説明

国際特許分類[G03F7/38]の内容

国際特許分類[G03F7/38]に分類される特許

71 - 80 / 840


【課題】熱板の強度を低下させたり、装置コストを増大させることなく、基板間における塗布膜の特性の変動を防止しつつ、基板を処理する処理時間を短縮することができる、熱処理方法及び熱処理装置を提供する。
【解決手段】所定温度に設定された熱板上に、複数の基板よりなる基板群の各基板を順次載置して熱処理する熱処理方法において、熱板の設定温度を第1の温度T1よりも低い第2の温度T2に変更し、熱板の温度が第2の温度T2に到達する前に、熱板による基板群の最初の基板の熱処理を開始し、熱板により最初の基板を熱処理する第1の工程S16と、最初の基板の熱処理の後、熱板の設定温度を第2の温度T2よりも高い第3の温度T3に変更し、熱板の温度が第3の温度T3に到達した後、熱板の設定温度を第2の温度T2に変更する際に、熱板による基板群の次の基板の熱処理を開始し、熱板により次の基板を熱処理する第2の工程S17とを有する。 (もっと読む)


【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。前記処理液は、標準沸点が175℃以上である有機溶剤を含有し、前記処理液に占める前記溶剤の含有率は30質量%未満である。 (もっと読む)


【課題】ドライ露光の場合と比較して液浸露光による感度の劣化が抑制され、且つ液浸液追随性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】下記(A)〜(C)を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(A)活性光線又は放射線の照射により一般式(I)で表されるスルホン酸を発生する少なくとも1種の化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂。(式中の符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意義を有する。)
【化1】
(もっと読む)


【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂(B)であって、下記一般式(I)により表される繰り返し単位を含んだ樹脂(B)と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化1】
(もっと読む)


【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位(S1)と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位(S2)とを備えた繰り返し単位(A)を含み、繰り返し単位(A)の含有率が樹脂中の全繰り返し単位に対し、30mol%以上である樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】LWR等のラフネス特性、孤立スペースパターン(トレンチパターン)のDOF、及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位及び下記一般式(II)で表される非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。
【解決手段】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、工程(a);基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、工程(b1);無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、工程(b2);無機アルカリ性化合物とアセチレン基を中央に持ち、左右対称の構造をした非イオン性界面活性剤とを含み、pH5〜10である水溶液で処理する工程を含むことを特徴とする光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】ネガフィルムと感光性樹脂構成体との密着不良を抑制し、所望の印刷パターンを有する印刷版を製造する。
【解決手段】排気手段11を具備する露光機10に、支持体2上に感光性樹脂組成物層3を有する感光性樹脂構成体1を載置し、その後、前記感光性樹脂組成物層3形成側の面の周端部と前記排気手段11とを、フィルム(X)を配置して接続する工程と、
前記フィルム(X)上にネガフィルム12を配置する工程と、
前記排気手段11から排気を行う工程と、
前記感光性樹脂組成物層3に、前記ネガフィルム12を介して活性光線を照射し、露光部と未露光部を形成する工程と、
前記未露光部を除去する工程と、
を、有する印刷版の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が5〜20質量%のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト塗布時に基板の貫通孔に入り込んだレジストを容易に除去する。
【解決手段】貫通孔3を有する基板4の表面にレジストを塗布する方法であって、レジスト吸収部材1により貫通孔3を塞いだ状態で、基板4の表面にレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。 (もっと読む)


71 - 80 / 840