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国際特許分類[G03F7/30]の内容

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【課題】異常判定の精度を向上することができる処理装置の異常判定システム及びその異常判定方法を提供すること。
【解決手段】被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データ41を収集するデータ収集部22と、データ収集部が収集した時系列データから、有用な時系列データであるモデルデータ43のみを選択するデータ選択部23と、データ選択部が選択したモデルデータから、時間と共に変動する上下変動閾値データ45を算出する閾値設定部25と、データ収集部が収集した監視対象の時系列データを、上下変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定部26と、を具備する。データ選択部のモデルデータの選択は、例えば処理装置によって被処理体を処理した後に、処理装置による被処理体の処理を評価する検査装置37の評価結果に基づいて行う。 (もっと読む)


【課題】プラスチックフィルム支持体上に親水性層を設けた感光性平版印刷版の現像ムラを改善し、特に該親水性層上にケミカルレス処理が可能な感光層を設けた場合においても、現像ムラが改善され、且つ優れた耐刷性が得られる感光性平版印刷版の現像処理方法を提供する。
【解決手段】感光性平版印刷版の搬送速度P(mm/秒)とスクラブローラの回転速度S(rpm)の関係、S/Pの値を20〜40とする感光性平版印刷版の現像処理方法。 (もっと読む)


【課題】基体に供給した液体の蒸発によって当該基体の熱が奪われ、これにより基体の温度が雰囲気露点温度より低温状態となり得る場合であっても、当該基体に結露が生じるのを防止して、パターン倒れ等の不具合発生を未然に回避できるようにする。
【解決手段】処理対象となる基体2を保持する保持部12と、前記保持部12が保持する前記基体2に対して液体31の供給を行う液体供給部30と、前記液体31の蒸発によって熱が奪われる前記基体2を雰囲気露点温度より高温状態にすべく当該基体2の熱損失を補填するための熱損失補填媒体41を当該基体2に対して供給する媒体供給部40と、を備えて流体供給装置1を構成する。 (もっと読む)


【課題】装置の組み立て、メンテナンスが容易である液処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wに対して液処理を行うための複数の液処理ユニット2が互いに横方向に並べて配置され、液処理ユニット2内の雰囲気を排気する排気管3は、これら複数の液処理ユニット2の下方側に、当該液処理ユニット2の並びに沿って伸びるように配置され、給液用の通流制御機器群4は前記排気管3の下方側に設けられている。給液用主配管5及び排液用主配管6は、これら通流制御機器群4の下方側にて複数の液処理ユニット2の並びに沿って各々伸びるように設けられ、前記給液用主配管5からは、複数の給液用分岐管が分岐して、前記給液用の通流制御機器402を介して各液処理ユニット2に接続され、前記排液用主配管6からは複数の排液用分岐管が分岐して各液処理ユニットに接続されている。 (もっと読む)


【課題】新液の使用量を抑えることができ、且つ、現像液の劣化によるフィルターの目詰まりを起こしずらい大型のカラーフィルタ形成用基板の現像処理装置を提供する。
【解決手段】ワーク80を、処理面を上にして、搬送方向に直行する方向において水平から傾けた状態で搬送する搬送手段を有し、現像処理槽10内の搬送方向の各位置においてワークが浴びた現像液41aを、ワーク処理面の傾斜に沿い流してワークから垂れ流すもので、現像処理槽10内、底部と搬送されるワークとの間の位置に、搬送方向の所定の位置範囲においてワークから垂れ流された現像処理後の現像液41aを受けて回収し、回収した現像処理後の現像液41bを廃液ラインへと流す、廃液回収手段61を配している。 (もっと読む)


【課題】現像液を供給するときの基板搬送速度と、現像液を除去するときの基板搬送速度とを制御し、レジストパターンを均一化するレジスト現像装置を提供する。
【解決手段】現像ユニット30は、露光されたレジスト膜を有する基板Sを搬送する第1搬送機構、第1搬送機構で搬送される基板Sの表面に現像液を供給する供給ノズル50を有する現像液供給部30B、現像液で表面が覆われた基板Sを搬送する第2搬送機構を有する現像部30C、気体を吐出して基板Sの表面を覆う現像液を吹き切るブローノズル51、およびそれに向けて基板Sを搬送する第3搬送機構を有するブロー部30D、現像液が吹き切られた基板Sの表面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル53を有するリンス部30E、第1搬送機構に搬送される基板Sの搬送速度、第3搬送機構に搬送される基板Sの搬送速度とが異なるように第1および第3の搬送機構を制御する制御部60とを備える。 (もっと読む)


【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Sが通過する第1の搬入口62Iおよび第1の搬出口62Oを有する筐体と、前記第1の搬入口62Iから前記第1の搬出口62Oへ向かう方向に前記基板Sを搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Sを加熱するヒータ72と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第1の搬入口62Iおよび前記第1の搬出口62Oから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第1の搬入口62Iおよび前記第1の搬出口62Oの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 (もっと読む)


【課題】フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。
【解決手段】開示される現像装置は、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板の面内で均一性高くパターンを形成することができる現像装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像するための現像液供給部と、基板上において予め設定されている特定の領域に、現像液を加熱して現像液とレジストとの反応の度合を高めるために、基板の材料の波長吸収領域を含む輻射光を照射する輻射光照射部と、基板の表面に洗浄液を供給して現像液を除去する洗浄液供給部と、を備えるように現像装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】被処理基板に供給される現像液の温度変動に起因した現像ムラ等が生じていた。
【解決手段】被処理基板6に現像液11を供給して現像処理するレジスト現像装置1の構成として、恒温状態に制御された現像液を貯留する貯留部4と、被処理基板6を保持する保持部8と、貯留部4に貯留された現像液を流すための流路を形成するとともに、この流路に沿って流れた現像液を吐出する吐出部14を有し、保持部8に保持された被処理基板6に向けて吐出部14から現像液を吐出することにより、現像液を被処理基板6に供給する供給管5と、供給管5の吐出部14から吐出する現像液が被処理基板6に到達しないように現像液を遮断する遮断部材26と、現像液を遮断する遮断位置と前記現像液を遮断しない非遮断位置との間で遮断部材26を移動させる移動手段(27)とを備える。 (もっと読む)


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