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国際特許分類[G03F7/38]の内容

国際特許分類[G03F7/38]に分類される特許

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【課題】工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板の片面に、金属錯体Aを含む膜αを形成する第1の膜形成工程と、反対側の面に、金属錯体Bを含む膜βを形成する第2の膜形成工程と、前記膜αを、波長領域λ1を含む光を用い露光する第1の露光工程と、前記膜βを、波長領域λ2の光を用い露光する第2の露光工程と、前記膜αを現像する第1の現像工程と、前記膜βを現像する第2の現像工程と、前記金属錯体A及び前記金属錯体Bを、それぞれ、金属酸化物に転化する転化工程と、を備え、前記金属錯体Bは、前記波長領域λ2の光を照射したとき、前記金属錯体Aに前記波長領域λ2の光を照射した場合よりも、前記現像液に対する溶解性が大きく変化することを特徴とする金属酸化物膜パターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】スキャンスピードが高速(例えば、700mm/s)であっても水残りを抑制でき、さらに液浸液と上層膜との界面におけるバブルの発生をも抑制することのできる液浸上層膜を形成できる上層膜形成用組成物の提供。
【解決手段】液浸上層膜形成用組成物は、下記一般式(1−1)で表される繰り返し単位および(1−2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種、炭化水素基を有する繰り返し単位およびフッ素置換炭化水素基を有する繰り返し単位を含有する重合体(A)と溶剤(S)とを含む。


(一般式(1−1)及び(1−2)中、Rは水素原子等を示す。R及びRは互いに独立に単結合又は炭化水素基を示し、Rはフッ素原子置換炭化水素基を示す。) (もっと読む)


【課題】 パターン形状及び露光ラチチュード(Exposure Latitude)の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位(S1)と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位(S2)とを備えた繰り返し単位(A)を含んだ樹脂(P)と、プロトンアクセプター性官能基を有し、且つ、活性光線又は放射線の照射により分解して、プロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物(PDA)とを含有している。 (もっと読む)


【課題】版面のインキ汚れを長期間防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法、それに適した処理液および感光性樹脂凸版印刷版用組成物の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法において、露光工程後に、版面パーフルオロアルキル基鎖を2つ以上有し、水に不溶な、ノニオン系のフッ素系界面活性剤(A)を付着させる工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも1種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を50℃以上150℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを50℃以上150℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して50質量%より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜をスタティックな現像方式で現像したときに発生する異物付着を解決し、スタティックな現像方式の利点を活かしつつ、異物の少ないフォトマスク製造方法を提供する。
【解決手段】基板1に形成したレジスト膜3に露光処理を施した後、レジスト膜3に静置状態で現像液を付与することで露光部分を現像液中に溶解させるレジスト膜の現像方法において、現像のための溶解中に、基板1、異物7を帯電させることにより、電気的な反発作用によって異物7を脱離、付着を防ぐ。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度(DOF)に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 (A)特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)2つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】より低温で耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、より耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物から得られたパターンを、50℃〜180℃の条件下で、10mJ/cm〜10000mJ/cm露光する硬化されたパターンの製造方法において、樹脂が、炭素数2〜4の環状エーテルを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化されたパターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)塩基性化合物、及び(D)水酸基が置換した特定の脂環炭化水素基を少なくとも2つ有する特定の化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、下記一般式(1)により表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が2.38質量%未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化1】
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