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国際特許分類[G03F7/26]の内容

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【課題】 不溶解物の生成が無くしかも簡素化された工程でフォトレジスト用樹脂溶液を得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒による溶液を製造する方法であって、重合後ポリマーを貧溶媒に沈殿させ、分離した湿結晶をプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解し、蒸留により低沸点成分を除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて前記フォトレジスト用樹脂の溶液を得ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 次の(i)〜(ii)の工程;(i)基板上にポジ型レジスト組成物を用いて第1のレジスト層を形成し、選択的に露光して、該第1のレジスト層に密パターンの潜像部を形成する工程;(ii)該第1のレジスト層の上にネガ型レジスト組成物を用いて第2のレジスト層を形成し、選択的に露光した後、第1のレジスト層と第2のレジスト層を同時に現像して、前記密パターンの潜像部の一部を露出させる工程;を含むレジストパターンの形成方法であって、前記ネガ型レジスト組成物として、第1のレジスト層を溶解しない有機溶剤に溶解したネガ型レジスト組成物を用いることを特徴とするレジストパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】 パターン形成材料の製造工程において、塗布液が一時的に滞留した状態に置かれ、溶存酸素濃度が低下した状態であっても、ゲル化発生が起きない安定性の高い塗布液が得られ、感度及び解像度も良好で、高精細なパターンが得られるパターン形成材料の製造方法の提供。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性組成物の塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液中に、重合性化合物に対し、400ppm以上の重合禁止剤を添加させて、前記塗布液を配管により送液する塗布液送液工程と、該塗布液を支持体上に塗布して感光層を積層する感光層積層工程とを含むことを特徴とするパターン形成材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】光学像よりも微細なスペースあるいはホールパターンを形成することができるレジストパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板101上に形成された被加工膜102上に第1レジスト膜103を形成する工程と、第1レジスト膜上に第2レジスト膜を形成しさらにレジストパターン105を形成する工程と、レジストパターン上に金属元素または半導体元素を含有するオーバーコート膜を形成する工程と、オーバーコート膜をレジストパターンとの界面から所定距離の部分を溶媒に対して不溶化する工程と、オーバーコート膜の溶媒に可溶な部分を溶媒で除去してオーバーコート膜パターン107を形成する工程と、オーバーコート膜パターンを第1レジスト膜に転写して下層レジスト膜パターンを形成する工程と、前記下層レジスト膜パターンを前記被加工膜に転写して被加工膜パターンを形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 次の(i)〜(ii)の工程;(i)基板上に第1のネガ型レジスト組成物を用いて第1のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程;(ii)該第1のレジスト層の上に第2のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物を用いて第2のレジスト層を形成し、選択的に露光した後、第1のレジスト層と第2のレジスト層を同時に現像して、前記第1のレジスト層の未露光部の一部を露出させる工程;を含むレジストパターンの形成方法であって、前記第2のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物として、第1のレジスト層を溶解しない有機溶剤に溶解したものを用いることを特徴とするレジストパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、0.1〜10(mJ/cm)であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】 感光層の感度低下を効果的に抑制でき、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体が、第一の形態ではヘイズ値が4.0%以下であり、第二の形態ではその少なくとも片面に不活性粒子が塗布され、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、0.1〜10(mJ/cm)であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】 耐傷性及び形成された画像のディスクリミネーションに優れ、耐刷性の良好なダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を少なくとも2層以上有する平版印刷版原版であって、該ポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層が、少なくとも2種の樹脂を含有し、それらの樹脂の少なくとも1種が分散相を形成しており、且つ、該樹脂の少なくとも1種が下記一般式(I)で表される高分子化合物であることを特徴とする平版印刷版原版である。下記式中、R1は炭化水素基、R2は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。m=5〜40モル%、n=10〜60モル%、o=1〜10モル%、及び、p=5〜50モル%である。
【化1】
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【課題】 無機物と有機物に対する接着力に優れた感光性組成物を提供し、前記感光性組成物を含む隔壁形成用感光性ペースト組成物を提供する。また、前記感光性組成物を利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関し、より詳しくは2つ以上のエチレン性二重結合を有する架橋性単量体と、光重合開始剤と、有機溶媒を含む感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関するものである。 (もっと読む)


【課題】 下層に密パターンを形成し、上層に疎パターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記(i)〜(ii)の工程;(i)基板上に第1のレジスト組成物を用いて第1のレジスト層を形成し、該第1のレジスト層に密パターンを形成する選択的露光を施す工程;(ii)該第1のレジスト層の上に第2のレジスト組成物を用いて第2のレジスト層を形成し、該第2のレジスト層にパターンを形成する選択的露光を施す工程;を含むレジストパターンの形成において、前記第1又は第2のレジスト層に用いられるネガ型レジスト組成物であって、当該ネガ型レジスト組成物から形成されるレジスト層と接触する前記第1又は第2のレジスト層を溶解しない有機溶剤(D)として、アルコール系有機溶剤に溶解したことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


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