国際特許分類［G03F7/26］の内容
物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料の処理；そのための装置 (4,777)
国際特許分類［G03F7/26］の下位に属する分類
粉体画像を得るためのもの
液体手段を用いる画像様除去 (1,233)
選択的転写による画像様除去，例．剥離 (19)
グループ７／３０〜７／３４に包含されない画像様除去，例．ガス流を用いるもの，プラズマを用いるもの (91)
画像様除去前の処理，例．予熱 (840)
画像様除去後の処理，例．加熱 (1,695)
剥離またはそのための処理剤 (402)
国際特許分類［G03F7/26］に分類される特許
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一体化された印刷表面をもつ印刷スリーブ
中空の円筒形基底層及びその一番外側層として継ぎ目のない像記録表面を含んでなる継ぎ目のない印刷スリーブが記載される。像記録表面は一体型のフレキソ印刷表面として働く。印刷スリーブは好ましくは、基底層の外面と像記録表面間に中間の感光性重合体又は弾性の重合体層を含んでなる。更に基底層は好ましくは、化学線に均一に透過性又は半透過性である。 
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フォトレジスト層の表面にくぼみを形成する方法
フォトレジスト層（１）の表面（４）にくぼみ（１５）を形成する方法が、フォトレジスト層の第１の部分（１２）を第１の照射量の放射エネルギー（７）に曝す段階（１００、１２０、１０１、１０２、１２２）を含む。また、層の第２の部分（１７）を第２の照射量の放射エネルギー（７）に曝す（１２０、１０１、１２２）。第２の照射量は第１の照射量よりも少ない。層はベークされる（１１０、１３０、１３１、１３２）。 （もっと読む）
ブラシ型処理部材付画像形成装置
本発明に係る画像形成装置は、複数個のマイクロ部材を有するローラを備える。マイクロ部材群は、好ましくはプラスチックやラバー等のコンプライアントな素材からなるフック又はループ状部材とする。マイクロ部材群によって実質画定されるため、ローラの表面はコンプライアントな面となり、印刷領域内における感光媒体厚みが不意に変化してもそれを吸収できる。回転型ローラを用いているため、感光媒体との接触によってローラの回転力が圧縮力に変換され、それによって感光媒体内のマイクロカプセルが破裂される。 
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凸版印刷用感光性積層印刷原版および凸版印刷版の製造方法
支持体、その上の紫外線に感光性を有する感光性樹脂層、及びその上の紫外線吸収能及び非紫外線吸収能を有するマスク材層であって、該紫外線吸収能が非紫外線の照射を受けると失活しうるマスク材層を含む、凸版印刷原版。該原版を用いた凸版印刷版の製造方法も提供される。 （もっと読む）
新規な感光性二層組成物
構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ1はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ2はＣ1〜Ｃ3のアルキレン基であり、Ｒ3は、Ｃ1〜10の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ6〜10の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ1〜8のアルコキシメチル基、又はＣ1〜8のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】
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導電性ポリマーを有する導電性電極層の光パターン形成
基板上に配置された導電性ポリマーに電極パターンを生成する方法を開示する。この方法は、基板上に導電性ポリマーを含有する層を適用し、導電率増強剤を含有するプリント組成物を用いて前記層上にパターンをプリントして、該プリント組成物と接触した領域の低効率を10分の1以下に減少させる工程を含む。当該方法を実施するための処方および薄膜要素も開示する。 （もっと読む）
スピンオンフォトパターン形成性中間層誘電性材料の使用及びそれを利用する中間半導体素子構造体
フォトパターン形成性塗布材料がこれまでに用いられなかった波長で半導体素子構造体の形成に用いられことを可能とするキャップ層。該フォトパターン形成性塗布材料を半導体基板へ層として塗布する。該キャップ層及びフォトレジスト層がそれぞれ該フォトパターン形成性層上に形成される。該キャップ層は放射線を吸収または反射し、そして該フォトパターン形成性層を該フォトレジスト層のパターン化に用いられた第1波長の放射線から保護する。該フォトパターン形成性塗布材料は第2波長の放射線に露光されると二酸化ケイ素系材料へ変換される。 （もっと読む）
改良されたバイレイヤフォトレジストパターンを提供する方法
【課題】レイヤにおいて微小形状をエッチングする方法が提供される。
【解決手段】レイヤ上にポリマー材料のアンダーレイヤが形成される。アンダーレイヤ上にトップイメージレイヤが形成される。トップイメージレイヤがパターン付けされた照射に曝露される。トップイメージレイヤにおいてパターンが現像される。パターンがトップイメージレイヤからアンダーレイヤへ還元性ドライエッチングで転写される。レイヤがアンダーレイヤを通してエッチングされ、トップイメージレイヤは完全に除去され、アンダーレイヤは、レイヤをエッチングするあいだ、パターンをアンダーレイヤからレイヤへ転写するためのパターンマスクとして用いられる。
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感光性エレメント及びロール状感光性エレメントの包装袋
【課題】 感光性エレメント（支持体、感光性樹脂層、保護フィルムからなる三層構造の感光性エレメント）を保護し、且つ包装袋の再利用（リサイクル）が可能になり、ゴミを減らすことができる感光性エレメント梱包物を提供する。
【解決手段】 感光性エレメントを、出し入れ口にジッパ−を付与した包装袋で包装してなる感光性エレメント梱包物。
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有機積層部材、色変換部材およびその製造方法
【課題】 有機積層部材、特にフルカラー有機ＥＬディスプレイ等に用いられる色変換部材の製造工程数を減らし、安定的に微細なパターンを形成でき、生産性を向上できる製造方法を提供する。
【解決手段】 基材と、前記基材上に少なくとも第１有機物層と第２有機物層とが順次積層された有機物層とからなる有機積層部材の製造方法であって、前記第１有機物層と第２有機物層とを単一のフォトリソグラフィー工程によってパターニングする。
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