【課題】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版において、多数枚の印刷時に発生する細線やハイライト部の飛びの少ない、微小画像の耐刷性が改善された平版印刷版の処理方法を提供しする。
【解決手段】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光、現像処理後に前記平版印刷版を、チタン、ジルコニウム、亜鉛及びハフニウムの中から選ばれる金属のフッ化物の中の少なくとも１つの化合物を含む処理液で処理する。 （もっと読む）

高温に耐えるレリーフ画像を形成するのに使用するための、非−ＮＭＰ溶媒中の接着促進剤を伴う安定な非感光性ポリイミド前駆体組成物およびこの画像を作成する方法。この非感光性ポリイミド前駆体組成物は、ａ）ガンマ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）中に可溶な１つまたはそれ以上のポリアミド酸および水性のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ただしポリアミド酸は、ポリイミド前駆体組成物が併用されるべき感光性組成物中に使用される溶媒に対しても耐性があるものとする；ｂ）ガンマ−ブチロラクトンを含む溶媒；およびｃ）式Ｉ〜ＶＩ（式中、Ｒ¹はＨ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀の線状、環状または分枝状のアルキル、フェニルもしくはハロフェニルまたはアルキル置換フェニルであり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₁₀の線状、環状もしくは分枝状のアルキル、フェニル、ハロフェニルもしくはアルキル置換フェニルまたは以下のＶＩＩ、ＶＩＩＩまたはＩＸ（式中、Ｒ³はＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基またはＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルコキシ基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は独立にＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基であり、ｍは１から大体４の整数であり、またｎは１から大体５の整数である）の部分構造の１つである）によって表される構造から選択される１つまたはそれ以上の接着促進剤を含有する。
を含む。
【化１】

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基板上に耐熱性レリーフ構造を作成する方法であって、この方法は、（ａ）基板を用意し；（ｂ）最初のコーティング段階で、ポリアミド酸およびガンマ−ブチロラクトンを含有する組成物によって基板をコートして少なくとも約０.５μｍの厚さをもつポリアミド酸の層を形成し；（ｃ）１４０℃またはそれ未満の温度でポリアミド酸の層をベーキングし；（ｄ）第２のコーティング段階で、ポリアミド酸の層上にフォトレジストの層をコーティングして二層コーティングを形成し；（ｅ）二層コーティングを＜２５０ｎｍの放射線に露光し；（ｆ）１つまたはそれ以上の水性のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド現像液によって二層コーティングを現像し；（ｇ）残留するフォトレジスト層を除去し；そして（ｈ）ポリアミド酸層を少なくとも約２００℃の温度で硬化してポリイミド構造をつくる段階を包含し、この場合ポリアミド酸は、水性のテトラメチルアンモニウム中に可溶でありまたフォトレジストに使用される溶媒中には可溶でない。 （もっと読む）

【課題】 青紫色レーザーに高感度であり、仮支持フィルム上に形成された感光性組成物層の保存安定性が良好で、かつ十分な露光可視画性を有する青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材及びその画像形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｄ）ロイコ色素を含有する青紫色レーザー感光性組成物であって、該感光性組成物中に（Ｃ）ハロゲン化アルキル化合物を含み、且つ、３９０〜４３０ｎｍの波長の青紫色レーザー光で露光したときの感度Ｓ１（ｍＪ／ｃｍ²）と該組成物層を仮支持フィルム上に形成した状態で
２０〜２５℃の温度域に３ヶ月間保管した後の感度Ｓ２（ｍＪ／ｃｍ²）との比Ｓ１／Ｓ
２が０．７以上１．４以下であり、且つＳ１が０．１以上１００以下であることを特徴とする青紫色レーザー感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 一回の焼成で、所定の凹凸パターンを有する無機層を十分高精度に形成することができる無機層の形成方法を提供すること。
【解決手段】 無機層の形成方法は、（ａ）反応性二重結合を有するポリマー、（ｂ）光重合開始剤、及び（ｃ）第１無機粒子を含有する樹脂組成物からなる第１層を基板上に設ける第１工程と、第２無機粒子を含有する感光性樹脂組成物からなる第２層を第１層上に設ける第２工程と、第２層の所定部分に活性光線を照射して第２層に所定パターンの光硬化部を形成させる第３工程と、第２層のうち光硬化部以外の部分を除去する第４工程と、第１層及び光硬化部を焼成して第１無機粒子及び第２無機粒子に由来する無機層を形成する第５工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】２層構造の微細構造を２種のポジ型レジストで生成する場合に、少なくとも下層における熱架橋処理が不要な微細構造の形成方法、およびこの微細構造の形成方法を利用した液体吐出ヘッドとその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒータを形成した基板上に下層としての第１のポジ型レジスト層（ＰＭＩＰＫ）を形成し、その上に上層としての第２のポジ型レジスト層（ＰＭＭＡ系共重合体）を形成し、第２のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて上層のポジ型レジスト層１３を露光、現像して所定のパターンを形成し、更に、第１のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて下層のポジ型レジスト層１２を露光、現像して所定のパターンとして微細構造を得る。この方法を用いた液体吐出ヘッドの製造方法と、その方法で製造された液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

