【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ−１）、下記一般式（Ａ−２−１）、及び下記一般式（Ａ−２−２）で表される反応性化合物及び／又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の１種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｒ^２）_ｍ２（ＯＲ^３）_{（３−ｍ２）}Ｓｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_{（３−ｍ４）}（Ａ−１）Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｒ^１３_ｍ１３Ｓｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｍ１１−ｍ１２−ｍ１３）}（Ａ−２−１）Ｕ（ＯＲ^２１）_ｍ２１（ＯＲ^２２）_ｍ２２（Ｏ）_{ｍ２３／２}（Ａ−２−２）（Ｂ）有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を安定して作製することができる平版印刷版原版の現像装置及び平版印刷版原版の現像方法を提供する。
【解決手段】支持体と該支持体上に支持されている露光された画像記録層とを有する平版印刷版原版を搬送させて現像を行う平版印刷版原版の現像装置であって、第１の槽を有し、搬送される平版印刷版原版を第１の槽に溜めた現像液に浸漬させて画像記録層を現像する第１の現像部と、第１の現像部に対して平版印刷版原版の搬送方向の下流側に配され、現像液を溜める第２の槽を有する第２の現像部と、第２の槽に新鮮な現像液を補充する補充部と、第２の槽に溜めた現像液を第２の槽から前記第１の槽に送液する送液装置と、を備え、送液装置は、第２の槽に溜められた現像液を第１の槽に送液する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理において、処理時間の短縮化を可能にして、処理能力を向上させることができる現像処理方法及び現像処理装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理方法において、基板を回転させながら（ステップＳ１）、現像液供給ノズルから基板の中心部に現像液を供給して液膜を形成する液膜形成工程（ステップＡ）と、現像液供給ノズルから基板への現像液の供給を停止すると共に、現像液の液膜を乾燥させない状態で基板を回転させながら、基板上のレジスト膜を現像する現像工程（ステップＢ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】長期間液交換を行わない場合でも、良好な耐印刷汚れ性が得られる感光性平版印刷版の処理方法を提供する。
【解決手段】支持体上に光重合性の感光層を有し、該光重合性の感光層よりも支持体から離れた側に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版の処理方法であって、該感光性平版印刷版を、ポリビニルアルコール分解菌を含有する処理液にて処理する事を特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【課題】シリコーンゴム層を有する印刷版原版を現像するにあたり、非画線部のシリコーン剥がれを抑制する現像装置を提供すること
【解決手段】シリコーンゴム層を有する印刷版原版を、搬送ロール対により搬送しながら、シリコーンゴム層をブラシロールにより擦り現像する印刷版原版の現像装置であって、前記ブラシロールの上流に位置し、かつ、シリコーンゴム層に接する搬送ロールのうち、少なくとも１本の表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が６０μｍ以上であることを特徴とする印刷版原版の現像装置。 （もっと読む）

【課題】リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後のウエハＷの表面に現像液を供給して現像を行う現像処理において、ウエハＷの表面全域に同時に有機溶剤を含有する現像液を吐出する現像ノズル３０と、ウエハＷの表面全域に現像停止及び乾燥用のＮ２ガスを吐出するガスノズル４０と、を具備する。現像ノズル３０からウエハＷの表面全域に現像液を吐出してウエハＷの表面全域に同時に有機溶剤を含有する現像液の液膜を形成した後、ガスノズル４０からウエハＷの表面全域にＮ２ガスを吐出して、現像の停止を行うと共に、現像液を除去してウエハＷの乾燥を行う。 （もっと読む）

【課題】耐刷性が高く、汚れ難く、現像性に優れるネガ型平版印刷版原版、並びにその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体及び画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体と画像記録層との間に、星型ポリマーを含有する層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】版面傷の発生を抑制する水なし平版印刷版の現像装置を提供する。
【解決手段】シリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版１を現像して水なし平版印刷版を製造する装置であって、水なし平版印刷版原版および水なし平版印刷版の搬送手段と、ブラシロール５により画線部のシリコーンゴム層を除去する現像手段とを備え、かつ、前記ブラシロールの毛先に接する位置に、前記ブラシロールの毛先をほぐす毛先分散手段１２を備えている水なし平版印刷版製造装置。 （もっと読む）

【課題】露光装置の生産効率を落とさない塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】塗布膜が形成された、露光前の基板を一旦仮置きする仮置き部と、基板の搬送経路における、基板が置かれるモジュールについてメンテナンスを行うために、当該上流側の基板の搬送を停止する時間の長さを設定するための停止時間設定部と、前記仮置き部に置かれた基板の枚数が前記停止時間の長さに応じた、前記処理ブロックによる基板の処理枚数に達したか否かを監視し、達した後に仮置き部の上流側の基板の搬送を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】ノズル支持アームをその長手方向軸を中心として回転させることができる場合でも、ノズルに接続される配管における配管抵抗を小さくすることができ、またこの配管の占めるスペースを小さくすることにより省スペース化を図ることができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０において、ノズル支持アーム８２は、当該ノズル支持アーム８２の移動方向に沿った長手方向軸を中心として回転可能となっており、ノズル支持アーム８２は、ノズル８２ａに流体を送るための配管８３ｐ〜８３ｕを有し、配管８３ｐ〜８３ｕは可撓性材料から形成されている。配管８３ｐ〜８３ｕは、ノズル支持アーム８２が退避位置にあるときにノズル支持アーム８２の後端部で当該ノズル支持アーム８２の延びる方向に直交する平面上で渦巻き形状となるよう構成されている。 （もっと読む）