【課題】基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行う。
【解決手段】現像装置３０は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２１０と、ウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ体２２０とを備えた処理部１３０と、ウェハＷ上に第１の現像液を吐出する第１の現像液ノズル１５１と、ウェハＷ上に第２の現像液を吐出する第２の現像液ノズル１５２と、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を共に支持する共有アーム１５０とを有している。第１の現像液ノズル１６１から斜め下方に吐出される第１の現像液の吐出方向と第２の現像液ノズル１６２から斜め下方に吐出される第２の現像液の吐出方向は、平面視において、それぞれウェハＷの回転方向と同一方向である。 （もっと読む）

【課題】サイズが大型化した有機ＥＬ素子を凸版印刷法によって形成するための樹脂凸版を、フォトリソグラフィー法でパターニングする際に、スプレー式現像方法をもちいながら、パターン精度が高く、かつ現像ムラ等を無くした製版を行う方法とその方法で得られる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】版材の感光性樹脂を露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂を現像する現像工程とを供え、現像工程は版材全体を現像液に浸漬させる浸漬段階と、浸漬後の感光性樹脂の不要箇所をスプレー型の噴出口より噴射される現像液により除去し現像する現像段階と、現像後の感光性樹脂上の現像液の残渣をスプレー型の噴出口より噴射される洗浄液により除去する洗浄段階と、洗浄後の感光性樹脂表面に気体を吹き付け洗浄液を除去する洗浄液除去段階とを具備し、少なくとも現像段階と洗浄段階との版材搬送部が版材搬送方向と直行する水平面に対して傾斜した角度を有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト溶解領域が互いに大きく異なる現像領域が近接したとしても双方の現像領域の解像性を向上できる。
【解決手段】ウェハは、レジストパターンを形成する領域であって現像するときにレジストを溶解させる溶解領域が第１範囲の第１現像領域と、第１範囲よりも広い第２範囲のレジスト溶解領域を有する第２現像領域とを有し、第１現像領域および前記第２現像領域が第１方向に沿って配設されているとき、第１方向に交差する第２方向にノズルを移動する。 （もっと読む）

【課題】パターン寸法を安定させ、かつ欠陥発生を抑制させるレジスト現像方法およびレジスト現像装置を提供する。
【解決手段】現像時における現像液の水素イオン濃度および、洗浄工程時における洗浄液の水素イオン濃度を監視ユニット７で監視することにより、ノズル６で前記基板上に供給する現像液および洗浄液の液性を調整し、液性の調整を行なった現像液および洗浄液を前記基板上に供給することにより、パターン寸法の制御と欠陥発生の抑制を行なう （もっと読む）

【課題】スピン塗布法を用いて塗布液を基板に塗布する場合において、塗布液の塗布量を少量にしつつ、塗布液を基板面内に均一に塗布する。
【解決手段】塗布処理方法は、ウェハを加速回転させた状態で、そのウェハの中心部にノズルからレジスト液を吐出して、ウェハ上にレジスト液を塗布する塗布工程Ｓ３と、その後、ウェハの回転を減速し、ウェハ上のレジスト液を平坦化する平坦化工程Ｓ４と、その後、ウェハの回転を加速して、ウェハ上のレジスト液を乾燥させる乾燥工程Ｓ５と、を有する。塗布工程Ｓ３では、ウェハの回転の加速度を第１の加速度、前記第１の加速度よりも大きい第２の加速度、前記第２の加速度よりも小さい第３の加速度の順に変化させ、当該ウェハを常に加速回転させる。 （もっと読む）

【課題】現像液中に分散する感光性樹脂成分を効率的に除去可能な現像装置を提供する。
【解決手段】印刷原版１に現像液５を供給する供給装置３１と、印刷原版１の感光性樹脂組成物層から遊離した感光性樹脂組成物が分散している現像液５が通され、現像液５中に分散している感光性樹脂組成物を凝集させる分散物フィルタ１３と、分散物フィルタ１３を通過した現像液５から、凝集された感光性樹脂組成物を除去する凝集物フィルタ１５と、凝集物フィルタ１５を通過した現像液５を静置する静置槽７１と、を備える、現像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ロットの処理不良を防止することができるとともに、ロット間における処理を均一化することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液交換後から薬液処理部ＣＨＢ２に第２搬送機構ＷＴＲが到達した後、薬液処理部ＣＨＢ２にてロットの処理を開始した時間を計時部２７が計時し、その経過時間とオーバータイムカウントとを判断部２９が比較する。経過時間がオーバータイムカウントを超えたと判断部２９が判断すると、報知部３３がオーバータイムアラームを報知する。したがって、許容時間内にロットを薬液処理部ＣＨＢ２で処理開始できなかったことをオペレータは知ることができる。よって、ロットの処理不良を防止することができる。またオーバータイムアラームが発生しない場合には、薬液交換からロットの処理までを一定時間内に収めることができるので、ロット間における処理を均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】現像液塗布時の衝撃によるレジストパターンの崩壊を防止し、且つ現像ローディング効果を抑制することが可能な現像方法および現像装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク作製におけるレジスト現像工程において、フォトマスク基板１１の一辺以上の長さを有し、且つその長さ方向に複数の現像液噴出口１３がフォトマスク基板１１側に配列形成されている現像ノズル１２を用い、この現像ノズル１２をフォトマスク基板１１上で上記ノズル１２の長さ方向と直角な方向にスキャン（矢印Ａ方向）を行いながらフォトマスク基板１１を低速回転（矢印Ｂ方向）させ、前記現像液噴出口１３から現像液を噴出して現像を行なう。 （もっと読む）

【課題】高純度な処理液を基板に供給することができる処理液供給装置および処理液供給方法を提供する。
【解決手段】処理液供給装置３は、鉛直方向に沿って配置され、下端部の径が小さくなるように形成された円筒状の処理液容器８を備える。処理液容器８の内部には処理液が貯留され、下端部は処理液が吐出される処理液吐出口１２となっている。処理液容器８の上部には、配管１３が接続されており、配管１３を介して負圧源としての真空装置（図示せず）が接続され、配管１３には処理液容器８内に気体（たとえば大気）を導入するための気体導入配管１４が分岐接続されている。処理液容器８に貯留された処理液は、処理液容器８に気体を導入することによって重力落下により基板Ｗに吐出され、処理液容器８への気体の導入を停止することによって処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】現像廃液の排出量を削減することができ、廃液の処理過程で生じる水を容易に再利用できる平版印刷版現像廃液削減装置を提供する。
【解決手段】
平版印刷版現像廃液削減装置１は消泡剤を貯蔵する消泡剤タンク４０と、ポジ型の平版印刷版現像廃液を貯蔵する処理液タンク１０と、消泡剤タンク４０と処理液タンク１０と接続され、廃液を加熱・濃縮するための加熱コイル６０を備える第１容器２０と、第１容器２０からの蒸発した水蒸気を冷却・凝縮するための冷却コイル６４を備える第２容器２２と、ヒートポンプシステムを構成するよう加熱コイル６０と冷却コイル６４とに接続された圧縮機６１及びキャピラリー管６８と、第１容器２０と第２容器２２を減圧するための、水流タンク８０、アスピレーター８１及び水流ポンプ８２を備える減圧手段と、第２容器２２で冷却・凝縮された水を回収し、水流タンク８０と接続された洗浄水タンク９０と、を備える。 （もっと読む）