【課題】リフトオフ処理時間を大にすることなく、寸法精度に優れた微細パターンを容易に形成することのできる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】表面レジスト層１５は、前述のパターン露光領域外のみ通常のポジ型レジストとして現像される。そして、下層のレジスト層１３はネガ型に反転した表面レジスト層１５のパターン露光領域下部も現像されるため、下層のレジスト層１３は表面レジスト層１５に対し、アンダーカットされた断面形状となる。なお、表面レジスト層１５は、下層のレジスト層１３との相互拡散の影響により逆テーパ形状を有する。 （もっと読む）

【課題】 反射・透過両用ＬＣＤに好適であって、表示上一画素をなす領域内に部分的に膜厚を変化させた像構造を一括して、簡便かつ高い解像度で形成することができる液晶表示装置用構成物の製造方法を提供する。
【解決手段】 基体上に設けられた第１のネガ型感光性樹脂層及び第２のネガ型感光性樹脂層の両層を同時に、２値以上の異なるエネルギー量でレーザー露光する工程を有し、第１のネガ型感光性樹脂層の光感度ｈ１と第２のネガ型感光性樹脂層の光感度ｈ２との比ｈ１／ｈ２が１より大きくなっている。 （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂を用いて、厚さの異なる画像を形成する方法を提供する。
【解決手段】基板と該基板上に形成されたポジ型感光性樹脂層とからなる感光性積層体に、第一の領域には、実質的に光の照射を行なうことなく、第二の領域には、当該領域の感光性樹脂層の表面側の一部の厚み部分までが変性するようなエネルギー量の光を照射し、そして第三の領域には、当該領域の感光性樹脂層の全てが変性するようなエネルギー量の光を照射する工程、及び、この光処理を行なったポジ型感光性樹脂層に現像液を接触させることにより、該感光性樹脂層の変性部分を溶解除去する工程からなる、基板上に、少なくとも、相対的に厚い樹脂層からなる凸部樹脂領域、相対的に薄い樹脂層からなる凸部樹脂領域、そして基板露出領域から構成される画像パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】 加工深さが異なる複数の領域を一回の露光工程によりレジスト膜上に形成することを可能とするフォトリソグラフィー方法を提供すること。
【解決手段】 基板１０１上に下層レジスト１０２ａと上層レジスト１０２ｂを順次積層させて塗布する。これらのレジストがポジ型の場合は、その露光感度は、上層レジスト１０２ｂが高く、下層レジスト１０２ａが低くなるようにする。このように、互いに感度の異なる２つのフォトレジストを、下層レジスト１０２ａとして相対的に低感度のレジストを、上層レジスト１０２ｂとして相対的に高感度のレジストを、順次積層させ、この２層レジストに露光光を照射させた後に現像を行うと、レジスト残膜率１００％の領域（ａ’）、レジスト残膜率０〜１００％の領域（ｂ’）、およびレジスト残膜率０％の領域（ｃ’）の何れの領域も、製造工程上その制御性に問題のない露光量範囲で得ることができる。 （もっと読む）