【課題】レジストパターン上に水溶性樹脂組成物を用いて被覆層を形成し、ミキシングによりレジストパターンに隣接する該被覆層を変性させることによって、レジストパターン表面に水洗で除去出来ない変性層を形成し、これによりレジストパターンを太らせ、レジストパターンの分離サイズまたはホール開口サイズを実効的に露光波長の限界解像以下に微細化することのできる微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物において、架橋剤を用いなくてもパターン縮小量が大きく、かつ不溶物による現像欠陥やマイクロブリッジなどの発生が低減された微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明の微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物は、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも２個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、（Ａ）特定のスチレン及びその誘導体から得られる２価の基１０〜６５質量部と、特定の（メタ）アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる２価の基５〜５５質量部と、（メタ）アクリル酸から得られる２価の基１５〜５０質量部とを有する１００質量部のバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】互いに隣接するレジスト部をリフロー処理により一体化して別のパターンのレジスト層を形成する際に、所望の形状のパターンを形成することができるリフロー方法およびパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】被エッチング層の上に、第１のパターンのレジスト層を形成し、第１のパターンのレジスト層をマスクとして被エッチング層に第１のエッチングを施し、第１のパターンの中の互いに隣接するレジスト部の間にレジスト液を滴下して補助パターンのレジスト層を形成し、その後、第１のパターンのレジスト層と補助パターンのレジスト層を軟化させて流動させることにより隣接するレジスト部と補助パターンのレジスト部を一体化して第２のパターンのレジスト層を形成し、第２のパターンのレジスト層をマスクとして被エッチング層に第２のエッチングを施す。 （もっと読む）

【課題】第一のレジスト膜上に第一のレジストパターンを形成した後、第一のレジストパターンの上に第二のレジスト膜を形成し第二のレジストパターンを形成するために、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行って第二のレジスト液に溶解しないように性状を変化させるフリージングプロセスにおいて、第一のレジストパターンが第二のレジスト液に溶解せず、第一のレジストパターンの寸法が変化しない、更には、第一のレジストパターンと第二のレジストパターンのドライエッチング耐性が同じであるという要件を満たすように、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行う為のフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ヘテロ原子を骨格に有する環状構造を有する特定の化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】第一のレジスト膜上に第一のレジストパターンを形成した後、第一のレジストパターンの上に第二のレジスト膜を形成し第二のレジストパターンを形成するために、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行って第二のレジスト液に溶解しないように性状を変化させるフリージングプロセスにおいて、第一のレジストパターンが第二のレジスト液に溶解せず、第一のレジストパターンの寸法が変化しない、更には、第一のレジストパターンと第二のレジストパターンのドライエッチング耐性が同じであるという要件を満たすように、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行う為のフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アミノ基および芳香族環を有する特定の化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】加熱硬化後の残膜率に優れるネガ型感光性樹脂組成物の成分であるポリアミドイミド及びこれを用いたネガ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記化学式（１）で表される構造を有するポリアミドイミド。
【化１】
（もっと読む）

【課題】本発明の一実施形態において、ハロゲンフリーのプラズマエッチングプロセスを用いて、アモルファスカーボン層を含む多層マスキングスタックにフィーチャーを画定する。
【解決手段】特定の実施形態において、酸素（Ｏ_２）、窒素（Ｎ_２）及び一酸化炭素（ＣＯ）を利用して、アモルファスカーボン層をエッチングし、ラインエッジ粗さ値の減じた基板フィルムにサブ１００ｎｍのフィーチャーを製造できるマスクを形成する。他の実施形態において、本発明は、ハロゲンフリーのアモルファスカーボンエッチングの前に、Ｏ_２プラズマ前処理を用いて、パターン化フォトレジスト層に酸化ケイ素領域を形成して、未酸化ケイ素を含有するパターン化フォトレジスト層に対するアモルファスカーボンエッチングの選択性を増大する。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、現像性、耐熱性に優れた液晶表示素子および固体撮像素子用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供する。
【解決手段】〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、および（ａ３）他の不飽和化合物からなる共重合体、〔Ｂ〕分子量が１８０以上のカルボキシル基を有する単官能重合性不飽和化合物、〔Ｃ〕多官能重合性不飽和化合物、ならびに〔Ｄ〕光重合開始剤、を含む感放射線性保護膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】グラフトポリマーを高感度で生成しうる積層体、及び該積層体を用い、高感度でグラフト膜又はグラフトパターンを形成する方法を提供することにある。
【解決手段】基材と、ラジカル重合開始部位と該基材に直接化学結合可能な部位とを有する化合物が前記基材に化学結合してなる重合開始層と、ラジカル重合可能な不飽和部位を有する化合物、及び、加熱又は露光によりラジカルを発生しうる化合物を含有するグラフトポリマー前駆体層と、をこの順に有することを特徴とする積層体、該積層体に対し、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長の全面露光又は像様露光を行い、前記ラジカル重合可能な不飽和部位有するポリマーを前記重合開始層表面に直接結合してグラフトポリマーを生成させることを特徴とするグラフト膜形成方法、グラフトパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 現像した後の硬化レジストパターンの解像度が高度に優れ、サイドウォールのがたつきが少なく、これに由来するエッチング工程又はめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥の少ないプリント配線板等の金属配線パターンの製造過程における露光方法を提供すること。
【解決手段】片面又は両面に金属導体層を有する金属被覆絶縁板の金属被覆された面に、支持体（Ａ）、厚みが１〜３５μｍであるネガ型感光性樹脂層（Ｂ）、及び保護層（Ｃ）を有する感光性樹脂積層体を、ネガ型感光性樹脂層（Ｂ）が該金属被覆絶縁板の金属被覆面と密着するようにラミネートして、フォトマスクを通して紫外線露光するに際し、露光の前に支持体を剥離した上で、フォトマスクの像をレンズを通して投影させることを特徴とする感光性樹脂層への露光方法。 （もっと読む）