【課題】 ＳＯＧの下地基板上に化学増幅レジストパターンを形成する場合に、レジストパターンの裾広がりを防止し、パターニング精度の向上を図った化学増幅レジストパターンの形成方法および装置を提供する。
【解決手段】 基板上にＳＯＧ酸化膜を形成し、このＳＯＧ酸化膜を化学増幅レジストを用いてパターニングする化学増幅レジストパターンの形成方法において、基板上にＳＯＧを塗布した後、その酸化前にＳＯＧの緻密化処理を行う。 （もっと読む）

【目的】 前処理液中における非感光性水溶性樹脂層成分の凝析を抑制し、前処理を長期にわたり安定に行うことができる処理方法を提供することである。
【構成】 感光層上に非感光性水溶性樹脂層を有する光重合性感光性平版印刷版を露光後、現像に先だって有機溶剤の水溶液で前処理を行う。 （もっと読む）

【目的】 従来の放射線感受性組成物を更に改良し、特にスペクトルの紫外領域の感受性を高めた、平板印刷版に使用する放射線感受性組成物を提供する。
【構成】 紫外線および赤外線の両方に感受性を有し、ポジ型もしくはネガ型のいずれにも機能することができる平板印刷版を調製するのに適した（１）レゾール樹脂、（２）ノボラック樹脂、（３）ハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、および（４）赤外線吸収剤を含んでなる放射線感受性組成物。 （もっと読む）

【構成】本発明は、シロキサンポリマーと塩基発生剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。
【効果】本発明の感光性樹脂組成物は、パターン精度および加工性に優れている。 （もっと読む）

【構成】 iso-プロペニルオキシカルボニル基と、該iso-プロペニルオキシカルボニル基と反応しうる官能基とを有する化合物と、光照射または電離放射線照射により酸を発生する化合物とからなるパターン形成材料を被処理基板上に塗布した後に乾燥し、次いで、iso-プロペニルオキシカルボニル基と、該iso-プロペニルオキシカルボニル基と反応しうる官能基とが反応しうる温度に加熱して架橋型レジスト膜を作り、該レジスト膜に光または電離放射線をパターン状に照射した後に、アルカリ性水溶液で現像することを特徴としている。
【効果】 本発明によれば、高コントラスト・高感度でポジ型レジストを形成することが可能になる。 （もっと読む）

【構成】 グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体から成るか、又はこれに紫外線吸収剤を含有させて成るリソグラフィー用下地材、及び（Ａ）基板上に前記下地材から成る第一層を形成する工程、（Ｂ）この第一層の上にポジ型レジストから成る第二層を設けたのち、露光、次いで現像処理してパターン化する工程、（Ｃ）該パターン化したレジスト層をケイ素含有蒸気によりシリル化する工程、及び（Ｄ）このシリル化処理されたレジストパターンをマスクとして酸素系ガスを用いたドライエッチング法により、該下地材から成る第１層をパターン化する工程を順次施し、パターンを形成する方法である。
【効果】 断面が矩形で高解像度及び高選択比のレジストパターンが簡素化されたプロセスにより容易に得られる。 （もっと読む）