【課題】ＥＵＶリソグラフィーにおいて、リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたＥＵＶ用レジスト組成物、該ＥＵＶ用レジスト組成物の製造方法、および該ＥＵＶ用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】２４８ｎｍのＫｒＦ光での感度Ｅ０_ＫｒＦが、ＥＵＶ光での感度Ｅ０_ＥＵＶより大きいことを特徴とするＥＵＶ用レジスト組成物。２４８ｎｍのＫｒＦ光での感度Ｅ０_ＫｒＦが、ＥＵＶ光での感度Ｅ０_ＥＵＶより大きくなるように前記レジスト組成物を調製する工程を有することを特徴とするＥＵＶ用レジスト組成物の製造方法。支持体上に、前記ＥＵＶ用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜をＥＵＶ露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸４１を有し、回転軸４１の回転によって基板を回転させるスピンナー４０と、基板に相対する位置であってスピンナー４０の回転軸４１からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル２４及びノズル２５と、を備え、スピンナー４０の回転軸４１の方向に見て、ノズル２４の噴射口２４Ａがスピンナー４０の回転軸４１が回転する向きと向き合っており、ノズル２５の噴射口２５Ａが第一ノズル２４の噴射口２４Ａの向きとは逆向きである。 （もっと読む）

【課題】サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にＤＬＣパターンを形成してなるようにした。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に小型マスク連続露光方式により露光して第１層を形成することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】形成工程１０は表面に第１層が形成されていないガラス基板にアライメントマークをレーザマーキングにより形成する。塗布工程２０はアライメントマークが形成されたガラス基板の表面に感光性を有するレジストを塗布する。露光工程３０はレジストを塗布されたガラス基板を搬送しつつガラス基板の裏面側からアライメントマークを読み取ることにより、露光ヘッド３３、３４の位置を調整しながらガラス基板の表面を小型マスク連続露光方式により露光する。現像工程４０は露光されたガラス基板の表面を現像して第１層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ヒートモードレジスト層を有する被加工物に対して、深さ方向の加工性が良好であり、アスペクト比が高く、高精細な微細穴乃至溝を効率よく形成可能な被加工物の加工方法の提供。
【解決手段】基材上にヒートモードレジスト層を形成するヒートモードレジスト層形成工程と、前記ヒートモードレジ スト層に対してレーザ光を複数回照射して微細穴乃至溝の形状を形成する微細穴乃至溝形成工程とを含む被加工物の加工方法である。該レーザ光の照射回数が、２回以上１，０００回以下である態様、レーザの線速が、１００ｍ／ｓ以下である態様などが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーのための信頼性があり、かつ便利なフォトレジストおよび画像化法を提供する。液浸リソグラフィー処理ならびに非液浸画像化用をはじめとするフォトレジスト上に適用されるオーバーコーティング層組成物を提供する。
【解決手段】基体上のフォトレジスト組成物層、該フォトレジスト層上の、１以上の親水性基を含むコポリマー樹脂を含む有機組成物を含む、コーティングされた基体。 （もっと読む）

【課題】特には３層レジストプロセス用下層膜として反射率を低減でき（反射防止膜としての最適なｎ、ｋ値を有し）、埋め込み特性に優れ、パターン曲がり耐性が高く、特には６０ｎｍよりも細い高アスペクトラインにおけるエッチング後のラインの倒れやよれの発生がない下層膜を形成できるレジスト下層膜材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１−１）及び／又は（１−２）で示される１種類以上の化合物、並びに下記一般式（２）で示される１種以上の化合物及び／又はその等価体を縮合することにより得られるポリマーを含有することを特徴とするレジスト下層膜材料。


ＯＨＣ−Ｘ−ＣＨＯ（２） （もっと読む）

【課題】好適に集積装置での既存シート（既に集積されている感光性印刷版シート）と投入シートとの間のスパークを防止し、感光面の品質不良（画像欠陥）を無くすことができる感光性印刷版の搬送装置及びコンベアを提供することを目的とする。
【解決手段】所定の搬送経路に沿って配置され、シート状の感光性印刷版４６を搬送する複数台のコンベア３４，４２と、感光性印刷版４６が積載される集積装置５０と、からなり、複数台のコンベア３４，４２の少なくとも１台は、複数条の搬送ベルト８０，８０と、複数条の搬送ベルト間において、径が搬送されるシートの裏面の位置と同等以上である突起部８６を有することで該突起部８６が搬送されるシートの裏面と接触するとともに、軸端が接地されたローラ８４と、で構成されている感光性印刷版の搬送装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】再生レジスト中の固形分濃度を加熱残分法によらずに迅速に精度よく決定する手段を提供し、その上で膜厚のバラツキが小さくなるようにレジスト粘度を調整する手段を提供することである
【解決手段】回収した使用済みレジストの粘度を、溶剤を添加して目標とする粘度よりは高く設定された所定の粘度まで下げる工程、希釈したレジストの固形分濃度を、予め求めてある屈折率と固形分濃度の関係を示す検量線に基づいて算出する工程、固形分濃度が所定の値になるまで希釈したレジストに水を添加する工程、屈折率の測定と粘度の測定を行いつつ、溶剤と水で希釈したレジストが目標の粘度と固形分濃度になるまでさらに溶剤を添加する工程、とを有することを特徴とする使用済みレジストの調整方法及びその装置である。 （もっと読む）

【課題】プロセス工程の数が従来のリフトオフ方法より少なく、基板との密着性が良好な薄膜パターンの形成が可能な微細加工方法を提供すること。基板との密着性に優れたパターニングされた被加工薄膜を有する微細加工構造を提供すること。移動度が優れた有機トランジスタの作成が可能な微細加工方法及び電子デバイスを提供すること。
【解決手段】基体１上にレジスト膜２を形成する工程、レジスト膜２をパターン露光する工程、現像を行うことなくレジスト膜２上に被加工薄膜４を形成する工程、レジスト膜２の非露光部２ｂとその上の被加工薄膜４とをリフトオフする工程、を順次行うことを特徴とする。パターン化された被加工薄膜４ａと基板１との間に、露光されたレジストパターン２ａが介在していることを特徴とする。 （もっと読む）