【課題】未露光部の除去性に優れたフレキソ印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】（工程ａ）フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層に画像様に露光を行う露光工程、（工程ｂ）露光したレリーフ形成層の外面に吸収材料を配置する工程、（工程ｃ）露光したフレキソ印刷版原版の未露光部が液化物を生じるのに十分な温度に加熱する加熱工程、及び、（工程ｄ）前記液化物の少なくとも一部を吸収材料に接着させて除去する除去工程を有し、前記工程ｄの前に、（工程ｅ）フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層の少なくとも未露光部にレリーフ形成層の外面方向から活性光線を照射する工程を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】解像性、密着性、熱衝撃性、電気絶縁性、パターニング性能、及び伸び等の諸特性に優れた層間絶縁膜、平坦化膜、表面保護膜、高密度実装基板用絶縁膜を形成しうる感光性絶縁樹脂組成物、及びその硬化物並びにその硬化物を備える回路基板を提供する。
【解決手段】本ポジ型感光性絶縁樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、キノンジアジド基を有する化合物と、ヒドロキシル基及び／又はカルボキシル基を有する単量体に由来する構成成分を２０〜９０ｍｏｌ％有する粒子状の共重合体である架橋樹脂粒子と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】微細なホールパターンを低コストで確実に形成することが可能な方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成方法は、インプリント法を用いて、第１の方向に延伸する溝パターンを有するインプリント材料層１２ａを基板上に形成する工程と、溝パターンをポジ型のレジスト材料で埋める工程と、第１の方向に直交する第２の方向に延伸する透光パターンを有するマスクを介してレジスト材料を露光する工程と、透光パターンを介して露光されたレジスト材料の部分を除去することでホールパターン１５を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト層が設けられた基板の一方面を上向きにした状態で基板を回転させながら、レジスト層表面に純水を供給するプリウエット工程を行った場合でも、基板の帯電を抑制することのできる基板の処理方法を提供すること。
【解決手段】プリウエット工程では、現像工程の前に、レジスト層１１０が設けられた一方面を上向きにした状態で基板１００を回転させながらレジスト層１１０表面と純水Ｗとを接触させる。かかるプリウエット工程では、レジスト層１１０表面への純水Ｗの供給を開始した後、基板１００を３００ｒｐｍから７００ｒｐｍの回転数で回転させる第１工程と、基板１００を１０００ｒｐｍから２０００ｒｐｍの回転数で回転させてレジスト層１１０表面の純水を振り切る第２工程とを行う。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示される重合性エステル化合物。


【効果】重合性エステル単量体は、波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を改善し、パターン倒れを抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスの提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される構造を有する繰り返し単位と、ラクトン構造、サルトン構造及びシアノ基からなる群より選択される少なくとも１種を含有する繰り返し単位とを有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】基板に複数のホールパターンを、極微細（例えば８０ｎｍ以下）ピッチで、良好かつ容易に形成できるパターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスの提供。
【解決手段】基板に複数のホールパターンを形成するパターン形成方法であって、下記工程（１）〜（６）をこの順に有するパターン形成工程を、複数回含む。（１）基板上に化学増幅型レジスト組成物のレジスト膜を形成する工程；（２）レジスト膜を露光して、第１のラインアンドスペースの潜像を形成する工程；（３）レジスト膜を露光して、第２のラインアンドスペースの潜像を、第１の露光潜像におけるライン方向と、交差するよう形成する工程；（４）第１及び第２の潜像が形成されたレジスト膜を、有機溶剤現像を行い、ホールパターン群を形成する工程；（５）基板にエッチング処理を行い、ホールパターン群を形成する工程；（６）レジスト膜を除去する工程。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本レジスト下層膜形成方法は、レジスト下層膜用組成物（例えば、フェノール性水酸基を有する化合物、溶剤及び促進剤を含有する組成物等）を被加工基板に塗布する塗布工程と、得られた塗膜を、酸素濃度が１容量％以上、且つ温度が３００℃以上の酸化性雰囲気下において成膜させる成膜工程と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物、又は、下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物、及び、（Ｇ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】現像残渣がなく、高い撥水性を有し、熱架橋度を上げることも可能な、インクジェット方式に対応可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メチル基、フェニル基又はヒドロキシフェニル基等を置換基として含有するフェノール誘導体を繰り返し単位とするフェノール樹脂、エポキシ基又は水酸基等の架橋性反応基含有モノマーを共重合したフルオロアルキル基含有アクリレートモノマーを重合したフッ素系ポリマー、感放射線性化合物及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物;それを用いた有機電解発光素子絶縁膜形成用ポジ型放射線リソグラフィー用樹脂組成物。 （もっと読む）