素、第4族元素及び第5族元素からなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含有し、かつこの金属元素の含有割合が、[A]化合物に含まれる金属元素及び半金属元素の合計量に対し50モル%以上であることを特徴とする多層レジストプロセス用無機膜形成組成物である。 (もっと読む)


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