【構成】 グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体から成るか、又はこれに紫外線吸収剤を含有させて成るリソグラフィー用下地材、及び（Ａ）基板上に前記下地材から成る第一層を形成する工程、（Ｂ）この第一層の上にポジ型レジストから成る第二層を設けたのち、露光、次いで現像処理してパターン化する工程、（Ｃ）該パターン化したレジスト層をケイ素含有蒸気によりシリル化する工程、及び（Ｄ）このシリル化処理されたレジストパターンをマスクとして酸素系ガスを用いたドライエッチング法により、該下地材から成る第１層をパターン化する工程を順次施し、パターンを形成する方法である。
【効果】 断面が矩形で高解像度及び高選択比のレジストパターンが簡素化されたプロセスにより容易に得られる。 （もっと読む）

【目的】耐黄変性に優れたフェノール系現像剤を提供することを目的とする。
【構成】画像を１種類以上の無色発色性材料と化学現像剤との反応により着色生成物の形態で被画像体の表面に選択的に形成する方法において、該現像剤がアルキル置換サリチル酸、アルキル置換フェノール、アルデヒドおよび金属源を反応させることにより得られるものである。
【効果】耐黄変性に優れた現像剤が得られる。 （もっと読む）

【構成】基板と感放射線性レジストとの間に、共役系重合体を主成分とする薄膜が介在することを特徴とする二層構造感放射線性レジストおよびその製造方法。
【効果】本発明によると、放射線の基板反射に起因して、感放射線性レジストの膜の厚み変動により、所望のレジストパターンから形状が変移することを抑止することができ、高い製造歩留まりを与えると共に、製造プロセスでのプロセス条件の許容幅を拡大することができる。 （もっと読む）

【目的】 二層法で寸法通りの構造物転移をまた解像限度を越える構造物の製造を可能とし、その際高い透過性、サブミクロン範囲においてもなお高い解像力及び高感度がもたらされる構造物を製造する。
【構成】 サブミクロン範囲で構造物を製造するに当たり、基板上に、第１又は第２アミンと反応する官能基及びＮブロックされたイミド基を有するポリマー成分と、露光時に酸を遊離する光開始剤と、適当な溶剤 とからなるフォトレジスト層を施し、フォトレジスト層を乾燥し、フォトレジスト層を画像に応じて露光し、露光したフォトレジスト層を熱処理し、こうして処理したフォトレジスト層を水性アルカリ又は有機現像剤で現像してフォトレジスト構造物とし、フォトレジスト構造物を、第１又は第２アミンを含む化学試薬で処理し、その際現像時に一定の暗損傷を２０〜１００ｎｍの範囲で起こさせる。 （もっと読む）