【課題】密着性に優れ、電気的信頼性の高いシリカ系被膜の硬化物が得られるシリカ系被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜の形成方法は、下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、オニウム塩と、を含有する感光性樹脂組成物を基板上に塗布して被膜を得る工程と、パターンマスクを介して被膜を露光する工程と、露光する工程の後に被膜を加熱する工程と、加熱する工程の後に被膜の未露光部を現像によって除去する工程と、除去する工程の後に残存する被膜に紫外線を照射して、パターンを有するシリカ系被膜を得る工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】パターン描画されたレジスト膜６を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、前記レジスト膜６の現像に先立ち、当該レジスト膜６に比べてエッチング耐性が高い保護膜７を当該レジスト膜６の上面に形成する保護膜形成工程と、前記保護膜７の形成後に当該保護膜７の上から現像剤を供給することにより、前記保護膜７を浸透して前記レジスト膜６まで到達した前記現像剤による当該レジスト膜６の現像を行い、当該レジスト膜６が残るパターン部分６ａ上面に前記保護膜７を有してなる前記レジストパターンを形成する現像工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のレジストパターンを高精度に形成することができるレジストパターンの形成方法、立体構造の製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンの形成方法は、支持部１０上に、多層レジスト２０を形成する工程と、多層レジスト２０に第１の波長の第１の光による露光を施す工程と、多層レジスト２０に第１の波長と異なる第２の波長の第２の光による露光を施す工程と、露光が施された多層レジスト２０に現像処理を施すことによって、レジストパターンを形成する工程とを有し、複数のレジスト層は、第１の光による露光によって第１の現像可溶領域２３が形成される第１のレジスト層２１と、第２の光による露光によって第２の現像可溶領域２４が形成される第２のレジスト層２２とを含み、レジストパターンを形成する工程は、多層レジスト２０から第１及び第２の現像可溶領域２１，２２を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】導体パターン３が形成された絶縁基板２上にソルダレジスト４ａを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム５を介しソルダレジスト４ａを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジスト４を形成する。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない現像剤によりネガ型画像形成性要素を画像形成して現像する方法を提供すること。
【解決手段】ネガ型画像形成性要素を画像形成し、次いで、毒性および腐食性が低く、使用後により容易に廃棄できる低ｐＨ有機系炭素現像液を使用して現像することができる。当該現像液は１２未満のｐＨを有し、ａ）窒素含有複素環を含む両性界面活性剤、ｂ）２又は３個以上の窒素原子を有する両性界面活性剤、またはｃ）ａ）の両性界面活性剤およびｂ）の両性界面活性剤を含む。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】ドライフィルムレジストの薄膜化処理方法において、ＤＦＲをムラ無く、均一に薄膜化することが可能で、除去液の再生が可能であり、これより、廃液量を大きく削減できる、環境に優しい処理方法を提供する。
【解決手段】ドライフィルムレジストが貼り付けられた基板の該ドライフィルムレジストを処理液で処理する工程、その後に、表面の不用なドライフィルムレジストを除去液を用いて除去する工程とからなるドライフィルムレジストの薄膜化処理方法において、除去液中に含まれるドライフィルムレジスト濃度が０．５質量％を超える前に、除去液中に溶解したドライフィルムレジストを、ｐＨを一旦低下させることにより凝集、沈殿させ、固液分離し、分離後のろ過水のｐＨを中性に戻して、再度、除去液として再利用することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 （もっと読む）

【課題】凸版印刷版構成体から凸版印刷版を製版する凸版印刷版の製造方法であって、簡便な手法で、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供すること。
【解決手段】（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層３にネガ型マスク５を形成する工程、（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層６を形成する工程、（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）