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国際特許分類[G03F7/26]の内容

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【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸41を有し、回転軸41の回転によって基板を回転させるスピンナー40と、基板に相対する位置であってスピンナー40の回転軸41からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル24及びノズル25と、を備え、スピンナー40の回転軸41の方向に見て、ノズル24の噴射口24Aがスピンナー40の回転軸41が回転する向きと向き合っており、ノズル25の噴射口25Aが第一ノズル24の噴射口24Aの向きとは逆向きである。 (もっと読む)


【課題】感光して変質したインクは、接着性低下などの信頼性低下のため、露光印刷法で使用することが困難である。
【解決手段】回転胴(31)およびブランケット(32)を有するインクロール部(30)と、インクロール部にインク(22)を供給するインク供給部(20)と、インクロール部に光を照射する光源(41)と、被印刷媒体(53)を有するインク転写部(50)と、を有し、回転胴の表面にブランケットが形成され、インクロール部にインクが供給されることで、ブランケット上にインクベタ膜が形成され、インクベタ膜は、光源からの光の照射により露光インク部および非露光インク部となり、非露光インク部が被印刷媒体に転写される露光印刷装置。 (もっと読む)


【課題】サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターンを形成してなるようにした。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板上に小型マスク連続露光方式により露光して第1層を形成することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】形成工程10は表面に第1層が形成されていないガラス基板にアライメントマークをレーザマーキングにより形成する。塗布工程20はアライメントマークが形成されたガラス基板の表面に感光性を有するレジストを塗布する。露光工程30はレジストを塗布されたガラス基板を搬送しつつガラス基板の裏面側からアライメントマークを読み取ることにより、露光ヘッド33、34の位置を調整しながらガラス基板の表面を小型マスク連続露光方式により露光する。現像工程40は露光されたガラス基板の表面を現像して第1層を形成する。 (もっと読む)


【課題】ヒートモードレジスト層を有する被加工物に対して、深さ方向の加工性が良好であり、アスペクト比が高く、高精細な微細穴乃至溝を効率よく形成可能な被加工物の加工方法の提供。
【解決手段】基材上にヒートモードレジスト層を形成するヒートモードレジスト層形成工程と、前記ヒートモードレジ スト層に対してレーザ光を複数回照射して微細穴乃至溝の形状を形成する微細穴乃至溝形成工程とを含む被加工物の加工方法である。該レーザ光の照射回数が、2回以上1,000回以下である態様、レーザの線速が、100m/s以下である態様などが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】液浸リソグラフィーのための信頼性があり、かつ便利なフォトレジストおよび画像化法を提供する。液浸リソグラフィー処理ならびに非液浸画像化用をはじめとするフォトレジスト上に適用されるオーバーコーティング層組成物を提供する。
【解決手段】基体上のフォトレジスト組成物層、該フォトレジスト層上の、1以上の親水性基を含むコポリマー樹脂を含む有機組成物を含む、コーティングされた基体。 (もっと読む)


【課題】特には3層レジストプロセス用下層膜として反射率を低減でき(反射防止膜としての最適なn、k値を有し)、埋め込み特性に優れ、パターン曲がり耐性が高く、特には60nmよりも細い高アスペクトラインにおけるエッチング後のラインの倒れやよれの発生がない下層膜を形成できるレジスト下層膜材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも下記一般式(1−1)及び/又は(1−2)で示される1種類以上の化合物、並びに下記一般式(2)で示される1種以上の化合物及び/又はその等価体を縮合することにより得られるポリマーを含有することを特徴とするレジスト下層膜材料。


OHC−X−CHO(2) (もっと読む)


【課題】好適に集積装置での既存シート(既に集積されている感光性印刷版シート)と投入シートとの間のスパークを防止し、感光面の品質不良(画像欠陥)を無くすことができる感光性印刷版の搬送装置及びコンベアを提供することを目的とする。
【解決手段】所定の搬送経路に沿って配置され、シート状の感光性印刷版46を搬送する複数台のコンベア34,42と、感光性印刷版46が積載される集積装置50と、からなり、複数台のコンベア34,42の少なくとも1台は、複数条の搬送ベルト80,80と、複数条の搬送ベルト間において、径が搬送されるシートの裏面の位置と同等以上である突起部86を有することで該突起部86が搬送されるシートの裏面と接触するとともに、軸端が接地されたローラ84と、で構成されている感光性印刷版の搬送装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】再生レジスト中の固形分濃度を加熱残分法によらずに迅速に精度よく決定する手段を提供し、その上で膜厚のバラツキが小さくなるようにレジスト粘度を調整する手段を提供することである
【解決手段】回収した使用済みレジストの粘度を、溶剤を添加して目標とする粘度よりは高く設定された所定の粘度まで下げる工程、希釈したレジストの固形分濃度を、予め求めてある屈折率と固形分濃度の関係を示す検量線に基づいて算出する工程、固形分濃度が所定の値になるまで希釈したレジストに水を添加する工程、屈折率の測定と粘度の測定を行いつつ、溶剤と水で希釈したレジストが目標の粘度と固形分濃度になるまでさらに溶剤を添加する工程、とを有することを特徴とする使用済みレジストの調整方法及びその装置である。 (もっと読む)


【課題】プロセス工程の数が従来のリフトオフ方法より少なく、基板との密着性が良好な薄膜パターンの形成が可能な微細加工方法を提供すること。基板との密着性に優れたパターニングされた被加工薄膜を有する微細加工構造を提供すること。移動度が優れた有機トランジスタの作成が可能な微細加工方法及び電子デバイスを提供すること。
【解決手段】基体1上にレジスト膜2を形成する工程、レジスト膜2をパターン露光する工程、現像を行うことなくレジスト膜2上に被加工薄膜4を形成する工程、レジスト膜2の非露光部2bとその上の被加工薄膜4とをリフトオフする工程、を順次行うことを特徴とする。パターン化された被加工薄膜4aと基板1との間に、露光されたレジストパターン2aが介在していることを特徴とする。 (もっと読む)


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