【課題】 半導体装置の表面にさらに微細なパターンを形成することができる微細レジストパターン、微細パターンの形成方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 基板６上に、特定の元素を含む特定のガスに接触して特定の元素と結合し所定のエッチングガスに対する耐性が強化される性質を有するレジスト層９を形成する工程と、レジスト層９に第一の露光１０を行い、第一の露光領域９ｂと第一の非露光領域９ａとを形成する工程と、第一の露光領域９ｂに対して第二の露光１１を行い、第二の露光領域９ｃと第三の露光領域９ｄとを形成する工程と、レジスト層９を特定のガスにさらして第三の露光領域９ｄのみを特定の元素と結合させる工程と、第二の露光領域９ｃと第一の非露光領域９ａとをエッチングにより除去し第三の露光領域９ｅからなるレジストパターンを形成する工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】サ−マルフロ−の影響によるレジストマ−クの変形を抑制し、位置合わせ精度の向上するレジストマ−ク及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】層間膜、例えば二酸化シリコン膜520が、下地マ−ク510aとして働く開口部を有する下地膜、例えばポリシリコン膜510の上に形成される。層間膜の上には、レジストマ−ク530、540が形成されている。このレジストマ−クは、第1のパタ−ン540と第2のパタ−ン530からなる。両パタ−ンは、所定形状の枠からなる。第2のパタ−ンは、第1の枠の内側に離間して形成され、かつ、内側から外側に向かう方向の幅が第1のパタ−ンの寸法より小さい。露光により形成されたレジストパタ−ンとウエハとの絶対的な位置関係の確認は、レジストマ−クと、下地マ−ク510とのずれ量を重ね合わせ精度測定機により測定することにより行う。 （もっと読む）

【課題】 低出力の赤外又は緑〜赤色レーザー光等の光源を用いても、感度、コントラスト、画像品質に優れた記録が可能で、完全ドライの白黒もしくはカラーの鮮明な画像を形成しうる感光感熱記録材料の記録方法を提供する。
【解決手段】 感光感熱記録層に、熱応答性マイクロカプセルに内包された電子供与性の無色染料と、熱応答性マイクロカプセルの外に、同一分子内に電子受容部と重合性ビニルモノマー部とを有する化合物及び有機ボレート塩化合物を含むか、電子受容性顕色剤、重合性ビニルモノマー及び有機ボレート塩化合物を含む感光感熱記録材料に、該記録材料を露光させ得るとともに、目標位置において、一方向のサイズが６００μｍ以下となるスポットを形成し得る放射光源を用い、まず、感光感熱記録材料を目標位置に配置して、画像分布に従ってスポット状にビームを照射し、次に、最初に照射したスポットに対して、引き続いて照射するビームからの少なくとも１つのスポットの少なくとも一部分が重なるように画像分布に従ってビームを照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 白色光線下で作業が出来、熱処理工程にも耐えられ、更に赤外レーザ光で直接デジタル画像を形成することが可能なレジスト材及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 希アルカリ性水溶液からなる現像液に対して難溶性であって、その被膜に赤外線照射等の手段により選択的に加熱した部分が、該現像液に可溶性となることを特徴とするレジスト材、レジスト材を使用するパターン形成方法、及び該レジスト材を用いて形成された印刷版。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少量の化学作用放射線で多くの酸を増殖させて、感光速度を著しく向上した光重合性組成物及びそれの重合方法を提供する。
【解決手段】カチオン付加重合可能な化合物と、化学作用放射線によりカチオン重合を活性化させるブレンステッド酸若しくはルイス酸を発生するカチオン重合用光開始剤および発生した酸により新たに酸を発生する物質を組み合わせることにより、感光速度が著しく向上した光重合性組成物であり、またラジカル重合を組み合わせたハイブリッドな光重合性組成物にすることでより感光速度の向上を可能とする。 （もっと読む）

【目的】 前処理液中における非感光性水溶性樹脂層成分の凝析を抑制し、前処理を長期にわたり安定に行うことができる処理方法を提供することである。
【構成】 感光層上に非感光性水溶性樹脂層を有する光重合性感光性平版印刷版を露光後、現像に先だって有機溶剤の水溶液で前処理を行う。 （もっと読む）

【構成】 （ａ）少なくとも２個の架橋形成性官能基をもつトリアジン化合物、（ｂ）高吸光性物質、及び場合により（ｃ）アルカリ不溶性アクリル系樹脂を含有して成るリソグラフィー用下地材、並びに、基板上に、この下地材から成る層及びレジスト層を順次設けた多層レジスト材料である。好適には、（ａ）成分はヒドロキシル基及び／又はアルコキシル基をもつトリアジン化合物、特にメチロール基及び／又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン又はグアナミン、（ｂ）成分はベンゾフェノン系、ジフェニルスルホン系、ジフェニルスルホキシド系のもの、（ｃ）成分はグリシジル基をもつアクリル系樹脂である。
【効果】 基板からの反射光を十分に抑制でき、インターミキシング層の発生がなく、ノッチングが起らず、マスクパターンに対する寸法精度に優れるとともに、断面が矩形で高解像度及び高アスペクト比のレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【目的】 超解像露光方法によってパターン形成を行う際に、孤立パターンに対して設ける補助パターンをできるだけ大きく設定できるようにして孤立パターンの解像度及び焦点深度を向上させる。
【構成】 被加工基板として、例えばシリコン酸化膜21、Al薄膜22を有するシリコン基板20を用い、その上にエッチング耐性の高い低解像度フォトレジスト23を塗付し、補助パターンを有するレチクルを用いて露光し現像する(図５工程Ａ)。続いて高解像度フォトレジスト24を塗付し、同じレチクルを用いて露光し現像し(図５工程Ｂ)、次にAl薄膜22をエッチングする(図５工程Ｃ)。
【効果】 高解像度フォトレジストの補助パターンに対応する部分が解像されたとしても、その下の低解像度レジストがエッチングストッパとして働くため、補助パターンを大きくすることができ、解像度を向上させることができる。 （もっと読む）

【構成】基板と感放射線性レジストとの間に電子吸引性官能基（ただし、シアノ基を除く）を有する共役系重合体を主成分とした薄膜を有することを特徴とする二層構造感放射線性レジスト。
【効果】放射線の基板反射を起因とした感放射線レジストの膜厚の変動による所望のレジストパターンからの形状変移を抑止できる。従って高い歩止まりを与えると共に製造プロセスでのプロセス条件の許容幅を拡大できる。 （もっと読む）